显示器用罩玻璃、车载显示装置和显示器用罩玻璃的制造方法与流程

1.本发明涉及显示器用罩玻璃、车载显示装置和显示器用罩玻璃的制造方法。


背景技术：

2.近年来，常常对平板型pc(personal computer)、智能手机等移动设备或者液晶电视、触摸面板等显示装置(以下，有时将它们通称为显示装置等)使用用于提高显示器的显示面的保护和美观的保护板(以下，称为显示器用罩玻璃)。
3.另外，伴随着显示器的高精细化，对显示器用罩玻璃所要求的品质也越来越严格。专利文献1中记载了被称为波筋的条纹状的光学应变使可视性变差，以及为了改善该现象而将波筋最小距离调节到780mm以上。
4.此外，在汽车导航等车载显示装置中，为了进一步提高显示的可视性，还有时对显示器用罩玻璃赋予防眩性。已知有一些赋予防眩性的方法，但特别是经常使用对玻璃表面进行磨砂处理并形成凹凸结构的方法(以下，也称为ag加工)。
5.现有技术文献
6.专利文献
7.专利文献1：日本国特开2018－62449号公报


技术实现要素：

8.本发明人等新发现了对专利文献1中记载的玻璃板进行ag加工后，安装于显示器的表面时，有时看到条纹状的光学不均(显示不均)。该情况下，可视性变得不充分。
9.因此，本发明的目的在于提供一种可视性优异的显示器用罩玻璃。
10.本发明人等对上述课题进行了深入研究，结果发现如果使用以下玻璃，则即便进行ag加工后也能够减少条纹状的光学不均。即，本发明提供以下的[1]～[13]。
[0011]
[1]一种显示器用罩玻璃，是具有第1主面和第2主面的玻璃板，以下述氧化物基准的摩尔百分率表示，含有50～75％的sio2、5～20％的al2o3、2～20％的na2o、0～6％的k2o、0～15％的mgo、以(cao+sro+bao)合计量计为0～10％的cao、sro和bao、以(zro2+tio2)合计量计为0～5％的zro2和tio2、0～10％的b2o3、0～20％的li2o，波筋最小距离为100mm～1000mm，波筋周期为1mm～30mm。
[0012]
[2]根据上述[1]所述的显示器用罩玻璃，其中，上述波筋周期为2mm～10mm。
[0013]
[3]根据上述[1]或[2]所述的显示器用罩玻璃，其中，上述第1主面具有凹凸结构。
[0014]
[4]根据上述[3]所述的显示器用罩玻璃，其中，上述第1主面的表面粗糙度ra为0.01μm～0.5μm，上述第1主面的凹凸结构的间距rsm为0.003mm～0.040mm，透射雾度为1％～15％，上述波筋周期与上述rsm之比为100～1000。
[0015]
[5]根据上述[3]或[4]所述的显示器用罩玻璃，其中，眩光指标值s为0.84以上，反射像扩散性指标值r为0.02以上，可视性指标值t为0.8以上。
[0016]
[6]根据上述[1]～[5]中任一项所述的显示器用罩玻璃，其中，在上述第1主面上具备防污层。
[0017]
[7]根据上述[1]～[6]中任一项所述的显示器用罩玻璃，其中，在上述第1主面上依次具备密合层和防污层。
[0018]
[8]根据上述[1]～[7]中任一项所述的显示器用罩玻璃，其中，实施了化学强化处理，表面压缩应力为500mpa～1200mpa，表面压缩应力层深度为10μm～150μm。
[0019]
[9]一种车载显示装置，具备显示器和覆盖上述显示器的上述[1]～[8]中任一项所述的显示器用罩玻璃。
[0020]
[10]根据上述[9]所述的车载显示装置，其中，平行于上述显示器用罩玻璃的波筋的方向与上述显示器的像素方向所成的角度为0度～5度或85度～90度。
[0021]
[11]一种显示器用罩玻璃的制造方法，其中，是制造上述[1]～[8]中任一项所述的显示器用罩玻璃的方法，在熔融窑的颈部沿着上述颈部的宽度方向设置多个搅拌机，将上述搅拌机的搅拌条件设定为1rpm～25rpm。
[0022]
[12]一种显示器用罩玻璃的制造方法，是制造上述[1]～[8]中任一项所述的显示器用罩玻璃的方法，使用具有熔解槽、颈部和冷却槽的熔融窑，部分拆除上述冷却槽的侧壁的保温瓦。
[0023]
[13]一种显示器用罩玻璃的制造方法，是制造上述[1]～[8]中任一项所述的显示器用罩玻璃的方法，将冷却体以与上述冷却槽的宽度之比为超过0且为0.7以下的长度插入到冷却槽的上部空间。
[0024]
根据本发明，能够提供一种可视性优异的显示器用罩玻璃。
附图说明
[0025]
图1是表示熔融窑的构成例的示意图。
[0026]
图2是表示测定眩光指标值s时使用的测定装置的一个例子的示意图。
[0027]
图3是表示测定反射像扩散性指标值r时使用的测定装置的一个例子的示意图。
[0028]
图4是表示测定可视性指标值t时使用的测定装置的一个例子的示意图。
[0029]
图5是表示波筋最小距离的投影图像的示意图。
[0030]
符号说明
[0031]
1：玻璃原料
[0032]
2：熔融玻璃
[0033]
10：熔融炉
[0034]
11：熔融窑
[0035]
12：熔解槽
[0036]
13：冷却槽
[0037]
14：颈部
[0038]
50：玻璃板
[0039]
52：第1主面
[0040]
53：第2主面
[0041]
54：显示装置
[0042]
70：测定装置
[0043]
70a：测定装置
[0044]
70c：测定装置
[0045]
71：线状光源装置，光源
[0046]
711：光源
[0047]
712：黑色平板
[0048]
731：第1入射光
[0049]
732：第1反射光
[0050]
733：光线
[0051]
733－2：虚拟入射光
[0052]
734：光线
[0053]
735：光线
[0054]
736：光线
[0055]
75：面亮度测定器，检测器
[0056]
e：玻璃的端部
[0057]
g：玻璃
[0058]
r：波筋
[0059]
r
i
：从玻璃的端部数第i根波筋
[0060]
r1：从玻璃的端部数第1根波筋
[0061]
s：屏幕
具体实施方式
[0062]
(玻璃板)
[0063]
本实施方式的显示器用罩玻璃的第1方式以下述氧化物基准的摩尔百分率表示，含有50～75％的sio2、5～20％的al2o3、2～20％的na2o、0～6％的k2o、0～15％的mgo、以(cao+sro+bao)合计量计为0～10％的cao、sro和bao、以(zro2+tio2)合计量计为0～5％的zro2和tio2、0～10％的b2o3、0～20％的li2o。
[0064]
以下，对玻璃组成中的各成分进行说明。以下，本说明书中，各成分的含量用氧化物基准的摩尔百分率表示。
[0065]
sio2是构成玻璃的主要成分。而且，是减少玻璃表面带有划伤(压痕)时的裂纹的产生或者在化学强化处理后使带有压痕时的断裂率变小的成分。另外，sio2还是提高玻璃的耐酸性、而且减少蚀刻处理时的污泥量的(耐氢氟酸性)成分。因此，sio2含量为50％以上。sio2含量优选为55％以上，更优选为60％以上，进一步优选为63％以上。
[0066]
另一方面，如果sio2含量过多，则粘性变得过高，存在熔解性、成型性等生产率变低的趋势。因此，sio2含量为75％以下。sio2含量优选为73％以下，更优选为71％以下，进一步优选为70％以下，更进一步优选为67％以下，特别优选为65％以下。
[0067]
al2o3越多，能够使化学强化处理时的cs(表面压缩应力)变得越高。因此，al2o3含量为5％以上。al2o3含量优选为7％以上，更优选为8％以上。
[0068]
另一方面，如果al2o3含量过多，则化学强化处理时的dol(表面压缩应力层深度)降
低。因此，al2o3含量为20％以下。al2o3含量优选为18％以下，更优选为15％以下，进一步优选为13.5％以下，更进一步优选为12％以下，特别优选为11％以下。
[0069]
na2o是一种在化学强化处理时通过离子交换而形成表面压缩应力层的必需成分，具有使dol变深的作用。而且，是一种降低玻璃的熔解温度和失透温度并提高玻璃的熔解性、成型性的成分。na2o是产生非交联氧的成分，玻璃中的水分量变动时的化学强化特性的变动变少。
[0070]
na2o越多，能够使化学强化处理时的dol越深。因此，na2o含量为2％以上。na2o含量优选为3％以上，更优选为5％以上，进一步优选为10％以上，更进一步优选为11％以上。
[0071]
另一方面，如果na2o含量过多，则化学强化处理时的cs降低。另外，由于构成na2o的非交联氧(non－bridging oxygen；nbo)会针对被称为deep uv(深紫外光，duv)的波长区域的紫外线而言使用于防止特定波长区域的透射率的降低的duv耐性变低，因此从duv耐性的观点考虑，非交联氧越少越好。因此，na2o含量为20％以下。na2o含量优选为19％以下，更优选为18.5％以下，进一步优选为17％以下，更进一步优选为16.5％以下。
[0072]
k2o的含量为0～6％。k2o具有在化学强化处理时增大离子交换速度使dol变深、降低玻璃的熔解温度的效果，是使非交联氧增大的成分。而且，能够避免因化学强化处理时使用的硝酸钾熔融盐中的nano3浓度所致的表面压缩应力的变化的增大。此外，少量的k2o具有在基于浮法成型时抑制来自底面的锡的侵入量的效果，因此在将本实施方式的玻璃利用浮法进行成型时优选含有。为了起到上述效果，本实施方式的化学强化用玻璃中的k2o的含量优选为0.1％以上，更优选为0.3％以上，进一步优选为0.4％以上。
[0073]
另一方面，如果k2o过多，则化学强化处理时的cs降低。另外，由于构成k2o的非交联氧(non－bridging oxygen；nbo)而使duv耐性变低，因此从duv耐性的观点考虑，非交联氧越少越好。从这些观点考虑，k2o含量为6％以下，优选为4％以下，更优选为2％以下，进一步优选为1.3％以下，更进一步优选为1％以下。
[0074]
mgo的含量为0～15％。mgo是使玻璃稳定化、提高熔解性且能够通过其添加而降低碱金属的含量并抑制热膨胀率(cte)的上升的成分。为了起到上述效果，mgo的含量优选为2％以上，更优选为4％以上，进一步优选为6％以上，更进一步优选为8％以上。
[0075]
另一方面，考虑到保持dol时，mgo的含量为15％以下，优选为13％以下，更优选为12％以下，进一步优选为10.5％以下，更进一步优选为9％以下。
[0076]
cao是使玻璃稳定化的成分，由于具有防止因mgo的存在所致的失透且抑制cte的上升并提高熔解性的效果，因此可以含有。cao的含量优选为0～5％，更优选为0～3％，进一步优选为0～1％。cao的含量为5％以下时，容易在化学强化处理时得到足够的离子交换速度，容易得到所期望的dol。另外，希望使化学强化处理时的离子交换性能格外提高时，cao的含量优选小于1％，更优选为0.5％以下。
[0077]
sro可以根据需要而含有，但与mgo、cao相比，在化学强化处理时使离子交换速度降低的效果大，因此实质上不含有sro，或者即便含有时其含量优选为3％以下。应予说明，本说明书中实质上不含有是指除了不可避免的杂质以外不含有，例如，优选小于0.05％，更优选小于0.01％。
[0078]
在碱土金属氧化物中，bao在化学强化处理时使离子交换速度降低的效果最大。因此，实质上不含有bao或者即便含有时其含量优选为3％以下，更优选为1％以下，进一步优
选为0.5％以下。
[0079]
cao、sro、bao这3种成分的含量的合计(cao+sro+bao)为0～10％。通过使该合计为10％以下，能够在化学强化处理时避免离子交换速度的降低。该合计优选为5％以下，更优选为3％以下，进一步优选为1％以下，更进一步优选为0.5％以下，特别优选为0.2％以下。
[0080]
tio2是使duv耐性提高的成分，因此可以含有。tio2含量优选超过0％，更优选为0.01％以上，进一步优选为0.03％以上。
[0081]
另一方面，tio2过多时，化学强化处理时的dol降低。因此，tio2含量优选为5％以下，更优选为3％以下，进一步优选为1％以下，更进一步优选为0.5％以下，特别优选为0.3％以下。
[0082]
zro2是在提供优异的duv耐性的同时使化学耐久性提高、使化学强化处理时的cs增大而且使化学强化处理后的维氏硬度提高的成分，可以含有。zro2含量优选为0.1％以上，更优选为0.11％以上，进一步优选为0.12％以上，更进一步优选为0.13％以上。
[0083]
另一方面，从抑制玻璃制造时的失透、防止化学强化处理时的dol降低的观点考虑，zro2的含量优选为4％以下，更优选为3％以下，进一步优选为2％以下，更进一步优选为1.5％以下，特别优选为1％以下。
[0084]
y2o3虽然也可以不含有，但由于是增大化学强化玻璃的表面压缩应力且使晶体生长速度变小的成分，因而优选含有。y2o3的含量优选为0.1％以上，更优选为0.2％以上，进一步优选为0.5％以上，更进一步优选为0.8％以上，特别优选为1％以上。另一方面，如果y2o3的含量过多，则在化学强化处理时不易使表面压缩应力层变大。y2o3的含量优选为5％以下，更优选为3％以下，进一步优选为2％以下，更进一步优选为1.5％以下。
[0085]
本实施方式的玻璃优选一起含有tio2和zro2。但是，zro2和tio2这2种成分的含量的合计(tio2+zro2)为0～5％。通过使该合计为5％以下，能够防止化学强化时的dol降低。该合计优选为3％以下，更优选为2％以下，进一步优选为1％以下，更进一步优选为0.5％以下。另外，该合计优选为0.1％以上。
[0086]
另外，本实施方式的玻璃优选na2o、k2o、al2o3、zro2、tio2的由氧化物基准的摩尔百分率表示的含量满足[(na2o+k2o
×
5)/(al2o3+zro2+tio2×
10)]为2.55以下的关系。
[0087]
如上所述，na2o和k2o是能够使dol变深、另一方面使cs、duv耐性降低的成分。而且，是能够降低玻璃的粘度达到102dpa
·
s的温度t2、玻璃的粘度达到104dpa
·
s的温度t4且有助于良好的生产率的成分。
[0088]
