非共沸清洁组合物的制作方法

背景技术：

发明领域

本发明涉及一种清洁组合物以及使用其的清洁方法和清洁装置，该清洁组合物为适用于清洁精密机械零部件诸如半导体相关零部件和光学相关零部件的非共沸混合物。

相关技术描述

在例如精密机械零部件(诸如半导体相关零部件)的领域中，随着半导体装置中的电路图案和多层布线的精细化、高密度和高集成度的进步，在半导体装置的电路图案中被认为有缺陷的尺寸逐步变得极其小，并且微小(痕量的)污染物诸如颗粒(外来微粒)、金属杂质、或化学污染物对半导体产品的产量或可靠性具有越来越大的影响。在颗粒的情况下，甚至极细小的亚微米尺寸(1μm或更小)的颗粒在粘附到晶片表面时也可引起导致较差质量的缺陷，并因此需要去除甚至亚微米尺寸的颗粒。

清洁精密机械零部件诸如半导体相关零部件或光学相关零部件上的污染物诸如颗粒的步骤通常包括两阶段步骤，其中，在将零部件浸入清洁槽(液体层)中并且在配备有填充清洁剂的清洁槽(液体层)和蒸馏槽(蒸汽生成槽)的蒸汽清洁装置中经受超声清洁之后，将零部件拉出并且用清洁热蒸汽清洗，该清洁热蒸汽通过用由蒸馏槽(蒸汽生成槽)生成的蒸汽所形成的清洗层(蒸汽层)在零部件的表面上凝结而产生(美国3881949)。超声清洁步骤和清洗步骤中使用的清洁剂为相关领域中的氟基有机溶剂。因为氟基有机溶剂通常具有高绝缘特性，当单独使用时，由于静电而趋于发生再附着，这导致清洁能力下降，并因此将水性有机溶剂诸如醇与清洁剂混合。

由此类混合物形成的清洁组合物优选地不在清洁步骤的使用期间分馏，使得液体层和蒸汽层的组成不改变，并且由于它们的相对高的价格，存在着对氟基有机溶剂再利用的强烈需求。因此，普逦的技术知识是，清洁组合物为使用期间或回收时的蒸馏期间不分馏的组合物-即具有恒定沸点以及在沸腾或蒸发时混合物不发生分馏的特性的共沸混合物(jp5784591b和jp2017-110034a)。

然而，近年来，在精密机械零部件领域中存在着去除极细小的亚微米尺寸的颗粒的需求，但是采用由氟基有机溶剂和醇的此类共沸混合物制成的清洁组合物去除此类极细小颗粒的效果是不足的。

因此，需要一种改善的清洁组合物，其适于清洁精密机械零部件，并且能够有效地去除零部件表面上甚至极细小的亚微米尺寸的颗粒。此外，清洁组合物中所含的氟基有机溶剂优选地具有较小的环境负担，并且可符合各个国家的法律法规。

技术实现要素：

作为进行专门研究以解决上述已知技术问题的结果，本发明人发现，包含两种类型的具有不同沸点的氟基有机溶剂和水性有机溶剂的三元非共沸混合物具有适于清洁精密机械零部件的高清洁能力，并且可用作表现出较小环境负担以及优异的安全性和经济效益的清洁组合物，并且本发明人由此完成了本发明。

关于本发明，可提供适用于清洁精密机械零部件诸如半导体相关零部件和光学相关零部件的清洁组合物，并且特别地，零部件表面上甚至极细小的亚微米尺寸(1μm或更小)的颗粒能够被去除。

此外，关于本发明，即使当使用步骤中存在蒸馏操作时，也可使组分组成的变化最小化，并因此可保持组合物的特性，并且可提供便于回收或再利用组合物的经济有效的清洁组合物。

另外，关于本发明，可提供臭氧消耗潜能值为0且全球变暖潜能值非常低的清洁组合物，并且可提供引燃风险较低且安全性优异的清洁组合物。

附图说明

在附图中示出实施方案以改善对本文所呈现的概念的理解。图1是示出对实施例1的三元非共沸混合物而言第一清洁槽(液体层)的组成的图。图1是示出对实施例1的混合物而言第二清洁槽的组成随时间推移的图。

具体实施方式

本文描述了一种清洁组合物，其包含50重量％至80重量％的z-1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯，10重量％至30重量％的甲基全氟庚烯醚，以及5重量％至25重量％的乙醇，其中清洁组合物是非共沸的。在另一个实施方案中，组合物包含50重量％至70重量％的z-1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯，15重量％至30重量％的甲基全氟庚烯醚，以及10重量％至20重量％的乙醇。在一些实施方案中，组合物是非共沸的，使得组合物的泡点压力与组合物的露点压力之间的差值大于所述泡点压力的50％。

