1.一种斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）的斗金釉的化学元素重量百分比组成为：52-60%sio2、8-15%al2o3、4-6%b2o3、3-7%knao、2-5%zno、11-15%sro、0.1-1%zro2。
3.根据权利要求1所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：所述的步骤（3）的低温釉中彩烧成温度为960-1000℃，烧成时间5.5-6h，且釉中彩与釉面的融合厚度大于6μm。
4.根据权利要求1所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：所述的步骤（5）的高温釉上金烧成温度为840-860℃，烧成时间3.5-4h，且釉上金与釉面的融合厚度大于1μm。
5.根据权利要求1所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：步骤（1）斗金釉通过喷釉方式将釉浆均匀的覆盖在坯体表面，喷釉釉浆比重调节为1.6-1.7kg/cm3，釉层厚度为1.5-2mm。
6.根据权利要求1所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：步骤（1）的烧成温度为1180-1200℃，时间为10-12h。
7.根据权利要求1所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：步骤（2）所述的进行图案装饰为低温釉中彩装饰。
8.根据权利要求1所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法，其特征在于：步骤（2）中的预留出装饰图案的轮廓线痕迹的工艺为叠印工艺。
9.一种斗金彩的高硅质高级日用细瓷，其特征在于：是由权利要求1-8任一所述的斗金彩的高硅质高级日用细瓷的制备方法制得的。