另外，al2o3、zro2、tio2是能够使cs、duv耐性变高、另一方面使dol降低的成分。另外，al2o3是使温度t2、温度t4变高的成分，如果过多时则熔解性、成型性等生产率降低。
[0089]
即，从cs、dol、耐酸性、生产率的平衡考虑，[(na2o+k2o
×
5)/(al2o3+zro2+tio2×
10)]表示的值优选为2.55以下，更优选为2.00以下，进一步优选为1.90以下，更进一步优选为1.80以下，特别优选为1.71以下。另外，优选为0.10以上，更优选为0.50以上，进一步优选为1.00以上。
[0090]
另外，本实施方式中，特别是为了提高cs，另外为了提高耐酸性，优选al2o3、k2o的由氧化物基准的摩尔百分率表示的含量满足al2o3/k2o超过10的关系。al2o3/k2o更优选为10.5以上，进一步优选为11.5以上，更进一步优选为12.5以上，特别优选为14.0以上，最优选为15.0以上。
[0091]
另外，mgo、na2o、k2o、zro2、tio2的由氧化物基准的摩尔百分率表示的含量满足[(mgo/2+na2o+k2o
×
2)/(tio2+zro2)]为53～140的关系由于能够减少(耐氢氟酸性提高)蚀刻时的污泥量，因而优选。[(mgo/2+na2o+k2o
×
2)/(tio2+zro2)]表示的值更优选为130以下，进一步优选为125以下，更进一步优选为120以下。另外，更优选为55以上，进一步优选为60以上。
[0092]
b2o3是促进玻璃原料的熔融、使玻璃的脆性和耐候性提高的成分，因而可以含有。b2o3也可以不含有，含有时通过使其含量为1％以上，能够在化学强化后使带有维氏压痕时的断裂率变小，或者高温下的熔融性提高。为了避免因来自熔融玻璃的挥发所致的波筋的生成、炉壁的侵蚀等不良情况，b2o3的含量为10％以下，优选为8％以下，更优选为6％以下，进一步优选为4％以下，更进一步优选为3％以下，特别优选为1％以下。
[0093]
li2o容易使应变点和低温粘性过低而引起应力缓和，其结果，化学强化处理时的cs降低，因而可以实质上不含有。另外，li2o有时会在化学强化处理时溶出到kno3等熔融盐中，但使用含有li的熔融盐而进行化学强化处理时cs明显降低。因此，从该观点考虑，也可以实质上不含有li2o。
[0094]
另一方面，li2o通过与na2o和k2o进行离子交换，能够形成压缩应力。li2o特别是与na2o交换时，离子交换快，适于缩短化学强化处理的时间。另外，li2o是提高玻璃的杨氏模量的成分，且是对玻璃板薄或大时的自重挠曲也有效果的成分。li2o的含量为20％以下，优选为16％以下，更优选为12％以下。li2o与na2o或k2o进行离子交换时，li2o的含量优选为3％以上，更优选为5％以上，进一步优选为8％以上。
[0095]
作为另一实施方式中的玻璃的组成的例子，例如，可举出以氧化物基准的摩尔％计含有50～75％的sio2、1～25％的al2o3、合计为3～25％的li2o、na2o和k2o的玻璃。另外，例如，可举出以氧化物基准的摩尔％计为以下的玻璃的组成。(i)含有55～75％的sio2、8～25％的al2o3、3～20％的li2o、合计为3～25％的li2o、na2o和k2o、合计为0～10％的mgo、cao、sro、bao和zno中任一者以上的玻璃，(ii)含有50～70％的sio2、6～20％的al2o3、5～20％的na2o、合计为5～25％的li2o、na2o和k2o、1～15％的mgo、0～5％的cao的玻璃，(iii)含有60～75％的sio2、1～6％的al2o3、10～20％的na2o、合计为10～25％的li2o、na2o和k2o、3～20％的mgo、1～10％的cao的玻璃。
[0096]
通过设定为这样的范围，能够使后述的ag加工后的可视性更良好。
[0097]
本实施方式中的显示器用罩玻璃的厚度优选为0.5mm以上，更优选为0.7mm以上。如果在该范围，则容易处理，而且容易确保化学强化处理后的强度。
[0098]
另外，显示器用罩玻璃的厚度优选为2mm以下，更优选为1.5mm以下，进一步优选为1.3mm以下。如果在该范围，则将触控面板设置于罩玻璃与显示器之间时，不易对操作产生干扰。
[0099]
(波筋)
[0100]
波筋是玻璃中存在的条纹状的光学应变。波筋是在制造玻璃的过程中异质成分存在于熔融玻璃的情况下产生的。异质成分是指例如玻璃的成分未充分地均质化而变得不均质的成分；因熔融玻璃与炉材、气相的反应等而产生的熔融玻璃的成分；等成分。
[0101]
波筋按照以下的顺序进行评价。
[0102]
首先，从扩散光源向显示器用罩玻璃的一个主面照射光，将板厚方向的透射光投
影到屏幕。产生波筋的玻璃中，在向屏幕的投影图像上观察到作为光学应变的波筋。
[0103]
接下来，使显示器用罩玻璃与屏幕的距离缩小，且两者的距离达到一定距离时，在向屏幕的投影图像中观察不到波筋。将在向屏幕的投影图像中刚刚观察不到波筋之前的两者的最短距离作为波筋最小距离。
[0104]
使用图5对波筋周期的定义进行说明。
[0105]
图5是表示波筋最小距离的投影图像的示意图。
[0106]
图5中，向屏幕s投影了玻璃g的图像。对于从玻璃g的图像的一个端部e数第i根波筋r
i
，将从玻璃g的端部e沿垂直于波筋r
i
方向的方向前进的距离作为x＿i。对足够量的波筋r算出x＿i。
[0107]
接下来，分别算出相邻的波筋r彼此间的距离，即|x＿2－x＿1|、|x＿3－x＿2|、
···
、|x＿i－x＿(i－1)|、
···
，将它们中的最小的值记为δmin。然后，将以下的目标函数相对于δ和φ0最小化时的δ作为波筋周期。
[0108]
σ＿i[1－cos(2πx＿i/δ+φ0)]＾2
[0109]
其中，δ≥δmin，σ＿i表示对i加和。另外，x＿i和δmin使用考虑到屏幕s的玻璃g投影图像的放大率而换算为实际的距离的值。φ0是关于从玻璃端到第1根波筋的距离x＿1而调整目标函数的参数。
[0110]
这样的话，在一部分周期缺损时也能够推断实际的波筋周期。
[0111]
作为观察的波筋r的数目，例如，如果从玻璃g的端部e起为10根以上，则能够高精度地算出波筋周期。
[0112]
专利文献1中，该波筋最小距离(波筋可视距离)为780mm以上时，在作为携带用显示器装置的罩玻璃的使用上不成问题。
[0113]
但是，本发明人等发现在实施后述的ag加工时，即便波筋最小距离小于780mm，也有时在使用上不成问题，另外在波筋最小距离为780mm以上时也有时在使用上成为问题。
[0114]
本发明人等进行了深入研究，结果新发现了波筋周期也与波筋最小距离一同关系到使用时的可视性。即，发现波筋最小距离为100mm～1000mm且波筋周期为1mm～30mm时，能够在实施ag加工后适合使用。
[0115]
ag加工后的透射雾度小于15％时，透射光的扩散性比较低，因此ag加工前后的波筋最小距离实质上不变即可。而且，波筋周期在ag加工前后也不变化。
[0116]
因此，透射雾度小于15％时，波筋最小距离和波筋周期可以在ag加工前进行测定，也可以在ag加工后进行测定。