还描述了一种使用包含50重量％至80重量％的z-1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯、10重量％至30重量％的甲基全氟庚烯醚、以及5重量％至25重量％的乙醇的组合物在清洁槽(液体层)中清洁具有颗粒污染物的物体，并且用清洗层(蒸汽层)清洗的方法，其中清洁槽(液体层)与清洗层(蒸汽层)之间的温差不小于20℃。

多个方面和实施方案已在上文有所描述并且仅是示例性的而非限制性的。在阅读本说明书之后，技术人员理解，在不脱离本发明的范围的情况下，其他方面和实施方案是可能的。

根据以下详细描述和权利要求，任何一个或多个实施方案的其他特征和益处将是显而易见的。

如本文所用，术语“包含”、“包括”、“具有”或它们的任何其它变型旨在涵盖非排它性的包括。例如，包括要素列表的过程、方法、制品或设备不必仅限于那些要素，而是可包括未明确列出的或此类过程、方法、制品或设备固有的其它要素。此外，除非明确指明相反，“或”是指包容性的或且不是排他性的或。例如，条件a或b满足以下条件中的一个：a为真(或存在)且b为假(或不存在)，a为假(或不存在)且b为真(或存在)，以及a和b两者都为真(或存在)。

过渡性短语“由...组成”不包括任何未指定的要素、步骤或成分。如果在权利要求中，那除了通常与之相关联的杂质之外，将不包括对除了所述的那些材料之外的材料的保护。当短语“由...组成”出现在权利要求的主体的从句中，而不是紧接在前序部分之后时，它只限制该从句中所述的要素；其它要素并不排除在整个权利要求之外。

如本文所用，短语“基本上由...组成”旨在涵盖部分排他性包含。例如，基本上由要素组成的组合物、方法、过程或设备不限于仅那些要素，但可仅包括不实质改变组合物、方法、过程或设备的预期有利特性的其他要素。

此外，采用“一个”或“一种”的用途来描述本文所述的要素和组分。这只是为了方便起见，并且给出了本发明范围的一般意义。该描述应该被理解为包括一个或至少一个，并且单数也包括复数，除非显然有另外的含义。

除非另有定义，本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属领域中的普通技术人员通常理解的相同的含义。尽管类似于或等同于本文所描述的方法和材料的方法和材料可用于本发明的实施方案的实践或测试中，但是在下面描述了合适的方法和材料。除非引用特定的段落，否则本文提及的所有出版物、专利申请、专利和其它参考文献全文以引用方式并入本文。如发生矛盾，以本说明书及其所包括的定义为准。此外，材料、方法和示例仅为示例性，并非旨在限定。

本发明的清洁组合物包含：组分a，其为氢氟烃、氢氟醚、氢氟烯烃、或氢氟烯烃；组分b，其为具有比组分a更高的沸点的氢氟烃、氢氟醚、氢氟烯烃、或氢氟烯烃；以及组分c，其为水性有机溶剂；其中清洁组合物是非共沸的。

用于本发明的氢氟烃(hfc)为含有碳、氢和氟的化合物。氢氟醚(hfe)为含有碳、氢和氟并且还含有醚键的化合物。氢氟烯烃(hfo)为含有碳、氢和氟并且还含有双键的化合物。氢氟烯烃(hcfo)为含有碳、氢、氟和并且还含有双键的化合物。

在一个实施方案中，本发明中所用的组分a优选地为具有优选地3至6个碳，并且更优选地3至5个碳的氢氟烃(例如1，1，1，2，2，3，4，5，5，5-十氟戊烷或1，1，2，2，3，3，4，4-八氟丁烷)、氢氟醚(例如甲基全氟丙基醚或九氟丁基甲基醚)、氢氟烯烃(例如z-1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯(hfo-1336mzzz)、1，1，1，2，4，4，5，5，5-九氟-2-戊烯、1，1，1，3，4，4，5，5，5-九氟-2-戊烯、或(2e)-1，1，1，4，5，5，5-七氟-4-三氟甲基-2-戊烯)、氢氟烯烃(例如顺式-1--3，3，3-三氟丙烯)等。其中，由于接近室温的沸点和在低温下表现出超声效应的能力，氢氟烯烃是特别优选的。在一个实施方案中，氢氟烯烃为hfo-1336mzzz、1，1，1，2，4，4，5，5，5-九氟-2-戊烯和1，1，1，3，4，4，5，5，5-九氟-2-戊烯中的一种。在另一个实施方案中，氢氟烯烃为hfo-1336mzzz。

