专利名称：3-位取代的n-甲基哌嗪的合成方法
技术领域：
本发明涉及3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法，属于医药、化工技术领域。
背景技术：
N-甲基哌嗪是重要的医药中间体，用于制备抗菌类药物甲哌利福霉素、氧氟沙星等；同时，也是抗精神病药三氟拉嗪、氯氮平、西地那非、吐立抗、佐匹克隆等药物的中间体，亦可用于农药、染料、塑料等行业。3-位取代的N-甲基哌嗪可以用来合成抗忧郁、抗肿瘤、和抗菌的药物等，可以采用如下合成路线(JHC1991，28，1219-1224):
权利要求
1.本发明公开了一种3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法，包含以下步骤:(1)3-氧代哌嗪-1-甲酸叔丁酯和碘甲烷发生反应，得到中间体4-甲基-3-氧代哌嗪-1-甲酸叔丁酯；(2)上述所得中间体在碱作用下，得到2-位取代的化合物；(3)上述所得2-位取代的化合物经还原，得到2-位取代的4-甲基哌嗪-1-甲酸叔丁酯；(4)在酸性条件下脱-BOC得到目标化合物。
2.如权利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第一步，其特征在于:所用的甲基化试剂，包含但不限于碘甲烷、硫酸二甲酯等；所用的碱，包含但不限于钠氢、碳酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾、甲醇钠等；反应溶剂为四氢呋喃，也可以为DMF、二氧六环、乙醇-水等；反应温度为O 50°C。
3.如权利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第二步，其特征在于:所用的碱，包含但不限于LiHMDS、NaHMDS, LDA等；反应溶剂为四氢呋喃，也可以为DMF、二氧六环等 ，反应温度为-78V。
4.如权利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第三步，其特征在于:所用的还原剂，包含但不限于硼烷、LiAlH4等；反应溶剂为四氢呋喃，也可以为乙醚、二氯甲烷等；反应温度为-20°C至室温。
5.如权利要求所述3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法第四步，其特征在于:所用的酸，包含但不限于甲磺酸、盐酸、氯化氢、溴化氢和三氟乙酸等；反应溶剂为甲醇，也可以为乙醇、二氯甲烷等；反应温度为室温。
全文摘要
本发明公开了一种3-位取代的N-甲基哌嗪的合成方法，以3-氧代哌嗪-1-甲酸叔丁酯为起始原料发生甲基化反应，然后引入取代基，还原、脱-BOC得到3-位取代的N-甲基哌嗪。本发明方法简便、易操作，适合于大量制备。
文档编号C07D241/04GK103242246SQ20131018988
公开日2013年8月14日 申请日期2013年5月21日 优先权日2013年5月21日
发明者邵东, 邵文祺 申请人:苏州科捷生物医药有限公司