[0117]
在ag加工后，适合使用范围变化的原因推定如下。
[0118]
如后所述，在ag加工中，作为最终工序，一般利用氢氟酸等对表面进行蚀刻。
[0119]
然而，对表面进行蚀刻时，在存在波筋的部分和不存在波筋的部分，蚀刻速度和方向产生差异。由此，推断表面形状略微变形。
[0120]
另一方面，ag加工后的玻璃表面因后述的磨砂处理等而在表面上存在更微细的凹凸结构。推断该微细的凹凸结构与因波筋所致的表面形状的微量变形相互影响，实际使用时的可视性产生变化。
[0121]
即便在ag加工前波筋最小距离小于780mm时，在波筋周期为1mm～30mm这样较短的情况下，以波筋为起点的蚀刻的微细的变化区域会以比较窄的周期产生。推断由于其与由
ag加工所致的凹凸结构重叠，因此作为整体，实际使用时的可视性变得良好。
[0122]
波筋最小距离优选为150mm以上，进一步优选为200mm以上。如果在该范围，则无论是否存在ag加工的品质偏差，可视性都更良好。
[0123]
波筋最小距离优选为780mm以下，进一步优选为500mm以下。如果在该范围，则能够在制造上具有现实性的一定时间内实现均质化。
[0124]
波筋周期优选为2mm以上，更优选为5mm以上。如果在该范围，则很难产生气泡等缺点。
[0125]
从可视性更优异的理由考虑，波筋周期优选为20mm以下，更优选为10mm以下。
[0126]
本实施方式的罩玻璃能够用于车载显示装置等显示装置。
[0127]
即，本实施方式的显示装置(例如，车载显示装置)具备显示器和覆盖该显示器的本实施方式的罩玻璃。
[0128]
该情况下，平行于波筋的方向与显示器的像素(pixel)的方向(以下，也称为“像素方向”)所成的角度优选为0度～5度或85度～90度。这里，像素方向是指以矩阵状形成的像素的、将邻接的像素彼此连接的2个方向中的一个。另一个方向与上述像素方向成90度的角度。
[0129]
通过如上所述地设定波筋的方向和像素的方向，能够减少应变对于横切像素的方向的影响，能够使使用时的可视性良好。
[0130]
(玻璃的制造方法)
[0131]
本实施方式的玻璃的制造中可以使用公知的玻璃制造装置。即，将按照上述组成调制的玻璃原料连续投入到熔融窑中，加热到规定的温度而制成熔融玻璃。其后，利用浮法、熔融法将该熔融玻璃成型为规定板厚的平板玻璃后，将该平板玻璃切断成规定的形状。
[0132]
在图1中示出熔融窑的构成例。
[0133]
在基于浮法的玻璃的制造中，首先用熔融炉10使玻璃原料熔融而得到熔融玻璃。
[0134]
熔融炉10具有熔融窑11，在熔融窑11中，将投入的玻璃原料1熔融而得到熔融玻璃2。更详细而言，熔融窑11具有上游侧的熔解槽12、下游侧的冷却槽13和将它们连接的颈部14(或喉部)。在上游侧(即熔解槽12)将玻璃原料1熔融而成为熔融玻璃2，在下游侧(即冷却槽13)调整熔融玻璃2的温度。
[0135]
为了使玻璃均质化，有时在熔融窑11的内部设置未图示的搅拌机(stirrer)。
[0136]
另外，冷却槽13中，也有时将被水冷的冷却体(未图示)设置于冷却槽13的内部的上部用于冷却玻璃。
[0137]
为了将波筋最小距离调整为100mm～1000mm并将波筋周期调整为1mm～30mm，例如优选使用以下方法。
[0138]
在颈部14配置立式搅拌机时，配合颈部14的宽度方向的长度地沿着颈部14的宽度方向设置多个搅拌机，在不大量产生气泡的范围将搅拌条件设定在1rpm～25rpm之间。由此使均质性提高，能够容易地将波筋周期调整为30mm以下。为卧式(梳状)搅拌机时，从颈部14的单侧或两侧插入，同样地在不增加气泡的范围将转速设定在1rpm～10rpm之间。在卧式(梳状)搅拌机的情况下，浸渍于玻璃熔液的一个搅拌部与一个立式搅拌机对应，由一个卧式搅拌机将多个搅拌部浸渍于玻璃熔液的情况下，可以认为与多个立式的搅拌机等同。
[0139]
配置立式搅拌机时，搅拌机的多个转速可以全部相同，但考虑到气泡与均质性的
平衡，也可以特意使几个搅拌机的转速或高或低。也可以在颈部14的靠侧壁的一个或多个搅拌机与其以外的一个或多个搅拌机之间设定为转速或旋转方向不同。或者，例如，在颈部14沿着颈部14的宽度方向设置有奇数个搅拌机时，可以在宽度方向使中心的搅拌机的旋转变快，且使中心的搅拌机的两侧的搅拌机的旋转相反。由此，沿着由两侧的搅拌机的旋转所致的流动流入到中心的搅拌机的玻璃会被中心的搅拌机进一步搅拌，因此能够容易地得到波筋周期细微且均质的玻璃。
[0140]
另外，例如在宽度方向使中心的搅拌机的旋转变慢时，能够使玻璃液更容易地通过中心的搅拌机，因此能够使对流旺盛。
[0141]
另外，还优选使用以下的方法。
[0142]
即，在具有熔解槽、颈部和冷却槽的熔融窑中，部分拆除冷却槽的侧壁的保温瓦。由此，能够在冷却槽中也使玻璃充分搅拌和对流，能够容易地调整波筋周期和波筋最小距离。
[0143]
另外，还优选使用以下的方法。
[0144]
即，通过将在上述冷却槽的上部存在多个的冷却体的插入长度与冷却槽的宽度之比在上游、下游处在超过0且为0.7以下、优选0.02～0.5、进一步优选0.05～0.3之间有意地改变，从而因冷却槽的中央部与端部的温度差使对流变得旺盛，能够将波筋周期调整为30mm以下。
[0145]
(ag加工)
[0146]
本实施方式的罩玻璃中，优选玻璃板的至少一个面经过ag(抗眩光)加工。ag加工的方法没有特别限定，可以利用对玻璃主面实施表面处理而形成所期望的凹凸结构的方法。
[0147]
具体而言，可举出对玻璃板的第1主面进行化学处理的方法，例如实施磨砂处理的方法。磨砂处理例如可以将作为被处理物的玻璃板浸渍于氟化氢和氟化铵的混合溶液，对浸渍面进行化学表面处理。
[0148]
另外，除了这样的基于化学处理的方法以外，例如，还可以利用基于下述物理处理等的方法：将结晶质二氧化硅粉、碳化硅粉等由加压空气吹送到玻璃板表面的所谓的喷砂处理；将附着有结晶质二氧化硅粉、碳化硅粉等的刷子用水润湿进行摩擦等。
[0149]
特别是，实施使用氟化氢等试剂进行化学表面处理的磨砂处理的方法由于不易产生被处理物表面的微裂纹，不易产生机械强度的降低，因此可以优选用作实施玻璃板的表面处理的方法。应予说明，通过玻璃板的ag加工而形成了凹凸结构的表面可以具有最大深度小于3μm的微裂纹。原因在于：如果为该程度，则不易引起机械强度的降低。
[0150]
由此通过化学处理(磨砂处理)或物理处理而制成凹凸结构后，为了整理表面形状，一般对玻璃表面进行化学蚀刻。由此，能够利用蚀刻量将透射雾度调整为所期望的值，能够除去喷砂处理等产生的裂纹，而且，能够抑制眩光。
[0151]
作为蚀刻，优选使用将作为被处理物的玻璃板浸渍于以氟化氢为主成分的溶液中的方法。作为除氟化氢以外的成分，可以含有盐酸、硝酸、柠檬酸等酸。通过含有酸，能够抑制进入玻璃的阳离子成分与氟化氢反应而局部发生析出反应，能够使蚀刻在面内均匀地进行。
[0152]
作为ag加工后的光学性能，透射雾度优选为1％以上，更优选为2％以上，进一步优
