斗金彩的高硅质高级日用细瓷及其制备方法与流程

本发明属于陶瓷制品的制备方法，具体涉及斗金彩的高硅质高级日用细瓷及其制备方法。

背景技术：

1、日用陶瓷按原料和工艺可分为三大类：细瓷、普通瓷、粗瓷。高级日用细瓷的吸水率不跨越0.5%，热稳定性在180℃投入20℃水中热交换一次不裂，釉面润泽津润，釉色和画面光彩，毛脚在平面上安稳。

2、釉上彩、釉中彩、釉下彩分别是三种不同的主要的陶瓷的装饰手段，釉上彩是先用1200℃-1300℃左右的窑火烧成白瓷坯，用色料创作完画作后，再用800℃进行二次窑烧。釉中彩是将施过釉的坯胎先经800℃低温素烧，然后彩绘，接着又在表面喷一层薄釉，再经1060—1250℃的高温快烧彩烧，时间为90-100min。釉下彩是在素坯上画釉下彩绘，则先把泥坯用800℃烧成素坯，画完、上完釉之后再经1200℃-1300℃左右的窑火烧成。但是釉下彩和釉中彩为最传统的装饰方法，存在以下不足：

3、1、釉下彩和釉中彩烧成温度高，与温度相匹配的色料种类少，影响装饰的丰富度；

4、2、釉下彩和釉中彩表面需要喷一层釉料，会影响色彩的饱和度，与实际效果出现偏差，影响产品的呈现效果；

5、3、釉下彩和釉中彩均需要完成素坯上的彩绘加工后再进行烧成，此方法下无法应用贴花方式进行加工，人工成本高，且如果在烧成阶段出现缺陷，既产生原料浪费又产生手绘的高额人工成本浪费。

6、市面上的高级日用细瓷主要以骨质瓷和镁质强化瓷为主，对高级日用细瓷的装饰方式基本为釉上贴花（即釉上彩），釉上贴花的方式存在以下问题：釉上贴花的操作工艺复杂；釉上彩的色料只是附着在釉面，未与釉面进行有效融合，因此会溶出对人身体健康有影响的铅、镉等元素，不利于环境的发展以及健康环境的提供，且产品画面容易磨损；视觉效果单一，层次感差，无法满足人们当前对于陶瓷实用性和艺术性兼具的追求。

技术实现思路

1、本发明要解决的技术问题是克服现有技术存在的上述缺陷，提供斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，烧成温度低、时间短，无毒环保，所制备的细瓷成色饱满，浅浮雕效果明显，色牢固度高。

2、本发明所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，包括以下步骤：

3、（1）在高硅质高级日用细瓷表面施斗金釉，釉面干燥后进行烧成；

4、（2）在烧结的斗金釉面之上进行图案装饰，预留出装饰图案的轮廓线痕迹；

5、（3）进行低温釉中彩烧成；

6、（4）在低温釉中彩烧成后的产品上沿着预留的图案轮廓线痕迹，进行釉上金线重合装饰；

7、（5）进行高温釉上金烧成，得到斗金彩的高硅质高级日用细瓷。

8、所述步骤（1）的斗金釉的化学元素重量百分比组成为：52-60%sio2、8-15%al2o3、4-6%b2o3、3-7%knao、2-5%zno、11-15%sro、0.1-1%zro2。

