一种清洗剂及其制备方法与流程

文档序号:17586595发布日期:2019-05-03 21:22阅读:758来源:国知局

本发明涉及清洗剂技术领域,特别地,涉及一种清洗剂及其制备方法。



背景技术:

随着玻璃加工生产自动化水平不断提高,为实现生产连续化、自动化作业,常规的超声波清洗机被平板式清洗机替代已成为一种趋势。为此,对清洗剂提出了更高的要求,不仅要满足清洗所要求的洁净度,还要防止平板清洗机工作过程中产生大量泡沫以及打滑等问题,而导致停机影响生产的连续性。因此,开发一款既能满足玻璃清洗的洁净度要求,又能保证不影响平板式清洗剂正常工作的低泡清洗剂就迫在眉睫。

众所周知,现有的大多数表面活性剂不耐酸碱性,或在高碱、高盐下发生盐析现象,而不能配制出均一透明的清洗剂,因此目前的强碱性清洗剂几乎不含表面活性剂,从而导致清洗作用比较单一,对于复合型脏污的清洗效果不佳,达不到洁净度要求;同时,对于含有表面活性剂的清洗剂而言,在平板清洗机中极易产生泡沫累积而通常不能满足平板式清洗机的使用要求。



技术实现要素:

为解决以上不足,本发明公开了一种清洗剂,在高碱性条件下不仅具有均一透明的外观、易降解对环境污染小,同时还具有低泡和自消泡特点,完全可以应用平板式清洗机,且对于复合型脏污具有优良的清洗效果。

为实现上述目的,本发明提供了一种清洗剂,所述清洗剂按100份计由以下配比配制而成:无机碱10-20份、螯合剂5-15份、复合表面活性剂5-15份、分散剂0.5-2份、增溶剂0.5-3份、溶剂3-10份,余量为纯水;所述复合表面活性剂为丙二醇嵌段聚醚、表面活性剂tmn-10(中文名称为:支链仲醇聚氧乙烯醚)、异辛基硫酸盐、rhodanop-880、松油中的一种或几种和烷基二苯醚二磺酸盐。

进一步的,所述清洗剂按重量百分比由以下组份配制而成:无机碱10-20%、螯合剂5-15%、复合表面活性剂5-15%、分散剂0.5-2%、增溶剂0.5-3%、溶剂3-10%,余量为纯水。

进一步的,所述复合表面活性剂中烷基二苯醚二磺酸盐在所述清洗剂中的百分含量为0.5~3%。

进一步的,所述烷基二苯醚二磺酸盐的型号为美国陶氏化学阴离子表面活性剂8390。

进一步的,所述无机碱为氢氧化钠以及氢氧化钾中的一种或两种混合。

进一步的,所述螯合剂为乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四乙酸二钠、葡萄糖酸钠、柠檬酸钠以及羟基乙叉二膦酸中的一种或几种。

进一步的,所述分散剂为丙烯酸-马来酸共聚物、聚丙烯酸钠以及聚丙烯酰胺中的一种或几种。

进一步的,所述增溶剂为辛烯基琥珀酸酐以及异构葵酸中的一种或两种。

进一步的,所述溶剂为二乙二醇甲醚、二乙二醇丁醚以及n-甲基吡咯烷酮中的一种或几种。

本发明还提供了一种清洗剂的制备方法,包括以下步骤:

1)按前面所述的一种清洗剂配方准备原料并称重;

2)将无机碱加入纯水中,充分搅拌使其溶解,待完全溶解后,静置冷却降温,得到溶液ⅰ;

3)将螯合剂和分散剂加入溶液ⅰ,充分搅拌至其完全溶解,得到溶液ⅱ;

4)将复合表面活性剂和溶剂加入溶液ⅱ中,充分搅拌,得到溶液ⅲ;

5)将增溶剂加入溶液ⅲ中,得到澄清透明的均相溶液,即得清洗剂。

本发明具有以下有益效果:

本发明提供的一种的清洗剂,采用特定含量的组分,具有较好的协同作用,清洗效果优良,对于磨粉、油污以及复合型脏污有较强的去除能力,且此清洗剂为无泡/低泡,能满足平板式清洗机的清洗要求;同时,此清洗剂浊点可达80℃以上,能在较高温度下使用。其中,洗剂体系中选用的美国陶氏化学阴离子表面活性剂8390(分子式为c24h32o7s2na2)可促进其他表面活性胶束定向排列,提高其他表面活性剂在强碱环境下的溶解性,或同等表面活性剂含量下减少增溶剂的添加量,与8390复配所选的表面活性剂具有降低体系表面张力以及自消泡能力,使得所产生气泡的液膜表面强度极低,气泡形成后就快速破裂,从而达到消泡的目的;同时8390属于双子型结构与非离子表面活性剂复配后可增大活性剂分子间的相互作用,使得浊点较低的非离子表面活性剂胶束在较高温度下也不会析出。

除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将对本发明作进一步详细的说明。

具体实施方式

以下对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。

实施例1

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠3.3%、氢氧化钾6.7%、乙二胺四乙酸四钠4%、柠檬酸钠3%、丙二醇嵌段聚醚3%、83903%、聚丙烯酸钠1%、辛烯基琥珀酸酐1%、二乙二醇丁醚3%、其余为纯水。

该清洗剂的制备方法,按以下步骤配制:

1)准备以上原材料并称重;

2)将氢氧化钠和氢氧化钾加入纯水中,充分搅拌使其溶解,待完全溶解后,静置冷却降温,得到溶液ⅰ;