在一个实施方案中，组分a的沸点优选地为25℃至65℃。在另一个实施方案中，氢氟烯烃的沸点为30℃至40℃。当沸点过低时，蒸汽层中组分a的含量增加，并因此蒸汽层温度降低，待清洁物体的表面上的凝结量减少，并且蒸汽清洗效果下降。当沸点过高时，清洁槽中组分a的含量减少，并且清洁槽中组合物的沸点升高。当尝试低温清洁时，溶氧浓度增加并且超声效应降低，这导致清洁性能降低。

在一个实施方案中，本发明中所用的组分b为氢氟烃(例如1，1，1，2，2，3，3，4，4，5，5，6，6-十三氟辛烷、1，1，1，2，3，4，4，5，5，6，6，7，7，7-十四氟庚烷、或1，1，1，2，2，3，4，5，5，6，6，7，7，7-十四氟庚烷)、氢氟醚(例如1，1，1，2，2，3，4，5，5，5-十氟-3-甲氧基-4-(三氟甲基)戊烷或七氟丙基-2-(1，2，2，2-四氟乙氧基)-1-三氟甲基-1，2，2-三氟乙基醚)、氢氟烯烃(例如甲氧基全氟庚烯、1，1，1，2，2，5，5，6，6，7，7，7-十二氟-3-戊烯、或1，1，1，2，2，3，3，6，6，7，7，8，8，8-十四氟-4-辛烯)、或氢氟烯烃(例如2--3，3，4，4，5，5，6，6，6-九氟-1-己烯或1--3，3，4，4，5，5，6，6，6-九氟1-己烯)。在一个实施方案中，组分b为氢氟烯烃。在一个实施方案中，组分b具有比组分a更高的沸点。在一个实施方案中，氢氟烯烃具有3至9个碳。在另一个实施方案中，氢氟烯烃具有5至8个碳。其中，甲氧基全氟庚烯或1，1，1，2，2，3，3，6，6，7，7，8，8，8-十四氟-4-辛烯是优选的，并且甲氧基全氟庚烯是特别优选的。

在一个实施方案中，组分b的沸点为65℃至120℃。在另一个实施方案中，组分b的沸点为100℃至120℃。当沸点过高时，从蒸馏槽(蒸汽生成槽)挥发的组分b的量减少，维持蒸汽层形成所需的蒸汽的量减少，从而最终蒸汽清洗效果可能下降。这通过增强蒸馏槽(蒸汽生成槽)的加热器以维持蒸汽层形成来解决，但这由于加热器能力增强而导致功耗增加，并且由于蒸汽层温度增加而对待清洁物体的材料有影响。此外，当清洁槽中组分b的含量增加并且清洁槽的沸点升高时，溶氧量增加，这使超声效应下降。当增加清洁槽的温度以避免这种情况时，待清洁的物体受到影响。当温度变得过高时，冷却步骤在后续步骤之间变得必要，并且随着蒸汽层温度和清洁槽温度升高，冷凝管的增强也变得必要。当沸点过低时，蒸汽层温度降低，并且凝结量相应地减少，这导致蒸汽清洗效果降低。

在一个实施方案中，本发明中所用的组分c的水性有机溶剂为水性有机溶剂，其示例包括醇(例如，甲醇、乙醇、异丙醇(ipa)、1-丙醇、丁醇、乙二醇和甘油)、醚(例如，二乙醚(不完全相容)、二甲醚、乙基甲基醚和四氢呋喃)、酮(例如，丙酮和甲基乙基酮)、醛(例如，乙醛和丙醛)、酯(例如，乙酸甲酯和乙酸乙酯)、以及羧酸(例如，甲酸和乙酸)。在一个实施方案中，水性有机溶剂为醇。在另一个实施方案中，水性有机溶剂为乙醇或ipa。在另一个实施方案中，水性有机溶剂为乙醇。可通过添加组分c来降低清洁组合物的体积电阻率，以抑制颗粒因静电而附着或再附着。

在一个实施方案中，组分c的沸点为30℃至120℃。在另一个实施方案中，组分c的沸点为70℃至90℃。当沸点过高时，蒸汽温度升高，并且担心损坏精密电子装置或光学零部件-其为本发明中要清洁的主要对象。另外，干燥需要更多的热量或时间，并因此清洁后的干燥效率下降。当沸点过低时，组分在大约室温下蒸发，并因此在常温下的处理减少。