选为3％以上。由此，当户外光线照射到玻璃板时，光进行散射，图像模糊，因此具有显示物的可视性提高的效果。
[0153]
另外，透射雾度优选为15％以下，更优选为12％以下，进一步优选为10％以下。由此，对玻璃板的未经ag加工的面实施黑色印刷加工时，黑色的清晰度变高，具有设计性提高的效果。
[0154]
作为ag加工后的表面形状，具有凹凸结构的第1主面的表面粗糙度(ra)优选为0.01μm～0.5μm，更优选为0.01μm～0.3μm，进一步优选为0.01μm～0.2μm。ra可以按照jis b－0601(2001)中规定的方法进行测定。
[0155]
另外，凹凸结构的间距(rsm)优选为0.003mm以上，更优选为0.005mm以上，进一步优选为0.008mm以上，特别优选为0.010mm以上。另外，rsm优选为0.050mm以下，更优选为0.040mm，进一步优选为0.030mm以下。rsm可以按照jis b－0601(2001)中规定的方法进行测定。
[0156]
作为用于上述的表面形状的参数的高度数据，优选使用如下高度数据，即，利用激光显微镜(keyence公司制商品名：vk－9700)对试样的测定面设定300μm
×
200μm的视野范围并测定玻璃板的高度信息，并进行截止校正而得到的高度数据。另外，作为截止值，优选使用0.08mm。
[0157]
波筋周期与rsm之比优选为100～1000，更优选为150～900，进一步优选为200～500。通过在这样的范围，能够进一步抑制在ag加工后受凹凸结构和波筋周期的干涉而可视性变差。
[0158]
作为评价ag加工后的光学性能的指标，优选使用眩光指标值s、反射像扩散性指标值r和可视性指标值t。
[0159]
眩光指标值s优选为0.84以上，更优选为0.87以上，进一步优选为0.9以上。另外，优选为0.95以下。
[0160]
反射像扩散性指标值r优选为0.02以上，更优选为0.04以上，进一步优选为0.06以上。另外，优选为0.5以下。
[0161]
可视性指标值t优选为0.8以上，更优选为0.85以上，进一步优选为0.9以上。另外，优选为0.95以下。
[0162]
以下陈述各指标值的定义和测定方法。
[0163]
＜眩光指标值s＞
[0164]
本说明书中，作为眩光(sparkle)的指标，使用按照以下步骤测定的眩光指标值s。眩光指标值s是表示检测到何种程度的亮点不均的值，所述亮点不均是由来自显示图像的光(图像)透过玻璃板时被玻璃板表面散射、散射的光相互干涉而产生的。已经确认眩光指标值s与观察者基于目视的眩光判断结果显示出良好的相关关系。例如，存在如下趋势：眩光指标值s小的玻璃板的眩光明显，相反，眩光指标值s大的玻璃板的眩光得到抑制。
[0165]
接下来，参照图2对玻璃板的眩光指标值s的测定方法进行说明。图2中示意地示出测定眩光指标值s时使用的测定装置70c。
[0166]
测定眩光指标值s时，首先，准备显示装置54(ipad(注册商标)－air；分辨率264ppi)。在显示装置的显示面侧具备用于防止破损等的罩。
[0167]
接下来，在显示装置54的显示面侧配置被测定试样、即玻璃板50。应予说明，对作
为玻璃板50的一个主面的第1主面52实施ag加工时，玻璃板50以该第1主面52在与显示装置54相反的一侧(检测器75侧)的方式配置于显示装置54的显示面侧。即，将作为另一主面的第2主面53配置于显示装置54上。
[0168]
接下来，在使显示装置54为on而显示图像的状态下，使用解析装置(sms－1000；display－messtechnik&systeme[dm&s]公司制)，对玻璃板50的眩光程度进行图像解析。由此，求出表示为sparkle值的眩光s
a
。
[0169]
应予说明，进行测定时，优选由rgb(0，255，0)构成的绿色单色的图像显示于显示装置54的整个显示画面。这是为了尽量减少由显示颜色的差异所致的外观的差异等的影响。固体摄像元件与玻璃板50之间的距离d为540mm。该距离d由距离指数r表示时，相当于r＝10.8。
[0170]
这里，距离指数r使用固体摄像元件的焦距f和固体摄像元件与玻璃板50之间的距离d，由以下公式表示：
[0171]
距离指数r＝(固体摄像元件与玻璃板之间的距离d)/(固体摄像元件的焦距f)
[0172]
接下来，在参照试样中，实施同样的测定。参照试样为与玻璃板50相同厚度的玻璃板(vrd140玻璃；asahi glass europe公司制)。
[0173]
将得到的sparkle值记为眩光s
s
。
[0174]
由得到的s
a
和s
s
，根据以下的式(s)而算出玻璃板50的眩光指标值s。
[0175]
眩光指标值s＝1－(s
a
/s
s
)
ꢀꢀꢀ
式(s)
[0176]
应予说明，该测定中，作为照相机透镜，优选以光圈5.6使用焦距为50mm的23fm50sp透镜。
[0177]
＜反射像扩散性指标值r＞
[0178]
本说明书中，作为防眩性的指标，使用按照以下的步骤测定的反射像扩散性指标值r。反射像扩散性(reflection image diffusiveness)是表示放置在玻璃板的周边的物体(例如照明)的反射像与原本的物体一致程度如何的值，已经确认与观察者基于目视的防眩性的判断结果显示出良好的相关关系。例如，反射像扩散性指标值r显示较小的(接近0)值的玻璃板的防眩性差，相反，反射像扩散性指标值r显示较大的值(越接近1越大)的玻璃板具有良好的防眩性。
[0179]
参照图3，对玻璃板50的反射像扩散性指标值r的测定方法进行说明。图3中示意地示出测定反射像扩散性指标值r时使用的测定装置的一个例子。
[0180]
如图3所示，测定装置70具有线状光源装置71和面亮度测定器75，在测定装置70的内部配置被测定试样、即玻璃板50。线状光源装置71由光源711和黑色平板712构成，在黑色平板712的狭缝状开口部设置有光源711。玻璃板50具有实施了ag加工的第1主面52和第2主面53。线状光源装置71朝向玻璃板50且在图3中配置于与纸面垂直的方向。面亮度测定器75在线状光源装置71的纸面垂直方向中央配置于与线状光源装置71垂直相交的平面上。面亮度测定器75的焦点聚焦于由玻璃板50反射的线状光源装置71的图像。即，使图像的焦点所聚焦的面与黑色平板712一致。这里，关注从线状光源装置71入射由玻璃板50反射并入射到面亮度测定器75的光中的入射角θi与反射角θr相等的光线(以下，记为第1入射光731、第1反射光732)时，θi＝θr＝5.7
°
。
[0181]
应予说明，玻璃板50以第1主面52成为线状光源装置71和面亮度测定器75的一侧
的方式进行配置。在玻璃板50的第2主面53侧配置黑色板。因此，面亮度测定器75所检测的光为由玻璃板50反射的反射光。
[0182]
接下来，对测定方法进行说明。例如着眼于入射角θi与反射角θr之差θr－θi＝0.5
°
、即光线733和光线734时，该光线734表示被玻璃板50散射到从正反射偏离0.5
°
