专利名称：低迁移性邻苯甲酰基苯甲酸酯的制作方法
技术领域：
本申请涉及低迁移性邻苯甲酰基苯甲酸酯，单独作为光引发剂或与其它光引发剂 混合用于配制含有不饱和碳碳双键类化合物的光固化组合物。
背景技术：
邻苯甲酰基苯甲酸甲酯是一种高效的小分子量自由基型固体光引发剂，主要与叔 胺增效剂共同用于不饱和预聚物(如丙烯酸脂)的UV固化，广泛用于光固化涂料的配方 中。但是，在光固化涂料的实际使用中，人们日益关注小分子量光引发剂在使用中因 分子迁移而产生的污染问题，并尽量在可选择的光引发剂范围内优选低迁移性的光引发 剂，例如在纸张、地板等民用领域，低气味低迁移的涂料使用日益广泛，而食品、药品包装材 料方面制定了更加严格的检测标准来限定分子的迁移量，这些需求将许多小分子量光引发 剂排除在允许使用的清单之外。二苯甲酮，2-羟基-2甲基-苯基-1-丙酮，邻苯甲酰基苯 甲酸甲酯等这些光引发剂由于其分子量小，在光固化组合物施工中及聚合后，都有可能向 接触物或者空气中迁移而造成污染。因此，随着对低迁移性光引发剂需求的不断增加，寻找 既具有良好固化性能，又具有较低迁移性的光引发剂，是市场的迫切需求。在日本专利JP2001064612、JP2001354932、JP2002275441 中，描述了一类邻苯甲 酰基苯甲酸聚乙二醇酯化合物(结构式1)，将其作为光引发剂应用在光固化体系中，以改 善其光固化体系的热稳定性，提高粘合剂的耐热性能。这三篇专利仅对这类化合物的用途 进行了一般性的描述，在实施例的配方中列出了 m= 1，2，3的化合物作为组分之一，但都未 对这类首次出现的新化合物的来源、合成方法、结构表征、性状等任一信息进行任何披露。
权利要求
一种结构式1的化合物，结构式1其中n＝4 10。FSA00000286606900011.tif
2.根据权利要求1的化合物，其中，η= 4。
3.一种混合物，由权利要求1中所述化合物之任意两种以上组成。
4.一种光固化组合物，含有(a)至少一种可以进行自由基聚合的含有不饱和碳碳双键的化合物和(b)至少一种作为光引发剂的根据权利要求1所述的化合物。
5.一种光固化组合物，含有(a)至少一种可以进行自由基聚合的含有不饱和碳碳双键的化合物和(b)作为光引发剂的根据权利要求2所述的化合物。
6.根据权利要求4或5所述的光固化组合物，还含有其它已知光引发剂作为组分(c) 和其他添加剂作为组分(d)，其中组分(C)是二苯甲酮类、α-羟基酮类、α-氨基酮类或酰基氧化膦类之一或其混 和物。
7.根据权利要求4或5的一种组合物，其中组分(b)的重量含量0.1-10%。
8.根据权利要求6所述的组合物，其中组分(b)的重量含量0.1-10%。
全文摘要
本发明披露了一类低迁移性邻苯甲酰基苯甲酸酯化合物，如结构式1所示，式中n为4～10，这类化合物具有良好的光固化性能及非常低的迁移性，可以单独作为光引发剂或与其它光引发剂混合用于不饱和碳碳双键类化合物的光固化过程。结构式文档编号C08F2/48GK101979373SQ20101029440
公开日2011年2月23日 申请日期2010年9月28日 优先权日2010年9月28日
发明者李静, 罗必奎, 赵文超, 闫庆金 申请人:北京英力科技发展有限公司