本发明整体涉及涂层,并且更具体地,涉及用于电子设备中透明层的涂层。
背景技术:
1、电子设备诸如蜂窝电话可具有显示器。为了保护电子设备中的显示器,电子设备可设置有保护性显示器覆盖玻璃。可涂覆显示器覆盖玻璃。
技术实现思路
1、电子设备可具有外壳。该外壳可由外部区域围绕并且可包封内部区域。电子部件诸如传感器、集成电路和其他电路可安装在该内部区域中。
2、外壳壁诸如由透明材料层形成的外壳壁可将该内部区域与该外部区域分开。显示器可透过这些透明材料层中的一个透明材料层可见。
3、这些透明材料层可由玻璃或玻璃陶瓷形成,并且可具有不同厚度的相对的两个化学强化的表面层。涂层可形成在该相对的化学强化的两个表面层中的更薄者上。该涂层可具有疏油外涂覆层、抗反射层和防刮擦涂覆层。该防刮擦层可具有一个或多个受压缩应力的电介质层,并且可具有对应的一个或多个渐变组合物层。这些受压缩应力的电介质层可有助于防止损坏诸如刮痕。这些渐变组合物层可有助于促进粘附性,增强抗刮擦性并且减小该涂层接触该透明材料层处的剪切应力。
1.一种经涂覆的透明层,包括:
2.根据权利要求1所述的经涂覆的透明层,其中所述涂层还包括:
3.根据权利要求2所述的经涂覆的透明层,其中所述受压缩应力的层包括氮氧化硅,并且其中所述附加受压缩应力的层包括氮化硅。
4.根据权利要求1所述的经涂覆的透明层,其中所述受压缩应力的层包括氮氧化硅。
5.根据权利要求1所述的经涂覆的透明层,其中所述玻璃陶瓷的层包括相对的化学强化的第一表面层和第二表面层。
6.根据权利要求5所述的经涂覆的透明层,其中化学强化的所述第一表面层薄于化学强化的所述第二表面层。
7.根据权利要求6所述的经涂覆的透明层,其中所述涂层位于化学强化的所述第一表面层上。
8.根据权利要求7所述的经涂覆的透明层,其中所述受压缩应力的层包括氮氧化硅层,并且其中所述渐变组合物层具有根据穿过所述渐变组合物层的距离从氮氧化硅变化到氧化硅的组合物。
9.根据权利要求8所述的经涂覆的透明层,还包括:
10.根据权利要求9所述的经涂覆的透明层,其中所述抗反射涂层包括具有相应的第一折射率值和第二折射率值的交替的第一电介质的层和第二电介质的层。
11.根据权利要求10所述的经涂覆的透明层,其中所述第一电介质包括氮氧化硅。
12.根据权利要求11所述的经涂覆的透明层,其中所述第二电介质包括氮化硅。
13.根据权利要求1所述的经涂覆的透明层,其中所述玻璃陶瓷的层包括相对的非对称化学强化的第一表面层和第二表面层,其中化学强化的所述第一表面层与化学强化的第二层相比具有更小的压缩应力。
14.一种电子设备,包括:
15.根据权利要求14所述的电子设备,其中所述涂层包括具有受压缩应力的电介质层的防刮擦层以及位于所述受压缩应力的电介质层与所述第一表面层之间的渐变组合物层。
16.根据权利要求15所述的电子设备,其中所述受压缩应力的电介质层具有相对的第一表面和第二表面,其中所述渐变组合物层具有相对的第一表面和第二表面,其中所述渐变组合物层的所述第一表面接触受压缩应力的层的所述第二表面,其中所述渐变组合物层的所述第二表面面向所述第一表面层,其中所述防刮擦层的特征在于所述受压缩应力的电介质层的所述第一表面处的第一压缩应力量,并且特征在于所述渐变组合物层的所述第二表面处的第二压缩应力量,并且其中所述第二压缩应力量比所述第一压缩应力量小至少20%。
17.根据权利要求16所述的电子设备,其中所述第一压缩应力量为至少400mpa。
18.根据权利要求17所述的电子设备,其中所述受压缩应力的电介质层包括硅和氮。
19.根据权利要求18所述的电子设备,其中所述受压缩应力的电介质层包括氧。
20.根据权利要求19所述的电子设备,其中所述渐变组合物层的所述第二表面接触所述第一表面层。
21.根据权利要求20所述的电子设备,其中所述化学强化的层包括陶瓷硬化玻璃的化学强化的层,并且其中所述涂层包括疏油层并且包括位于所述疏油层与所述防刮擦层之间的抗反射层。
22.根据权利要求14所述的电子设备,其中所述化学强化的层具有至少0.9mpa-m1/2的断裂韧度。
23.一种由外部区域围绕并且具有内部区域的电子设备,所述电子设备包括:
24.根据权利要求23所述的电子设备,其中所述受压缩应力的电介质层包括受压缩应力的氮氧化硅层。
25.根据权利要求24所述的电子设备,其中所述防刮擦涂层还包括受压缩应力的氮化硅层。
26.根据权利要求23所述的电子设备,其中所述受压缩应力的电介质层具有至少1000mpa的压缩应力。
27.一种由外部区域围绕并且具有内部区域的电子设备,所述电子设备包括:
28.根据权利要求27所述的电子设备,其中所述防刮擦涂层具有至少400mpa的压缩应力。
29.根据权利要求28所述的电子设备,其中所述防刮擦涂层还包括: