电子照相用构件的生产方法和涂布液的制作方法
【专利摘要】提供有助于形成高品质电子照相图像的电子照相用构件制造方法。具有导电性基体、弹性层和表面层的电子照相用构件的制造方法，其中，电子照相用构件的制造方法具有：第一步骤，在弹性层的表面上形成由用于形成表面层的涂布液制成的涂膜，该涂布液含有可水解硅烷化合物和由通式(2)表示的螯合钛化合物的水解缩合物；和第二步骤，引起水解缩合物中的环氧基断裂，由此引起水解缩合物交联并形成表面层。
【专利说明】电子照相用构件的生产方法和涂布液
【技术领域】
[0001]本发明涉及电子照相用构件的生产方法和用于形成含有聚硅氧烷的膜的涂布液。
【背景技术】
[0002]近年来，伴随着形成电子照相图像过程的速度的增加，用于电子照相感光构件和充电构件彼此接触的时间已变得相对短。这对稳定和确保电子照相感光构件的带电是不利的。PTLl描述由含有由可水解硅烷化合物和可水解钛化合物形成的缩合物的表面层涂布液形成的表面层增加相对介电常数并改进充电构件的充电性能。
[0003]引用列表
[0004]专利文献
[0005]PTLl:日本专利申请特许公开N0.2011-154353
【发明内容】
_6] 发明要解决的问题
[0007]然而，根据PTLl的涂布液由于其原料的特性倾向于易于与水分反应。因此，对于可水解钛化合物的量和水解中要使用的水的量各自存在合适的范围。例如，当制备涂布液时的可水解的钛化合物的量超过用于增加表面层的相对介电常数的合适的范围时，涂布液易于白浊或引起沉淀。已白浊或已引起沉淀的涂布液的涂膜易于引起起颗粒或厚度不均匀。此外，包括由此类涂膜形成的表面层的充电构件具有由其中相对介电常数不均匀的厚度不均匀得到的部分，这可以用作电子照相感光构件的表面均匀带电的质疑。
[0008]鉴于前述观点，本发明的目的是提供能够提供高品质电子照相图像的电子照相用构件的生产方法。
[0009]此外，本发明的另一目的是提供用于形成抑制白浊或抑制引起沉淀并且可以抑制例如，涂膜形成时出现的涂膜不均匀的含有聚硅氧烷的膜的涂布液。
[0010]用于解决问题的方案
[0011]根据本发明，提供包括导电性基体、弹性层和表面层的电子照相用构件的生产方法，该方法包括:第一步骤，在弹性层的表面上形成含有由以下通式(I)表示的可水解硅烷化合物和由以下通式(2)表示的螯合钛化合物的水解缩合物的表面层涂布液的涂膜；和第二步骤，通过水解缩合物中的环氧基的断裂而使涂膜中的水解缩合物交联以形成表面层。
[0012]通式(I)
[0013]R1-Si (OR2) (OR3) (OR4)
[0014]通式⑵
[0015]
【权利要求】
1.一种电子照相用构件的生产方法，所述电子照相用构件包括导电性基体、弹性层和表面层，其特征在于，所述方法包括: 第一步骤，在所述弹性层的表面上形成含有由以下通式(I)表示的可水解硅烷化合物和由以下通式(2)表示的螯合钛化合物的水解缩合物的表面层形成用涂布液的涂膜；和第二步骤，通过所述水解缩合物中的环氧基的断裂而使所述涂膜中的水解缩合物交联以形成所述表面层，
在通式(I)中，R1表示由以下通式(3)-(6)的任意一种表示的烃基，和民-1?4各自独立地表示烃基； 在通式(2)中，R5和R6各自独立地表示具有I个以上且20个以下碳原子的直链或支链烷基，和R7-Rltl各自独立地表示氢原子、具有I个以上且3个以下碳原子的烷基、或具有I个以上且3个以下碳原子的烷氧基； 通式(3)
通式(5)
在通式(3)-(6)中: Rn-R13、R16-R18, R23, R24, R29和R3tl各自独立地表示氢原子、具有I个以上且4个以下碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基； R14、R15, R19-R22^ R27> R28和R33-R36各自独立地表示氢原子或具有I个以上且4个以下碳原子的烷基； R25> R26> R31和b各自独立地表不氢原子、具有I个以上且4个以下碳原子的烷氧基、或具有I个以上且4个以下碳原子的烷基；和 n、m、l、q、S和t各自独立地表示I以上且8以下的整数，p和r各自独立地表示4以上且12以下的整数，和〃*〃表示与通式(I)中的硅原子的键合位置。
