透过色中性的水晶灰三银LOW-E玻璃及其制备方法与流程

本发明涉及玻璃生产
技术领域：
，具体涉及一种透过色中性的水晶灰三银low-e玻璃及其制备方法。
背景技术：
：随着国家节能减排政策的执行力度加大以及人们对低碳环保意识的加强，以low-e玻璃为代表的节能玻璃在门窗、玻璃幕墙中的应用越来越广泛。low-e玻璃家族中，节能性能优异的三银low-e玻璃得到大量应用。但是，在传统的三银low-e玻璃加工中，产品的透过a*值一般在-4左右，透过色不够中性，表现为透过镀膜玻璃观察物体时，物体会显发绿，影响了玻璃原有的光线通过效果。技术实现要素：本发明提供一种透过色中性的水晶灰三银low-e玻璃，其可有效解决玻璃产品透过色偏绿的问题，从而提升low-e玻璃的光线通过效果且室外反射色呈水晶灰颜色。为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种透过色中性的水晶灰三银low-e玻璃，包括玻璃基体以及镀设在所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的第一介质层、第一红外反射层、第一保护层、第二介质层、第二红外反射层、透过色改善层、金属保护层、第三介质层、第三红外反射层、第二保护层和介质保护层，所述第一红外反射层、所述第二红外反射层和所述第三红外反射层为ag层，所述透过色改善层为cu层，所述透过色改善层的厚度为4-8nm。进一步的，所述第一红外反射层的厚度为5-9nm；所述第二红外反射层的厚度为6-9nm；所述第三红外反射层的厚度为12-16nm。进一步的，所述第一介质层由自所述玻璃基体的一侧朝向外侧依次沉积的sinx层和znox层组成，所述第一介质层的厚度为28-36nm。进一步的，所述第二介质层为znsnox层、znox层或以上两者的复合层，所述第二介质层的厚度为40-49nm。进一步的，所述第三介质层由自所述玻璃基体的一侧朝向外侧依次沉积的azo层、znsnox层和znox层组成，所述第三介质层的厚度为73-81nm。进一步的，所述第一保护层和所述第二保护层均为azo层；所述金属保护层为nicr层。进一步的，所述第一保护层的厚度为8-12nm；所述金属保护层的厚度为0.8-2.3nm；所述第二保护层的厚度为8-12nm。进一步的，所述介质保护层为sinx层或sinxoy层，所述介质保护层的厚度为28-35nm。本发明还提供一种上述透过色中性的水晶灰三银low-e玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：采用磁控溅射镀膜方法，在玻璃基体上依次镀设28-36nm的第一介质层、5-9nm的第一红外反射层、8-12nm的第一保护层、40-49nm的第二介质层、6-9nm的第二红外反射层、4-8nm的透过色改善层、0.8-2.3nm的金属保护层、73-81nm的第三介质层、12-16nm的第三红外反射层、8-12nm的第二保护层以及28-35nm的介质保护层；其中，所述第一红外反射层、所述第二红外反射层和所述第三红外反射层为ag层，所述透过色改善层为cu层。进一步的，所述第一介质层由自所述玻璃基体的一侧朝向外侧依次沉积的sinx层和znox层组成；所述第二介质层为znsnox层、znox层或由其复合层组成；所述第三介质层由自所述玻璃基体的一侧朝向外侧依次沉积的azo层、znsnox层和znox层组成；所述第一保护层和所述第二保护层均为azo层；所述金属保护层为nicr层；所述介质保护层为sinx层或sinxoy层。采用以上技术方案后，本发明与现有技术相比具有如下优点：本发明通过设计合理的膜层结构以及调节各膜层的厚度比例，使得本发明的玻璃产品透过色中性且外观呈现水晶灰颜色，为建筑物的整体设计增加了更美的艺术效果，符合高档建筑的审美要求；本发明通过设置透过色改善层(cu层)用以改善透过色，因铜对可见光具有较强的选择性吸收，可使玻璃产品的透过色成中性色调；本发明通过合理的膜层厚度搭配使玻璃产品外观呈水晶灰颜色，增加了三银产品颜色的多样性，可以有效解决传统的三银low-e玻璃透过色偏绿的问题。附图说明附图1为本发明的透过色中性的水晶灰三银low-e玻璃的结构示意图。其中，100、玻璃基体；200、复合膜层；201、第一介质层；202、第一红外反射层；203、第一保护层；204、第二介质层；205、第二红外反射层；206、透过色改善层；207、金属保护层；208、第三介质层；209、第三红外反射层；210、第二保护层；211、介质保护层。具体实施方式下面结合附图及实施例对本发明作进一步说明。如图1所示，一种透过色中性的水晶灰三银low-e玻璃，包括玻璃基体100以及镀设在玻璃基体100一侧表面的复合膜层200，复合膜层200包括自玻璃基体100朝外依次沉积的第一介质层201、第一红外反射层202、第一保护层203、第二介质层204、第二红外反射层205、透过色改善层206、金属保护层207、第三介质层208、第三红外反射层209、第二保护层210和介质保护层211。