3)将乙二胺四乙酸四钠、柠檬酸钠和聚丙烯酸钠加入溶液ⅰ,充分搅拌至其完全溶解,得到溶液ⅱ;

4)将丙二醇嵌段聚醚、8390和二乙二醇甲醚加入溶液ⅱ中,充分搅拌,得到溶液ⅲ;

5)将辛烯基琥珀酸酐加入溶液ⅲ中,得到澄清透明的均相溶液。

按上述配比配制的应用于平板式清洗机的高碱高表面活性的无泡清洗剂,外观具有高的透明度,应用于平板清洗机中泡沫较低,清洗效果好,可以在2分钟内将玻璃表面的磨粉和油性脏污清洗干净。

实施例2

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠5%、氢氧化钾10%、乙二胺四乙酸二钠4%、柠檬酸钠3%、羟基乙叉二膦酸1%、丙二醇嵌段聚醚8%、83902%、聚丙烯酸钠1%、异构葵酸1.5%、n-甲基吡咯烷酮3%、其余为纯水。

具体配制方法同实施例1。

实施例3

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠3.3%、氢氧化钾6.7%、葡萄糖酸钠4%、乙二胺四乙酸四钠1%、羟基乙叉二膦酸1%、丙二醇嵌段聚醚3%、异辛基硫酸盐3%、83900.5%、rhodanop-8804%、丙烯酸-马来酸共聚物0.5%、辛烯基琥珀酸酐2%、二乙二醇丁醚5%、其余为纯水。

具体配制方法同实施例1。

实施例4

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钾20%、葡萄糖酸钠4%、乙二胺四乙酸四钠3%、柠檬酸钠3%、松油3%、83902%、tmn-101%、rhodanop-8803%、聚丙烯酰胺1%、辛烯基琥珀酸酐2.5%、二乙二醇丁醚3%、其余为纯水。

具体配制方法同实施例1。

对比例1:(复合表面活性剂含量低于5%)

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠3.3%、氢氧化钾6.7%、乙二胺四乙酸四钠4%、柠檬酸钠3%、丙二醇嵌段聚醚2%、83901%、聚丙烯酸钠1%、辛烯基琥珀酸酐1%、二乙二醇丁醚3%、其余为纯水。

具体配制方法同实施例1。

对比例2:(复合表面活性剂含量高于15%)

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠3.3%、氢氧化钾6.7%、乙二胺四乙酸四钠4%、柠檬酸钠3%、丙二醇嵌段聚醚14%、83903%、聚丙烯酸钠1%、辛烯基琥珀酸酐1%、二乙二醇丁醚3%、其余为纯水。

具体配制方法同实施例1。

对比例3:(8390含量高于3%)

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠3.3%、氢氧化钾6.7%、乙二胺四乙酸四钠4%、柠檬酸钠3%、丙二醇嵌段聚醚10%、83903.5%、聚丙烯酸钠1%、辛烯基琥珀酸酐1%、二乙二醇丁醚3%、其余为纯水。

对比例4:(不添加8390)

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠3.3%、氢氧化钾6.7%、乙二胺四乙酸四钠4%、柠檬酸钠3%、丙二醇嵌段聚醚3%、异辛基硫酸盐3%、丙烯酸钠1%、辛烯基琥珀酸酐1%、二乙二醇丁醚3%、其余为纯水。

对比例5:(8390含量低于0.5%)

一种清洗剂,按重量百分比由以下组份配制而成:

氢氧化钠3.3%、氢氧化钾6.7%、乙二胺四乙酸四钠4%、柠檬酸钠3%、丙二醇嵌段聚醚3%、异辛基硫酸盐3%、83900.3%、丙烯酸钠1%、辛烯基琥珀酸酐1%、二乙二醇丁醚3%、其余为纯水。

具体配制方法同实施例1。

针对上述实施例1-4和对比例1-4配制的清洗剂进行各项指标测试,详见表1。

由表1可以看出:本发明按一定的配比配制的一种清洗剂,外观具有高的透明度,颜色鲜亮,泡沫量极少,对玻璃表面的重磨粉及油污有良好的清洗效果,清洗效率高达97%以上,且清洗时间短。而且,当复合表面活性剂在所述清洗剂中的百分含量低于5%时,由于洗剂均为稀释后使用,表面活性剂总量降低,稀释后洗剂中有效表面活性剂减少,导致清洗效率变慢,对油性脏污的去除能力下降,需延长清洗时间或不能满足清洗洁净度要求。当复合表面活性剂在所述清洗剂中的百分含量高于15%时,8390不能在高碱条件下对其它表面活性剂起到增溶作用,从而导致其它表面活性剂在高碱下发生盐析,不能满足平板清洗机的使用要求。当复合表面活性剂复合表面活性剂中8390在所述清洗剂中的百分含量高于3%时,泡沫量明显增大且消泡速率降低,主要为泡沫产生的速率高于消泡的速率,不能满足平板清洗机的使用要求。当不添加8390或其含量低于0.5%时,同样会导致其它表面活性剂会在高碱下发生盐析,不能配制得到均一的清洗剂体系。

综上所述,本发明提供的一种的清洗剂,采用特定含量的组分,具有较好的协同作用,清洗效果优良,对于磨粉、油污以及复合型脏污有较强的去除能力,且此清洗剂为无泡/低泡,能满足平板式清洗机的清洗要求;同时,此清洗剂浊点可达80℃以上,能在较高温度下使用。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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