2.根据权利要求1所述的电子照相用构件的生产方法，其中: 所述水解缩合物包含所述由通式(I)表示的可水解硅烷化合物，所述由通式(2)表示的螯合钛化合物，和由以下通式(7)表示的可水解硅烷化合物的水解缩合物: 通式(7)R37-Si (OR38) (OR39) (OR40) 在通式(7)中，R37表示烷基或芳基，和R38-R^1各自独立地表示烃基。
3.根据权利要求1所述的电子照相用构件的生产方法，其中: 所述水解缩合物包含所述由通式(I)表示的可水解硅烷化合物，所述由通式(2)表示的螯合钛化合物，和由以下通式(8)表示的可水解钛化合物的水解缩合物: 通式(8)
T1-(OR41) (OR42) (OR43) (OR44) 在通式⑶中，R41-R44各自独立地表示烃基。
4.根据权利要求1所述的电子照相用构件的生产方法，其中: 所述水解缩合物包含所述由通式(I)表示的可水解硅烷化合物，所述由通式(2)表示的螯合钛化合物，由以下通式(7)表示的可水解硅烷化合物，和由以下通式(8)表示的可水解钛化合物的水解缩合物: 通式(7)
R37-Si (OR38) (OR39) (OR40) 在通式中(7)，R37表示烷基或芳基，和R38-R4tl各自独立地表示烃基； 通式(8)
T1-(OR41) (OR42) (OR43) (OR44) 在通式⑶中，R41-R44各自独立地表示烃基。
5.根据权利要求1-4的任意一项所述的电子照相用构件的生产方法，其中所述由通式(2)表示的螯合钛化合物为二异丙氧基钛双(乙酰丙酮)或二异丙氧基钛双(乙酰乙酸乙酯)。
6.一种涂布液，所述涂布液用于形成含有聚硅氧烷的膜，其特征在于，所述涂布液包含由以下通式(I)表示的可水解硅烷化合物和由以下通式(2)表示的螯合钛化合物的水解缩合物: 通式(I)
在通式(I)中，R1表示由以下通式(3)-(6)的任意一种表示的烃基，和民-1?4各自独立地表示烃基；在通式(2)中，R5和R6各自独立地表示具有I个以上且20个以下碳原子的直链或支链烷基，和R7-Rltl各自独立地表示氢原子、具有I个以上且3个以下碳原子的烷基、或具有I个以上且3个以下碳原子的烷氧基，
在通式(3)-(6)中: Rn-R13、R16-R18, R23、R24, R29和R3tl各自独立地表示氢原子、具有I个以上且4个以下碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基； R14、R15, R19-R22^ R27> R28和R33-R36各自独立地表示氢原子或具有I个以上且4个以下碳原子的烷基； R25> R26> R31和b各自独立地表不氢原子、具有I个以上且4个以下碳原子的烷氧基、或具有I个以上且4个以下碳原子的烷基；以及 n、m、l、q、S和t各自独立地表示I以上且8以下的整数，p和r各自独立地表示4以上且12以下的整数，和〃*〃表示与通式(I)中的硅原子的键合位置。
7.根据权利要求6所述的涂布液，其中，所述由通式(2)表示的螯合钛化合物为二异丙氧基钛双(乙酰丙酮)或二异丙氧基钛双(乙酰乙酸乙酯)。
【文档编号】C08G59/30GK104204961SQ201380018308
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2013年3月15日 优先权日:2012年3月29日
【发明者】铃村典子, 土井孝之, 益启贵, 儿玉真隆, 仓地雅大, 黑田纪明 申请人:佳能株式会社