一种高纯度的替格瑞洛及其制备方法与流程

技术特征：

1.式III所示的(1S,2S,3R,5S)-3-[7-甲氧基-5-(丙硫基)-3H -1,2,3-三唑并[4,5-d]嘧啶-3-基] -5-(2-羟基乙氧基) -1,2-环戊烷二醇，

III。

2.式IV所示的(1S,2S,3R,5S)-3-[7-[[(1R,2R)-2-(3,4-二氟苯基)环丙基]氨基]-5-(丙硫基)-3H -1,2,3-三唑并[4,5-d]嘧啶-3-基]-5-(2-羟基乙氧基)-1,2-环戊二醇，

IV。

3.一种替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.0%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.5%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%。

4.根据权利要求3所述的替格瑞洛组合物，其选自：

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.0%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.5%、0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.1%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.5%、0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.2%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.3%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.4%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.5%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.6%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.7%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.8%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.05%。

5.根据权利要求3所述的替格瑞洛组合物，其选自：

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.0%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.5%、0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.1%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.5%、0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.2%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.3%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.3%、0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.4%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.5%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.2%、0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.6%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.15%、0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.7%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.1%或0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.1%或0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.1%或0.05%；或，

替格瑞洛组合物，其中替格瑞洛的含量不低于99.8%，式III所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.05%，式IV所示杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.05%，其它单个杂质相对于替格瑞洛的含量不高于0.1%或0.05%。

6.一种权利要求3~5中任一项所述替格瑞洛组合物的制备方法，该方法包括：

(1)、将替格瑞洛溶于酯类溶剂中，加入反溶剂析出固体，分离析出的固体；

(2)、将步骤(1)所得的固体溶于酰胺类溶剂或酰胺类溶剂与另外一种或多种适宜溶剂组成的混合溶剂中，冷却或加入反溶剂析出固体，分离析出的固体；

(3)、可选的，将步骤(2)所分离的固体进行干燥。

7.一种权利要求3~5中任一项所述替格瑞洛组合物的制备方法，该方法包括：

(1)、将替格瑞洛溶于酰胺类溶剂或酰胺类溶剂与另外一种或多种适宜溶剂组成的混合溶剂中，冷却或加入反溶剂析出固体，分离析出的固体；

(2)、将步骤(1)所得的固体溶于酯类溶剂中，加入反溶剂析出固体，分离析出的固体；

(3)、可选的，将步骤(2)所分离的固体进行干燥。

8.根据权利要求6或7所述的制备方法，其中，权利要求6所述的制备方法步骤(1)或权利要求7所述的制备方法步骤(2)中所述酯类溶剂为乙酸乙酯、乙酸甲酯、甲酸乙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯或它们的混合物，优选乙酸乙酯或乙酸异丙酯；权利要求6所述的制备方法步骤(2)或权利要求7所述的制备方法步骤(1)中所述酰胺类溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺；权利要求6所述的制备方法步骤(2)或权利要求7所述的制备方法步骤(1)中所述适宜溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇、乙酸乙酯、乙酸甲酯、二氯甲烷、氯仿、丙酮、乙腈、甲苯、水或它们的混合溶剂，优选甲醇、乙醇、异丙醇、乙酸乙酯、二氯甲烷、丙酮、乙腈、水或它们的混合物；权利要求6或权利要求7所述的制备方法步骤(1)和(2)中，所述反溶剂为乙醚、甲基叔丁基醚、异丙醚、正丙醚、2-甲氧基甲烷、1,1-二甲氧基乙烷、苯甲醚、水、正已烷、正庚烷、正辛烷、异辛烷或它们的混合物，优选甲基叔丁基醚、正已烷或异辛烷。

9.一种药物制剂，其包含有效治疗量的权利要求3~5中任一项所述的替格瑞洛组合物或权利要求6~8中任一项所述制备方法制得的替格瑞洛组合物，和药用辅料。

10.权利要求3~5中任一项所述的替格瑞洛组合物或权利要求6~8中任一项所述制备方法制得的替格瑞洛组合物在制备抗凝血或抗血栓药物中的应用。