的方向的成分。来自该方向的光线在面亮度测定器75中观测为黑色平板712与虚拟入射光733－2(由入射角与光线734的反射角相等的角度入射的光线)相交的部分的图像。即，由面亮度测定器75获得面亮度时，得到以与线状光源装置71的正反射对应的亮线为中心被玻璃板50的第1主面52散射的光扩散到该亮线的左右的图像。提取垂直于该亮线的方向的亮度横截面分布。应予说明，为了提高测定精度，可以在与亮线平行的方向累积数据。
[0183]
首先，将入射到玻璃板50的第1主面52的光中被正反射的第1反射光732的亮度设为r1。第1入射光731的入射角θi为5.7
°
，第1反射光732的反射角θr为5.7
°
。因玻璃板50的反射而使光线改变的角度记为θr－θi，为0
°
。由于实施中含有误差，因此θr－θi在0
°±
0.1
°
的范围。
[0184]
接下来，将入射角θi与反射角θr之差θr－θi＝0.5
°
的光线733和光线734的亮度设为r2。该光线表示被玻璃板50散射到从正反射偏离0.5
°
的方向的成分。由于实际上含有误差，因此为θr－θi＝0.5
°±
0.1
°
。
[0185]
同样将θr－θi＝－0.5
°
的光线735和光线736的亮度设为r3。该光线表示被玻璃板50散射到从正反射偏离－0.5
°
的方向的成分。由于实际上含有误差，因此为θr－θi＝－0.5
°±
0.1
°
。
[0186]
使用得到的亮度r1、亮度r2和亮度r3，通过以下的式(r)而算出玻璃板50的反射像扩散性指标值r。
[0187]
反射像扩散性指标值r＝(r2+r3)/(2
×
r1)
ꢀꢀꢀ
式(r)
[0188]
应予说明，这样的测定例如可以通过使用dm&s公司制的装置sms－1000来实施。使用该装置时，以光圈5.6使用照相机透镜的焦距为16mm的c1614a透镜。另外，从玻璃板50的第1主面52到照相机透镜的距离约为300mm，imaging scale设定在0.0276～0.0278的范围。由线状光源装置71的黑色平板712所形成的狭缝状开口部为101mm
×
1mm。
[0189]
＜可视性指标值t＞
[0190]
本说明书中，作为可视性的指标，使用按照以下步骤测定的可视性指标值t。可视性(clarity)是指表示通过玻璃板而视觉辨认显示图像时得到与显示图像以何种程度一致的图像的值，已经确认与观察者基于目视的可视性(清晰度)的判断结果表现出良好的相关关系。
[0191]
例如，可视性指标值t示为较小(接近0)的值的玻璃板的可视性差，相反，可视性指标值t示为较大的值的玻璃板具有良好的可视性。因此，该可视性指标值t可以作为判断玻璃板的可视性时的定量的指标使用。
[0192]
可视性指标值t的测定使用dm&s公司(display－messtechnik&systeme公司)制sms－1000，按照以下步骤进行。
[0193]
在距长度40mm、宽度0.1mm的狭缝状白色光源的上方30mm的位置以玻璃板的实施了ag加工的第1主面侧成为光源侧的方式设置玻璃板，从该玻璃板的上方测定亮度。
[0194]
将与玻璃板的厚度方向平行的方向记为角度θ＝0
゜
时，将角度θ＝0
゜±
0.1
゜
的范围
的亮度的平均值设为t1，将角度θ＝0.7
°±
0.1
°
的范围的亮度的平均值设为t2，将角度θ＝－0.7
°±
0.1
°
的范围的亮度的平均值设为t3时，将由下述式(t)算出的值作为可视性指标值t。
[0195]
可视性指标值t＝1－(t2+t3)/(2
×
t1)
ꢀꢀꢀ
(t)
[0196]
更具体而言，参照图4，对玻璃板50的可视性指标值t的测定方法的一个方式进行说明。
[0197]
测定装置70a具有光源71和检测器75，在测定装置70a的内部配置被测定试样、即玻璃板50。玻璃板50具有实施了ag加工的第1主面52和第2主面53。光源71从第1主面52侧朝向玻璃板50射出与玻璃板50的厚度方向平行的方向的第1光，该第1光透过玻璃板50的透射光的亮度由位于玻璃板50的第2主面53侧的检测器75进行检测和解析。
[0198]
将与玻璃板50的厚度方向平行的方向设为角度θ＝0
°
，根据在角度θ＝0
゜±
0.1
°
的范围检测到的亮度的平均值(t1)、在角度θ＝0.7
°±
0.1
°
的范围检测到的亮度的平均值(t2)和在角度θ＝－0.7
°±
0.1
°
的范围检测到的亮度的平均值(t3)，由上述式(t)而算出玻璃板50的可视性指标值t。
[0199]
应予说明，角度θ中的负(－)的符号表示相对于入射的第1光向逆时针方向倾斜，正(+)的符号表示相对于入射的第1光向顺时针方向倾斜。
[0200]
(化学强化)
[0201]
优选本实施方式的罩玻璃进行化学强化处理。
[0202]
化学强化处理方法没有特别限定，对玻璃板的主面进行离子交换，形成残留压缩应力的表面层(表面压缩应力层)。具体而言，在玻璃化转变温度以下的温度将基板的主面附近的玻璃中含有的离子半径小的碱金属离子(例如，li离子、na离子)置换为离子半径更大的碱金属离子(例如，相对于li离子为na离子或k离子，相对于na离子为k离子)。由此，在玻璃板的主面残留压缩应力，玻璃板的强度提高。
[0203]
玻璃板优选满足以下所示的条件。
[0204]
即，玻璃板的表面压缩应力(以下，称为cs)优选为400mpa以上，更优选为500mpa以上，进一步优选为700mpa以上。如果cs在该范围，则作为实用上的强度是足够的。
[0205]
另一方面，cs优选为1200mpa以下，更优选为900mpa以下。如果cs在该范围，则玻璃板能够耐受自身的压缩应力，不担心会自然断裂。
[0206]
此外，玻璃板的表面压缩应力层的深度(以下，称为dol)在将玻璃中的na离子置换为k离子时，优选为10μm以上，更优选为15μm以上，进一步优选为20μm以上。如果dol在该范围，则即便使用玻璃刀等锋利的工具，也不担心会容易受到划伤而断裂。
[0207]
另一方面，dol优选为150μm以下，更优选为50μm以下，进一步优选为40μm以下。如果dol在该范围，则玻璃板能够耐受自身的压缩应力，不担心会自然断裂。
[0208]
玻璃板含有li2o时，通过实施2次以上的化学强化处理，能够进一步提高强度。
[0209]
具体而言，例如，第一次处理中，例如使玻璃板与主要含有硝酸钠盐的无机盐组合物接触，进行na与li的离子交换。接着，第二次处理中，例如使玻璃板与主要含有硝酸钾盐的无机盐组合物接触，进行k与na的离子交换。由此，能够形成dol深、cs高的压缩应力层，因而优选。
[0210]
该情况下，dol优选为60μm以上，更优选为80μm以上，进一步优选为100μm以上。另
外，该情况下的dol优选为200μm以下，更优选为150μm以下，进一步优选为120μm以下。
[0211]
(防污层)
[0212]
本实施方式的罩玻璃优选在第1主面设置有防污层。
[0213]
防污层是抑制有机物、无机物附着于表面的膜，或者是在表面附着有有机物、无机物的情况下也具有能够通过擦拭等清洁而容易地除去附着物的效果的层。
[0214]
优选在后述的密合层的表面上具备防污层。作为防污层，只要能够对玻璃板赋予防污性，就没有特别限定，优选由通过使含氟有机硅化合物进行水解缩合反应而固化得到的含氟有机硅化合物被膜构成。