具体的：第一红外反射层202、第二红外反射层205和第三红外反射层209为ag层，第一红外反射层202的厚度为5-9nm；第二红外反射层205的厚度为6-9nm；第三红外反射层209的厚度为12-16nm。透过色改善层206为cu层，透过色改善层206的厚度为4-8nm。铜对可见光具有较强的选择性吸收，可使玻璃产品的透过色成中性色调。第一介质层201由自玻璃基体100的一侧朝向外侧依次沉积的sinx层和znox层组成，第一介质层201的厚度为28-36nm。第二介质层204为znsnox层、znox层或以上两者的复合层，第二介质层204的厚度为40-49nm。第三介质层208由自玻璃基体100的一侧朝向外侧依次沉积的azo层、znsnox层和znox层组成，第三介质层208的厚度为73-81nm。第一保护层203和第二保护层210均为azo层；金属保护层207为nicr层。第一保护层203的厚度为8-12nm；金属保护层207的厚度为0.8-2.3nm；第二保护层210的厚度为8-12nm。介质保护层211为sinx层或sinxoy层，介质保护层211的厚度为28-35nm。一种制备上述透过色中性的水晶灰三银low-e玻璃的制备方法，包括如下步骤：采用磁控溅射镀膜方法，在玻璃基体100上依次镀设28-36nm的第一介质层201、5-9nm的第一红外反射层202、8-12nm的第一保护层203、40-49nm的第二介质层204、6-9nm的第二红外反射层205、4-8nm的透过色改善层206、0.8-2.3nm的金属保护层207、73-81nm的第三介质层208、12-16nm的第三红外反射层209、8-12nm的第二保护层210以及28-35nm的介质保护层211。具体的：第一红外反射层202、第二红外反射层205和第三红外反射层209为ag层；透过色改善层206为cu层；第一介质层201由自玻璃基体100的一侧朝向外侧依次沉积的sinx层和znox层组成；第二介质层204为znsnox层、znox层或由其复合层组成；第三介质层208由自玻璃基体100的一侧朝向外侧依次沉积的azo层、znsnox层和znox层组成；第一保护层203和第二保护层210均为azo层；金属保护层207为nicr层；介质保护层211为sinx层或sinxoy层。以下结合具体实施例加以说明：实施例一：采用磁控溅射镀膜方法在玻璃基体100表面镀设复合膜层200，具体包括如下步骤：(1)采用磁控溅射镀膜方法，在玻璃基体100上镀设第一介质层201：在中频交流电源的控制下，硅靶在氩气和氮气混合气氛(ar:n2＝9:7)下溅射沉积，zn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下溅射沉积，沉积膜层厚度28.8nm的第一介质层201(由内向外依次为18.1nm厚的sinx层以及10.7nm厚的znox层)；(2)采用磁控溅射镀膜方法，在第一介质层201上镀设第一红外反射层202：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为7.01nm的ag层；(3)采用磁控溅射镀膜方法，在第一红外反射层202上镀设第一保护层203：在中频交流电源的控制下，azo靶在氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为10nm的azo层；(4)采用磁控溅射镀膜方法，在第一保护层203上镀设第二介质层204：在中频交流电源的控制下，zn、znsn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下溅射沉积，沉积膜层厚度为48.1nm的第二介质层204(31.4nm厚的znsnox层以及16.7nm厚的znox层)；(5)采用磁控溅射镀膜方法，在第二介质层204上镀设第二红外反射层205：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为6.53nm的ag层；(6)采用磁控溅射镀膜方法，在第二红外反射层205上镀设透过色改善层206：在直流电源的控制下，cu靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为6.59nm的cu层；(7)采用磁控溅射镀膜方法，在透过色改善层206上镀设金属保护层207：在直流电源的控制下，nicr靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为1.02nm的nicr层；(8)采用磁控溅射镀膜方法，在第二金属保护层上镀第三介质层208：在中频交流电源的控制下，azo靶在纯氩气氛下，znsn靶、zn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下依次溅射沉积，沉积膜层厚度为77.8nm的第三介质层208(由内向外依次为10nm厚的azo层、51.6nm厚的znsn层以及13.2nm厚的zn层)；(9)采用磁控溅射镀膜方法，在第三介质层208上镀第三红外反射层209：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为13.75nm的ag层；(10)采用磁控溅射镀膜方法，在第三红外反射层209上镀设第二保护层210：在中频交流电源的控制下，azo靶在氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为9.5nm的azo层；(11)采用磁控溅射镀膜方法，在第二保护层210上镀设介质保护层211，在中频交流电源的控制下，硅靶在氩气和氮气混合气氛(ar:n2＝9:7)下溅射沉积，沉积膜层厚度为34.1nm的sinx层。