在一个实施方案中，本发明的清洁组合物可根据需要包含稳定剂。组合物可包含选自硝基烷烃、环氧化物、呋喃、苯并三唑、酚、胺和磷酸盐中的至少一种类型作为稳定剂。稳定剂可适当地选自于已知氟烃中所用的稳定剂。这些稳定剂的配混量为相对于组合物计0.01重量％至5重量％，并且优选地0.05重量％至0.5重量％。

根据目的，可在不抑制本发明效果的范围内添加第三氟基有机溶剂和第四氟基有机溶剂或水性有机溶剂。此外，例如当有机外来物质诸如抗蚀剂与微粒一同存在时，可添加对其具有强亲和力的氟基有机溶剂，目的是去除这些组分。

在一些实施方案中，本发明的清洁组合物为组分a、b和c的三元非共沸混合物。在本发明中，非共沸组合物是指未表现出共沸或类似行为(类共沸)的组合物。

表现出共沸性的组合物(共沸组合物)是两种或更多种不同组分的混合物，并且是当在给定压力下呈液体形式时，在可高于或低于相应组分的沸腾温度的基本上恒定的温度下沸腾的组合物，并且该组合物提供在沸腾期间基本上与总体液体组合物相同的蒸汽组成(例如参见m.f.doherty和m.f.malone，conceptualdesignofdistillationsystems，mcgraw-hill(newyork)，2001，185-186，第351-359页)。

出于该讨论的目的，近共沸组合物意指行为类似共沸物的组合物(即在沸腾或蒸发时具有恒沸特征或不可分级的趋势)。因此，沸腾或蒸发期间形成的蒸气的组成与初始液体组成相同或基本上相同。从而，在沸腾或蒸发期间，如果液体组成发生变化，则其仅在最低或可忽略的程度上发生变化。这与沸腾或蒸发期间液体组成在显著程度上变化的非共沸组合物形成对比。

近共沸组合物表现出几乎无压差的露点压力和泡点压力，也就是说，在给定温度下露点压力和泡点压力的差值将为较小值。可以说，露点压力和泡点压力的差值小于或等于3％(基于泡点压力)的组合物可被视为近共沸的。在其他实施方案中，近共沸组合物表现出小于或等于5％(基于泡点压力)的露点压力和泡点压力的差值。

还认识到，当共沸或近共沸液体组合物在不同压力下经受沸腾时，共沸或近共沸液体组合物的各组分的沸点和重量百分比可以变化。因此，共沸或近共沸组合物可根据组分间存在的独特关系，或者根据组分的组成范围，或者根据以特定压力下的固定沸点为特征的组合物的各组分的确切重量百分比进行定义。

另外，在该领域中公认的是，当给定系统的相对挥发性接近1.0时，将该系统定义为形成共沸或类共沸组合物。相对挥发性是组分2的挥发性与组分1的挥发性之比。液体形式的组分的摩尔分数与蒸汽形式的组分的摩尔分数之比是该组分的挥发性。

本文所述的清洁组合物的计算值示出，在25℃下，泡点压力和露点压力之间的差值为72.9％。相同的计算示出，在50℃下，泡点压力与露点压力之间的差值为57.0％。显然，该清洁组合物是非共沸或类共沸的。

在一个实施方案中，本发明的清洁组合物可为组分a、b和c的三元非共沸混合物。从组合物稳定性的角度来看，优选组分a和组分c能够形成共沸组合物，并且组分b和组分c能够形成共沸组合物。在这种情况下，即使当蒸馏槽(蒸汽生成槽)的组成偏离时，清洗层(蒸汽层)和清洁槽的组成也可保持恒定。相反地，组成的偏差仅发生在蒸馏槽中，可以说蒸馏槽因此履行缓冲器的作用。

在一个实施方案中，本发明的清洁组合物中所含的组分a、b和c的配混量不受特别限制，只要该组合物是非共沸的即可。在另一个实施方案中，相对于组合物计，组分a的含量为50重量％至80重量％，组分b的含量为10重量％至30重量％，并且组分c的含量为5重量％至25重量％。