[0215]
另外，防污层的厚度没有特别限定，防污层由含氟有机硅化合物被膜构成时，以第1主面上的膜厚计，优选为2nm～20nm，更优选为2nm～15nm，进一步优选为2nm～10nm。如果第1主面上的膜厚为2nm以上，则成为由防污层均匀地覆盖玻璃板的第1主面上的状态，从耐擦性的观点考虑耐于实用。另外，如果第1主面上的膜厚为20nm以下，则形成了防污层的状态下的玻璃板的透射雾度等光学特性良好。
[0216]
形成防污层的组合物只要是含有含氟水解性硅化合物的组合物，且为能够通过干式成膜法而形成防污层的组合物，就没有特别限制。防污层形成用组合物可以含有除含氟水解性硅化合物以外的任意成分，也可以仅由含氟水解性硅化合物构成。作为任意成分，可举出在不阻碍本实施方式的效果的范围使用的不具有氟原子的水解性硅化合物(以下，称为“非氟水解性硅化合物”)、催化剂等。
[0217]
应予说明，当将含氟水解性硅化合物和任意的非氟水解性硅化合物配合于被膜形成用组合物时，各化合物可以在保持原样的状态下配合，也可以作为其部分水解缩合物而配合。另外，也可以作为各化合物及其部分水解缩合物的混合物而配合于被膜形成用组合物。
[0218]
另外，组合使用2种以上的水解性硅化合物时，各化合物可以在保持原样的状态下配合于被膜形成用组合物，也可以分别作为部分水解缩合物而配合，还可以作为2种以上的化合物的部分水解共缩合物而配合。另外，还可以为这些化合物、部分水解缩合物、部分水解共缩合物的混合物。其中，使用的部分水解缩合物、部分水解共缩合物为可由干式成膜法而形成的程度的聚合度。以下，水解性硅化合物的术语以除了化合物本身以外还包含这样的部分水解缩合物、部分水解共缩合物的含义来使用。
[0219]
用于形成本实施方式的含氟有机硅化合物被膜的含氟水解性硅化合物只要得到的含氟有机硅化合物被膜具有拒水性、拒油性等防污性，就没有特别限定。
[0220]
具体而言，可举出具有选自全氟聚醚基、全氟亚烷基和全氟烷基中的1个以上基团的含氟水解性硅化合物。这些基团作为介由连接基团或直接键合于水解性甲硅烷基的硅原子的含氟有机基团而存在。作为市售的具有选自全氟聚醚基、全氟亚烷基和全氟烷基中的1个以上基团的含氟有机硅化合物(含氟水解性硅化合物)，可以优选使用kp－801(商品名，信越化学工业公司制)、x－71(商品名，信越化学工业公司制)、ky－130(商品名，信越化学工业公司制)、ky－178(商品名，信越化学工业公司制)、ky－185(商品名，信越化学工业公司制)、ky－195(商品名，信越化学工业公司制)、afluid(注册商标)s－550(商品名，agc公司制)、optool(注册商标)dsx(商品名，大金工业公司制)等。其中，更优选使用ky－195、optool dsx、s－550。
[0221]
(密合层)
[0222]
密合层设置于玻璃板与上述防污层之间用以提高防污层的耐久性。从与防污层的密合性的观点考虑，密合层的最表层优选以氧化硅为主成分。
[0223]
密合层的与防污层相接的层的表面粗糙度以算术平均粗糙度(ra)计，优选为3nm以下，更优选为2nm以下，进一步优选为1.5nm以下。如果ra为3nm以下，由于布等能够沿着防污层的凹凸结构变形，因此对整个防污层表面大致均匀施加负荷。因此认为防污层的剥离得到抑制，耐磨损性提高。
[0224]
应予说明，测定密合层的算术平均粗糙度(ra)时，第1主面具有凹凸结构的情况下，以避免选中该凹凸结构的方式设定测定区域。
[0225]
由于密合层、防污层相对于上述凹凸结构通常足够薄，而且表面粗糙度相对于上述凹凸结构足够平滑，因此可以认为在有密合层、防污层的状态下，在充分含有上述凹凸结构的区域测定的表面形状所涉及的各种数值与上述凹凸结构的数值相同。
[0226]
(低反射层)
[0227]
低反射层是指除了带来减少反射率的效果、减少因光的射入所致的眩光以外还能够提高来自显示装置等的光的透射率、能够提高显示装置等的可视性的膜。
[0228]
本实施方式的玻璃板优选在主面、中间面和端面的至少一部分与防污层之间具备低反射层。作为低反射层的构成，只要是能够抑制光的反射的构成，就没有特别限定，例如，可以为层叠有波长550nm下的折射率为1.9以上的高折射率层和波长550nm下的折射率为1.6以下的低折射率层的构成。另外，也可以为仅1层低折射率层的构成。
[0229]
低反射层中的高折射率层和低折射率层可以为各自含有1层的形态，也可以为各自含有2层以上的构成。分别含有2层以上的高折射率层和低折射率层时，优选交替层叠有高折射率层和低折射率层的形态。
[0230]
为了提高低反射性，低反射层优选为层叠有多个层的层叠体。例如，该层叠体优选整体层叠有2层～10层的层，更优选层叠有2层～8层的层，进一步优选为层叠有4层～6层的层。这里的层叠体优选为如上所述地层叠有高折射率层和低折射率层的层叠体。另外，优选高折射率层、低折射率层的各自的层数合计的值在上述范围。
[0231]
高折射率层、低折射率层的材料没有特别限定，可以考虑要求的低反射性的程度、生产率等而适当地选择。作为构成高折射率层的材料，例如，可以优选使用选自氧化铌(nb2o5)、氧化钛(tio2)、氧化锆(zro2)、氧化钽(ta2o5)、氮化硅(si3n4)中的1种以上。作为构成低折射率层的材料，可以优选使用选自氧化硅(sio2)、含有si和sn的混合氧化物的材料、含有si和zr的混合氧化物的材料、含有si和al的混合氧化物的材料中的1种以上。
[0232]
从生产率、折射率的观点考虑，优选高折射率层为以选自氧化铌、氧化钽、氮化硅中的1种为主成分的层且低折射率层为以氧化硅为主成分的层的构成。
[0233]
另外，通过使低反射层的最表层以氧化硅为主成分，也可以作为密合层使用。
[0234]
(功能层的形成方法)
[0235]
为了方便起见，将包括上述防污层、密合层和低反射层的层称为功能层。
[0236]
本实施方式的功能层通过干式成膜法而形成。作为干式成膜法，例如，可举出蒸镀法、离子束辅助蒸镀法、离子镀法、溅射法、等离子体cvd法，其中，优选蒸镀法或溅射法。
[0237]
功能层由多个层构成时，可以组合上述方法而形成。例如，可以由溅射法形成密合
层，其后，由蒸镀法形成防污层。
[0238]
形成防污层时，优选使用蒸镀法。蒸镀法中，更优选使用电阻加热方式的蒸镀法、电子束蒸镀方式的蒸镀法。
[0239]
形成密合层或低反射层时，优选使用蒸镀法或溅射法。
[0240]
作为蒸镀法，更优选一边形成等离子体一边蒸镀的离子辅助蒸镀法。
[0241]
作为溅射法，一般使用磁控溅射法，其中，更优选脉冲磁控溅射法、ac磁控溅射法和后氧化磁控溅射法。
[0242]
如果使用这样的方法，则得到致密且膜厚被精密控制的功能层。
[0243]
实施例
[0244]
以下，例1～例7为实施例，例8为比较例。
[0245]
(例1)
[0246]
首先，制造具有以下组成的平板玻璃(玻璃组成：a)。
[0247]
sio2：64.4摩尔％
[0248]
al2o3：8摩尔％
[0249]