9、所述的步骤（3）的低温釉中彩烧成温度为960-1000℃，烧成时间5.5-6h，且釉中彩与釉面的融合厚度大于6μm。

10、所述的步骤（5）的高温釉上金烧成温度为840-860℃，烧成时间3.5-4h，且釉上金与釉面的融合厚度大于1μm。

11、步骤（1）中在高硅质高级日用细瓷素坯表面施斗金釉。

12、步骤（1）斗金釉通过喷釉方式将釉浆均匀的覆盖在坯体表面，喷釉釉浆比重调节为1.6-1.7kg/cm3，釉层厚度为1.5-2mm。

13、步骤（1）的烧成温度为1180-1200℃，时间为10-12h。

14、步骤（2）所述的进行图案装饰为低温釉中彩装饰。

15、步骤（2）中的预留出装饰图案的轮廓线痕迹的工艺为叠印工艺。

16、一种斗金彩的高硅质高级日用细瓷是由所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法制得的。

17、具体的，所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，包括以下步骤：

18、（1）在高硅质高级日用细瓷素坯表面施一层斗金釉，通过喷釉方式将釉浆均匀的覆盖在坯体表面，喷釉釉浆比重调节为1.6-1.7kg/cm3，釉层厚度为1.5-2mm，釉面干燥后1180-1200℃进行烧成10-12h。

19、（2）在烧结的斗金釉面之上进行低温釉中彩图案装饰，通过叠印工艺预留出装饰图案的轮廓线痕迹。

20、（3）进行低温釉中彩960-1000℃烧成5.5-6h，且釉中彩与釉面的融合厚度大于6μm。

21、（4）在低温釉中彩烧成后的产品上沿着叠印工艺预留出的图案轮廓线痕迹，进行釉上金线重合装饰。

22、（5）进行高温釉上金840-860℃烧成3.5-4h，且釉上金与釉面的融合厚度大于1μm，得到斗金彩的高硅质高级日用细瓷。

23、本发明的针对公开号cn115784709a专利中所制备的产品高硅质高级日用陶瓷提供了一种在其素坯上施斗金釉的工艺，斗金釉有较低的始熔温度，在此产品的釉面上能够实现斗金彩的装饰方法，即本发明的低温釉中彩和高温釉上金的复合装饰方法；因为斗金釉的始熔温度低，所以在比传统釉中彩低100℃的情况下实现釉中彩效果，由此成本较低；同样因为斗金釉的始熔温度低，所以在最优830℃时与金进行部分融合，既能防止金在此温度下挥发、又能提高金的附着力，实现金耐磨性的大幅提高。本发明首先在已烧结的釉面上进行再次加工装饰，釉面融合度并不是釉面厚度，而是釉中彩画面和金与釉面在高温阶段的融合厚度，因此只需限定融合厚度的下限值；其次，金的烤制温度上限为830℃，超过后即彻底挥发。本发明提供的斗金釉有较低的始熔温度，可以在830℃时开始部分软化，与金进行部分熔融，防止金挥发，并且增加了金在釉面的附着性。

24、本发明采用低温釉中彩加高温釉上金的复合方法，采用的斗金釉采用sro代替传统釉料工艺中的bao和cao，消除了bao在使用过程中的中毒隐患，在烧结过程中与sio2结合形成的偏硅酸锶熔点低，使斗金釉初熔温度低，在较低的烧成温度下达到釉中融合效果，既保证呈色饱满，又能达到牢固度第1级的标准。

25、与现有技术相比，本发明具有的有益效果是：

26、（1）本发明的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，在960-1000℃烧成的釉中彩，比传统釉中彩烤制温度降低100℃，有效缩短烧成时间、减少能耗，进而降低生产成本。

27、（2）本发明的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，釉上金在850℃时与釉面部分融合，协同斗金釉组分的较低的初熔温度，使得金的附着效果更好，耐磨性是传统装饰金线的20倍。

28、（3）本发明的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，采用的斗金釉的膨胀系数略低于高硅质细瓷坯体，釉料和坯体的最佳匹配状态，为高硅质高级日用细瓷提供了一种成熟的釉料。

29、（4）采用本发明的方法制备的斗金彩的高硅质高级日用细瓷产品，色彩丰富、细腻润泽的釉中彩装饰与光亮华美的釉上金线装饰交相辉映，在视觉上更具有立体感，层次感和丰富性，触觉上突破了传统装饰单一平面化的范式，而具有浅浮雕的艺术效果。