对上述得到的玻璃产品进行光学性能测试，得到的结果如表1所示：表1玻面颜色r％gl*ga*gb*g8.5835.16-0.18-3.14膜面颜色r％fl*fa*fb*f2.517.944.35-0.75透过色t％/a*tb*t55.66/-0.761.64侧面颜色r％cl*ca*cb*c14.945.49-0.33-4.93对上述得到的玻璃产品进行物理性能测试，得到单片玻璃产品的辐射率为0.02；按照gb9656-2003进行膜层擦拭，膜层在擦拭过程中不脱膜；对玻璃产品进行冲击实验、耐辐照实验以及抗氧化实验，实验结果均能满足要求。特别地，在本发明中，a*，b*为心理色度；+a*表示红色；-a*表示绿色；+b*表示黄色；-b*表示蓝色；t％为可见光透射百分比；a*t为透过光线的红绿程度；b*t为透过光线的黄蓝程度；r％表示光线反射百分比。实施例二：采用磁控溅射镀膜方法在玻璃基体100表面镀设复合膜层200，具体包括如下步骤：(1)采用磁控溅射镀膜方法，在玻璃基体100上镀设第一介质层201：在中频交流电源的控制下，硅靶在氩气和氮气混合气氛(ar:n2＝9:7)下溅射沉积，zn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下溅射沉积，沉积膜层厚度为35.1nm的第一介质层201(由内至外依次为24.4nm厚的sinx层和10.7nm厚的znox层)；(2)采用磁控溅射镀膜方法，在第一介质层201上镀设第一红外反射层202：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为6.87nm的ag层；(3)采用磁控溅射镀膜方法，在第一红外反射层202上镀设第一保护层203：在中频交流电源的控制下，azo靶在氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为10nm的azo层；(4)采用磁控溅射镀膜方法，在第一保护层203上镀设第二介质层204：在中频交流电源的控制下，zn、znsn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下溅射沉积，沉积膜层厚度为44.2nm的第二介质层204(由内至外依次为27.5nm厚的znsnox层以及16.7nm厚的znox层)；(5)采用磁控溅射镀膜方法，在第二介质层204上镀设第二红外反射层205：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为6.53nm的ag层；(6)采用磁控溅射镀膜方法，在第二红外反射层205上镀设透过色改善层206：在直流电源的控制下，cu靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为7.2nm的cu层；(7)采用磁控溅射镀膜方法，在第二红外反射层205上镀设金属保护层207：在直流电源的控制下，nicr靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为1.32nm的nicr层；(8)采用磁控溅射镀膜方法，在第二金属保护层上镀设第三介质层208：在中频交流电源的控制下，azo靶在纯氩气氛下，znsn靶、zn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下依次溅射沉积，沉积膜层厚度为75.2nm的第三介质层208(10nm厚的azo层、52nm厚的znsn层和13.2nm厚的zn层)；(9)采用磁控溅射镀膜方法，在第三介质层208上镀设第三红外反射层209：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为13.6nm的ag层；(10)采用磁控溅射镀膜方法，在第三红外反射层209上镀设第二保护层210：在中频交流电源的控制下，azo靶在氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为9.5nm的azo层；(11)采用磁控溅射镀膜方法，在第二保护层210上镀设介质保护层211，在中频交流电源的控制下，硅靶在氩气、氮气和氧气混合气氛(ar:n2＝9:7:1)下溅射沉积，沉积膜层厚度为29.5nm的sinxoy层。对上述得到的玻璃产品进行光学性能测试，得到的结果如表2所示：表2玻面颜色r％gl*ga*gb*g1342.77-0.72-6.28膜面颜色r％fl*fa*fb*f3.1120.47-5.38-9.11透过色t％/a*tb*t53.39/-1.82-1.19侧面颜色r％cl*ca*cb*c/50.25-2.38-4.5对上述得到的玻璃产品进行物理性能测试，得到单片玻璃产品的辐射率为0.02；按照gb9656-2003进行膜层擦拭，膜层在擦拭过程中不脱膜；对玻璃产品进行冲击实验、耐辐照实验以及抗氧化实验，实验结果均能满足要求。实施例三：采用磁控溅射镀膜方法在玻璃基体100表面镀设复合膜层200，具体包括如下步骤：(1)采用磁控溅射镀膜方法，在玻璃基体100上镀设第一介质层201：在中频交流电源的控制下，硅靶在氩气和氮气混合气氛(ar:n2＝9:7)下溅射沉积，zn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下溅射沉积，沉积膜层厚度为33.1nm的第一介质层201(由内至外依次为22.4nm厚的sinx层和10.7nm厚的znox层)；(2)采用磁控溅射镀膜方法，在第一介质层201上镀设第一红外反射层202：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为7.58nm的ag层；(3)采用磁控溅射镀膜方法，在第一红外反射层202上镀设第一保护层203：在中频交流电源的控制下，azo靶在氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为10nm的azo层；(4)采用磁控溅射镀膜方法，在第一保护层203上镀设第二介质层204：在中频交流电源的控制下，zn、znsn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下溅射沉积，沉积膜层厚度为40.3nm的第二介质层204(由内至外依次为23.6nm厚的znsnox层以及16.7nm厚的znox层)；(5)采用磁控溅射镀膜方法，在第二介质层204上镀设第二红外反射层205：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为8.76nm的ag层；(6)采用磁控溅射镀膜方法，在第二红外反射层205上镀设透过色改善层206：在直流电源的控制下，cu靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为4.92nm的cu层；(7)采用磁控溅射镀膜方法，在第二红外反射层205上镀设金属保护层207：在直流电源的控制下，nicr靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为1.11nm的nicr层；(8)采用磁控溅射镀膜方法，在第二金属保护层上镀设第三介质层208：在中频交流电源的控制下，azo靶在纯氩气氛下，znsn靶、zn靶在氩气和氧气混合气氛(ar:o2＝7:10)下依次溅射沉积，沉积膜层厚度为77.8nm的第三介质层208(由内至外依次为10nm厚的azo层、53.3nm厚的znsn层以及13.3nm厚的zn层)；(9)采用磁控溅射镀膜方法，在第三介质层208上镀设第三红外反射层209：在直流电源的控制下，ag靶在纯氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为14.93nm的ag层；(10)采用磁控溅射镀膜方法，在第三红外反射层209上镀设第二保护层210：在中频交流电源的控制下，azo靶在氩气气氛下溅射沉积，沉积膜层厚度为9.5nm的azo层；(11)采用磁控溅射镀膜方法，在第二保护层210上镀设介质保护层211在中频交流电源的控制下，硅靶在氩气和氮气混合气氛(ar:n2＝9:7)下溅射沉积，沉积膜层厚度为34.8nm的sinx层。对上述得到的玻璃产品进行光学性能测试，得到的结果如表3所示：表3玻面颜色r％gl*ga*gb*g10.0737.97-1.65-5.56膜面颜色r％fl*fa*fb*f3.5722.180.7-2.7透过色t％/a*tb*t56.3/-1.971.05侧面颜色r％cl*ca*cb*c16.0647.06-1.62-6.8对上述得到的玻璃产品进行物理性能测试，得到单片玻璃产品的辐射率为0.02；按照gb9656-2003进行膜层擦拭，膜层在擦拭过程中不脱膜；对玻璃产品进行冲击实验、耐辐照实验以及抗氧化实验，实验结果均能满足要求。本发明通过设计合理的膜层结构以及调节各膜层的厚度比例，使得本发明的玻璃产品透过色中性且外观呈现水晶灰颜色，为建筑物的整体设计增加了更美的艺术效果，符合高档建筑的审美要求，不仅增加了三银产品颜色的多样性，而且有效解决了传统三银low-e玻璃透过色偏绿的问题。上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。当前第1页12