光学零件制造用树脂组合物及其利用的制作方法

文档序号:3621082阅读:130来源:国知局
专利名称:光学零件制造用树脂组合物及其利用的制作方法
技术领域
本发明涉及一种光学零件制造用树脂组合物及其利用。详细而言,本发明涉及一 种将(甲基)丙烯酸当量及规定的重复单元的含有率调整在规定范围内的光学零件制造用 树脂组合物及使用有该树脂组合物的光学零件以及图像显示装置。
背景技术
近年来在显示器行业,无论室内或室外,显示器的用途均日益扩大,例如应用于电 视、个人电脑、手机、数码相机、车载导航、游戏机等。特别是移动设备用显示器的需求显著 扩大,但是存在因阳光或灯光映入画面而导致可视性变差的问题,业内对抗反射技术的需 求非常高。针对所述问题,目前主要使用抗反射涂层(以下称为AR涂层(antireflection coating))。AR涂层是一种在显示器表面形成折射率不同的物质的层压膜,使各层的反射光 相互干涉,由此防止光映入的方法。然而,AR涂层虽然能够降低反射率,但另一方面它具有 波长依赖性,存在层压膜发生色纹的问题。AR涂层的形成方法大致分为使用蒸镀或溅射等干工序的方法和通过喷涂或辊 涂等湿工序来形成AR涂层的方法。前一方法具有以下特征由于主要使用无机系材料,所 以可以形成高折射率层,虽然能够将反射率抑制为较低,但是由于是采用分批处理,因而生 产性较差。另一方面,后一方法具有以下特征由于主要使用有机系材料,所以难以实现高 折射率,导致反射率提高,但是由于可以应用辊对辊(roll-to-roll)方式,因而生产性较 优越。如上所述,AR涂层虽然被应用于广泛的领域,但是从同时提高显示器可视性与生 产性的观点出发,AR涂层并非是充分的方法。为了应对这些问题,专利文献1中提出了具有高抗反射功能的微细凹凸结构体的 技术。另外,专利文献2中提出了耐磨性、耐刮伤性优越的硬涂层剂。(专利文献)专利文献1 日本国专利申请公开公报,“特开2005-331607号公报;2005年12月 2日公开。专利文献2 日本国专利申请公开公报,“特开2003- 号公报;2003年10月 15日公开。

发明内容
但是,专利文献1中记载的具有聚硅氧烷结构的高分子化合物虽然柔软性优越, 但树脂强度及树脂延伸性较差,因而存在耐磨性、耐刮伤性低,在外力下不能保持微细凹凸 结构的问题。另外,专利文献2中记载的组合物的树脂强度较优越,所以在呈平面结构时,具有 耐磨性、耐刮伤性,然而在呈微细凹凸结构时,树脂的柔软性、延伸性较差,因而与专利文献 1中记载的高分子化合物同样,在外力下不能保持微细凹凸结构。
基于以上情况,业内期待开发出一种可替代以上方法的技术。本发明是鉴于所述问题研究而成,本发明的目的在于提供一种将(甲基)丙烯酸 当量及通式1所示的重复单元的含有率调整在规定范围内的光学零件制造用树脂组合物 及使用有该组合物的光学零件以及图像显示装置。本发明者针对能够使树脂固化物具有耐磨性、耐刮伤性和抗压性的树脂组合物进 行了努力研究,结果发现通过调整树脂组合物中所含的(甲基)丙烯酰基的比例以及规定 的重复单元的比例,可以获得能够对适度兼备有硬度和柔软性的树脂固化物进行制备的树 脂组合物,从而完成了本发明。S卩,本发明的光学零件制造用树脂组合物的特征在于含有一种以上的,分子中具 有通式1所示的重复单元及一个以上(甲基)丙烯酰基的化合物,
权利要求
1.一种光学零件制造用树脂组合物,其特征在于含有一种以上的,分子中具有以下通式1所示的重复单元及一个以上(甲基)丙烯酰 基的化合物, [化1]
2.根据权利要求1所述的光学零件制造用树脂组合物,其特征在于 还含有分子中不具有所述重复单元的(甲基)丙烯酸酯化合物。
3.根据权利要求1所述的光学零件制造用树脂组合物,其特征在于 所述重复单元是环氧乙基或者环氧丙基。
4.根据权利要求1所述的光学零件制造用树脂组合物,其特征在于, 所述条件a为所述树脂组合物的(甲基)丙烯酸当量为100以上250以下,且通式1所示的重复单 元的含有率为10重量%以上75重量%以下。
5.根据权利要求1所述的光学零件制造用树脂组合物,其特征在于 含有光聚合引发剂。
6.一种光学零件,其特征在于是通过使权利要求1所述的树脂组合物进行固化等而成的,且具有微细凹凸结构, 所述微细凹凸结构的排列周期为作为反射抑制对象的光的波长的1/2以下。
7.根据权利要求6所述的光学零件,其特征在于 是抗反射膜或抗反射片。
8. 一种图像显示装置,其特征在于 使用有权利要求6所述的光学零件。
全文摘要
本发明提供一种将(甲基)丙烯酸当量及通式1所示重复单元的含有率调整在规定范围内的光学零件制造用树脂组合物及使用有该树脂组合物的光学零件以及图像显示装置。本发明的光学零件制造用树脂组合物含有一种以上的分子中具有通式1所示重复单元及一个以上(甲基)丙烯酰基的化合物,并且(甲基)丙烯酸当量及所述重复单元的含有率满足规定范围。
文档编号C08F290/06GK102046674SQ20098011986
公开日2011年5月4日 申请日期2009年5月15日 优先权日2008年5月30日
发明者中村正树, 北村恭司, 达野阳介 申请人:欧姆龙株式会社
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