na2o：12.5摩尔％
[0250]
k2o：4摩尔％
[0251]
mgo：10.5摩尔％
[0252]
cao：0.1摩尔％
[0253]
sro：0.1摩尔％
[0254]
bao：0.1摩尔％
[0255]
zro2：0.5摩尔％
[0256]
制造该平板玻璃时，在熔融窑的颈部沿着宽度方向配置5台搅拌机，按照以下的立式搅拌机的条件(波筋调整方法：搅拌机a)利用浮法而进行制造。
[0257]
即，使位于颈部的宽度方向的中央的1台搅拌机的转速为25rpm，设定为从熔融窑的上侧看向顺时针方向旋转。从熔融窑的上游看位于左侧的2台搅拌机设定为转速10rpm，设定为从熔融窑的上侧看向顺时针方向以相同相位旋转。从熔融窑的上游看位于右侧的2台搅拌机设定为转速10rpm，设定为从熔融窑的上侧看向逆时针方向以相同相位旋转。
[0258]
由此，得到调整波筋最小距离和波筋周期后的板厚1.3mm的平板玻璃。
[0259]
其后，沿着波筋的方向切断成为15cm
×
25cm的矩形，得到玻璃板。
[0260]
接下来，将上述玻璃板的单面用pet膜覆盖，使其浸渍于含有25质量％的氟化铵和36质量％的氟化氢的溶液中，由此进行磨砂处理。其后，进行清洗，将被覆于表面的盐溶解后，在含有3质量％的氟化氢的溶液中浸渍35分钟左右，由此进行110μm蚀刻处理，在玻璃板的第1主面形成凹凸结构(ag加工方法：方法a)。
[0261]
接下来，将上述玻璃板浸渍于熔解有硝酸钾盐的槽中，由此进行化学强化处理。
[0262]
综上，得到在一个主面(第1主面)具有凹凸结构的化学强化玻璃板。
[0263]
(例2)
[0264]
在玻璃制造时，将搅拌机按照以下的条件(波筋调整方法：搅拌机b)设定，除此以外，与例1同样进行。
[0265]
即，使位于颈部的宽度方向的中央的1台搅拌机的转速为5rpm，设定为从熔融窑的
上侧看向顺时针方向旋转。从熔融窑的上游看位于左侧的2台搅拌机设定为转速20rpm，设定为从熔融窑的上侧看向顺时针方向以相同相位旋转。从熔融窑的上游看位于右侧的2台搅拌机设定为转速20rpm，设定为从熔融窑的上侧看向逆时针方向以相同相位旋转。
[0266]
(例3)
[0267]
ag加工中，使在蚀刻液中的浸渍时间为25分钟左右，进行80μm蚀刻，变更凹凸结构(ag加工方法：方法b)。除此以外，与例1同样地进行。
[0268]
(例4)
[0269]
在玻璃制造时，设定为以下条件，除此以外，与例1同样地进行。
[0270]
首先，颈部的5台搅拌机全部使转速为20rpm，从熔融窑的上侧看全部向顺时针方向以相同相位进行旋转。
[0271]
接下来，在冷却槽中，部分拆除通常设置于冷却槽的侧壁的保温瓦，使热梯度明显。由此，使冷却槽中的玻璃的对流旺盛，调整波筋最小距离和波筋周期(波筋调整方法：对流1)。
[0272]
(例5)
[0273]
在玻璃制造时，设定为以下的条件，除此以外，与例1同样地进行。
[0274]
首先，颈部的5台搅拌机全部使转速为20rpm，从熔融窑的上侧看全部向顺时针方向以相同相位进行旋转。
[0275]
接下来，在冷却槽的上游部和下游部，从冷却槽的上部的侧壁部插入冷却体。此时，使冷却体的插入长度在上游部为冷却槽的宽度的0.3倍，在下游部为冷却槽的宽度的0.1倍。由此，上游部被相对冷却，因此使从下游部到上游部的对流旺盛，调整波筋最小距离和波筋周期(波筋调整方法：对流2)
[0276]
(例6)
[0277]
首先，制造具有以下组成的平板玻璃(玻璃组成：e)。
[0278]
sio2：66.2摩尔％
[0279]
al2o3：11.2摩尔％
[0280]
li2o：10.4摩尔％
[0281]
na2o：5.6摩尔％
[0282]
k2o：1.5摩尔％
[0283]
mgo：3.1摩尔％
[0284]
cao：0.2摩尔％
[0285]
zro2：1.3摩尔％
[0286]
tio2：0.12摩尔％
[0287]
y2o3：0.5摩尔％
[0288]
玻璃的制造与例1同样地得到15cm
×
25cm、厚度1.3mm的玻璃板。
[0289]
在ag加工中，使氟化铵浓度为30质量％，并调整浸渍时间，使蚀刻量为50μm，变更凹凸结构(ag加工方法：方法c)。除此以外，与例1同样地进行。
[0290]
化学强化处理中，最初，使玻璃浸渍于含有硝酸钠盐的熔融盐中，对玻璃中的li和熔融盐中的na进行离子交换。接下来，使玻璃浸渍于含有硝酸钾盐的熔融盐中，对玻璃中的na和熔融盐中的k进行离子交换。由此，以2个阶段得到经化学强化的玻璃。
[0291]
(例7)
[0292]
在例1中切出玻璃时，以边与波筋的方向成45度的角度的方式切出，除此以外，与例1同样地得到玻璃板。
[0293]
(例8)
[0294]
在玻璃制造时，设定为以下条件，除此以外，与例1同样地实施。
[0295]
即，颈部的5台搅拌机全部使转速为20rpm，从熔融窑的上侧看全部向顺时针方向以相同相位旋转。在下述表1的“波筋调整方法”的栏中记载为“－”。
[0296]
(评价)
[0297]
分别使用雾度计和光泽度计对各例的透射雾度和光泽度进行测定。
[0298]
对于各例的凹凸结构，利用激光显微镜(keyence公司制商品名：vk－9700)对试样的测定面设定300μm
×
200μm的视野范围，测定玻璃板的高度信息，以截止值0.08mm进行校正。
[0299]
各例的眩光指标值s、反射像扩散性指标值r和可视性指标值t使用dm&s公司制的装置sms－1000按照上述条件进行测定。
[0300]
各例的波筋最小距离和波筋周期按照上述方法进行评价。
[0301]
(可视性的评价)
[0302]
对各例中得到的玻璃板，将形成有凹凸结构的第1主面作为可视侧，在未形成凹凸结构的第2主面设置oca(光学粘合膜)，与液晶显示器贴合。
[0303]
该状态下，使液晶显示器显示绿色，评价从60cm的距离是否可以看到由波筋所致的显示不均。如果为a～c，则可以评价为可视性优异。
[0304]
a：从哪个角度看都无法看到显示不均。
[0305]
b：在一部分角度中可以略微看到显示不均。
[0306]
c：在一部分角度中可以看到显示不均。
[0307]
d：在绝大多数的角度中可以看到显示不均。
[0308]
以上，将对例1～例8进行总结的表示于下述表1。
[0309]
[表1]
[0310][0311]
(评价结果总结)
[0312]
如上述表1所示，可知：与波筋周期不为30mm以下的例8相比，波筋周期为30mm以下的例1～例7的可视性优异。
[0313]
另外，对例1～例7进行比较时，波筋周期为10mm以下的例2、例4和例5与波筋周期不为10mm以下的例1、例3、例6和例7相比，可视性更优异。
[0314]
参照特定的实施方式对本发明进行详细说明，对本领域技术人员而言显然可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下加入各种变更、修改。
[0315]
本申请基于2020年1月14日申请的日本专利申请2020－003488，将其内容作为参照而引入于此。