对电子玻璃表面高附着的UV树脂的改性制备方法与流程

文档序号:12742782阅读:1463来源:国知局

本发明涉及光电显示领域,具体的说,是涉及一种对电子玻璃表面高附着的UV树脂的改性制备方法。



背景技术:

电子玻璃(Electronic glass),一般是指0.1-2mm厚度的超薄浮法玻璃,以钠钙基和硅硼基玻璃为主,广泛应用于电子、微电子、光电子领域的一类高技术产品,用于制作集成电路以及具有光电、热电、声光、磁光等功能元器件的玻璃材料。

UV树脂又称光敏树脂,是一种受紫外线照射后,能在较短的时间内迅速发生物理和化学变化,进而交联固化的低聚物,从而使光固化体系从液态转变为固态。UV树脂是一种相对分子质量较低的感光性树脂,具有可进行UV的反应性基团,如不饱和双键或环氧基等。UV树脂可分为溶剂型UV树脂和水性UV树脂两大类。溶剂型树脂不含亲水基团,只能溶于有机溶剂,而水性树脂含有较多的亲水基团或亲水链段,可在水中乳化,分散或溶解。在光电显示领域,主要采用的是UV聚氨酯丙烯酸酯,将聚氨酯丙烯酸酯固化在PET/PMMA膜材上,制成一些光学膜片,如增亮膜,扩散片,棱镜片,3D光栅膜等。

钠钙基以及硅硼基玻璃的表面能很低。目前,市场上的聚氨酯丙烯酸树酯对电子玻璃表面附着力差,玻璃表面涂层稳定性差、耐热性差等不足。当提高树脂材料的折射率时,对ITO玻璃的附着力更差乃至脱落。因此,在一些非要附着在电子玻璃表面的应用环境中,如3D光栅膜,所采用的工艺方案是:先将UV树脂固化在PET基材上,然后用光学胶将其与玻璃表面粘接起来。

UV树脂层作为3D实现的功能层,与电子玻璃表面间隔了PET基材和光学胶。PET基材和光学胶的存在,不仅会增加材料和工艺成本,而且降低了光学效果。因此,开发一种能在电子玻璃上具有高附着的UV树脂,十分必要。



技术实现要素:

为了克服现有的技术的不足, 本发明提供一种对电子玻璃表面高附着的UV树脂的改性制备方法。

本发明技术方案如下所述:

对电子玻璃表面高附着的UV树脂的改性制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤(1):采用乙醇作为溶剂,加入正硅酸乙酯和去离子水,在第一固定温度下搅拌,使其充分共融;

步骤(2):在步骤(1)制备的溶液中,加入聚氨酯丙烯酸酯单体,并加入氨水作为促进剂,在第二固定温度下搅拌,使其充分反应,生成含有硅氧基的聚氨酯丙烯酸酯单体;

步骤(3):进行溶液提纯,获得UV树脂产物,此时UV树脂单体含有硅氧基,在UV固化下,会产生纳米二氧化硅微球,能与玻璃表面形成紧密粘覆。

进一步的,所述正硅酸乙酯的相对溶剂的质量比为30%-50%。

进一步的,所述去离子水的相对溶剂的质量比为2%-4%。

进一步的,所述步骤(1)中的第一固定温度为60°C-100°C。

进一步的,所述步骤(1)中的搅拌时间为60mins-80mins。

进一步的,所述步骤(2)中的第二固定温度为60°C-100°C。

进一步的,所述步骤(2)中的搅拌时间为24小时以上。

进一步的,所述步骤(3)中的溶液提纯方法为减压旋蒸法。

根据上述方案的本发明,其有益效果在于,本发明对UV树脂进行改性,通过在聚氨酯丙烯酸酯单体中嫁接硅氧基,在紫外光照射下,聚氨酯丙烯酸单体发生聚合,并产生纳米二氧化硅微球,纳米二氧化硅微球具有三维网状结构,活性很强,能与玻璃表面产生强的粘联性,从而提高聚氨酯丙烯酸树脂在玻璃表面的附着性。

具体实施方式

下面结合实施方式对本发明进行进一步的描述:

一种对电子玻璃表面高附着的UV树脂的改性制备方法,通过在聚氨酯丙烯酸酯单体中嫁接硅氧基,在紫外光照射下,聚氨酯丙烯酸单体发生聚合,并产生纳米二氧化硅微球,纳米二氧化硅微球具有三维网状结构,活性很强,能与玻璃表面产生强的粘联性,从而提高聚氨酯丙烯酸树脂在玻璃表面的附着性。具体的工艺步骤如下:

步骤(1):采用乙醇作为溶剂,加入相对溶剂质量30%-50%的正硅酸乙酯,相对溶剂质量2%-4%的去离子水,在60°C -100°C 搅拌60mins-80mins,使其充分共融。

步骤(2):在步骤(1)制备的溶液中,加入聚氨酯丙烯酸酯单体,并加入相对溶剂质量2%-5%的氨水作为促进剂,在60°C-100°C中搅拌24小时以上,使其充分反应,生成含有硅氧基的聚氨酯丙烯酸酯单体。

步骤(3):利用减压旋蒸法,进行溶液提纯,获得UV树脂产物。此时UV树脂单体含有硅氧基,在UV固化下,会产生纳米二氧化硅微球,能与玻璃表面形成紧密粘覆。根据实验测试结果,附着力可达5B以上,同时硬度可达HB以上。

应当理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,而所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

上面对本发明专利进行了示例性的描述,显然本发明专利的实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明专利的方法构思和技术方案进行的各种改进,或未经改进将本发明专利的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围内。

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