1.一种光学防爆膜，其特征在于，按照重量份的原料包括：聚碳酸酯10-80份、紫外发光材料1-25份、紫外线稳定剂3-20份、紫外线吸收剂0.1-18份、抗氧化剂0.01-2份、丙烯酸酯5-85份、粘结剂0.1-5份、稀释剂20-250份、氢氧化锂0.1-5份。
2.根据权利要求1所述的光学防爆膜，其特征在于，按照重量份的原料包括：聚碳酸酯15-75份、紫外发光材料1-20份、紫外线稳定剂4-15份、紫外线吸收剂0.2-15份、抗氧化剂0.05-1.5份、丙烯酸酯10-80份、粘结剂0.3-4份、稀释剂30-220份、氢氧化锂0.2-4份。
3.根据权利要求2所述的光学防爆膜，其特征在于，按照重量份的原料包括：聚碳酸酯20-30份、紫外发光材料1-15份、紫外线稳定剂5-10份、紫外线吸收剂0.5-12份、抗氧化剂0.1-0.5份、丙烯酸酯15-75份、粘结剂0.5-2份、稀释剂40-200份、氢氧化锂0.5-2份。
4.根据权利要求1-3任一所述的光学防爆膜，其特征在于，它的制备过程是：
步骤1)，将聚碳酸酯、紫外发光材料、紫外线稳定剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、丙烯酸酯、粘结剂、稀释剂、氢氧化锂按照重量份称取，在250-350℃下在离心薄膜反应器中进行离心；然后利用双轴卧式反应器进行聚合反应；
步骤2)，将步骤1)中得到的材料加入双螺杆挤出机，在双螺杆挤出机熔融挤出，然后冷却，就能得到光学防爆膜。