当组分a的含量过小时，蒸汽层和清洁槽的主要组分变成组分b和c，并且当组分b和c不能形成共沸性时，组分c变成主要组分。因此，当使用醇等作为组分c时，蒸汽层中的引燃风险升高。另外，损失了包括低粘度、低表面张力和高密度在内的特性，这些特性为组分a和b的氟基溶剂的特征以及用于去除和清洁清洁槽中的颗粒的关键因素，这导致了清洁性能降低。另一方面，当组分a的含量过高并且使用醇等作为组分c时，大部分醇内容物通过与组分a共沸而循环，并且组分b保留在蒸汽生成槽(沸腾槽)内部而不能与醇形成共沸化合物。也就是说，存在于蒸汽层中的组分b的量减少，并且蒸汽层温度下降，这导致最终清洗步骤中蒸汽凝结的量减少并且清洗效果下降。

当组分b的含量过低时，蒸汽温度变低，清洁槽与蒸汽层之间的温差变小，并且蒸汽清洗效果下降。此外，湿气容易被吸入大气环境中，这导致质量下降。另一方面，当组分b的含量过高时，蒸汽温度升高，并且担心损坏精密机械零部件-其为本发明要清洁的主要对象。

当组分c的含量过低时，静电的抑制变得不足，并且清洁能力由于污染物的再附着而下降。另外，当在清洁过程期间从大气环境等混入的湿气沉积在待清洁的物体上时，湿气不被组分c即水性有机溶剂溶解，并且这可导致湿气保留在待清洁的物体表面上的问题。当组分c的含量过高时，组合物变得易燃，这导致关于安全性的担忧。此外，组合物的粘度或表面张力增大，并且清洁效果下降，而清洁效果也可通过组合物的比重的降低而下降。

本发明的清洁组合物优选地为环境可允许的，并且不对地球平流层中臭氧层的消耗作出贡献。组分a、组分b、以及本发明的清洁组合物具有较小的臭氧消耗潜能值(odp)，优选地不大于约0.1，更优选地不大于约0.05，甚至更优选地不大于约0.02，并且最优选地约0：和/或不大于约100、优选地不大于约50、并且更优选地不大于约10的全球变暖潜能值(gwp)。该组合物优选地满足odp和gwp这两个标准。

本说明书中使用的odp在世界气象协会(worldmeteorologicalassociation)报告“scientificassessmentofozonedepletion，2002”(以引用方式并入本说明书)中有所定义。

本说明书中使用的gwp相对于二氧化碳在100年的时间范围内进行定义，并且在与上述odp相关的相同参考文献中有所定义。

本发明的清洁组合物可用于清洁例如精密机械零部件，诸如半导体相关零部件、光学相关零部件、电子零部件、或经表面处理的零部件，特别是用于清洁半导体相关零部件或光学相关零部件上的颗粒(外来颗粒)、油、亚麻等。特别地，可有效地移除零部件表面上极细小的亚微米尺寸(1μm或更小)的颗粒。

已在相关领域中使用的方法，诸如常温清洁方法中的擦除、浸没、刷清洁、冲洗、喷涂、或超声清洁，或者热清洁方法中的浸没、蒸汽清洗、或蒸汽清洁，可以作为清洁方法使用，并且适当地组合这些方法能够实现甚至更有效的清洁。本发明的清洁组合物可特别适用于超声清洁、蒸汽清洗、以及蒸汽清洁。

在一个实施方案中，本发明的清洁方法包括：清洁步骤，即将待清洁的物体浸入洗涤槽(液体层)中，并且在配备有填充本发明的清洁组合物的清洁槽(液体层)和蒸馏槽(蒸汽生成槽)的洗涤装置中进行超声清洁；以及清洗步骤，即在清洁步骤之后将物体上拉，并且用由从蒸馏槽(蒸汽生成槽)生成的蒸汽所形成的清洗层(蒸汽层)清洗。在清洗步骤中，清洁效果通过在待清洁物体表面上凝结所产生的清洁热蒸汽来实现。

在一个实施方案中，清洁槽的温度优选地为15℃至35℃。在另一个实施方案中，清洁槽的温度为20℃至25℃。在一个实施方案中，蒸汽清洗层的温度为35℃至65℃。在另一个实施方案中，蒸汽清洗层的温度为40℃至60℃。

在一个实施方案中，清洁槽与清洗层之间的温差不小于20℃。在另一个实施方案中，清洁槽与清洗层之间的温差不小于30℃。

此外，因为本发明的组合物包含大量的不可燃氟基有机溶剂(组分a和b)(优选地不小于75重量％)，组合物可表现出较低易燃性和优异的安全性。

实施例

本文描述的概念将在以下实施例中进一步描述，这些实施例不限制权利要求中描述的本发明的范围。

组分a

z-1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯(hfo-1336mzzz)(opteon1100，购自chemourscorporation，沸点：33℃)

组分b

甲氧基全氟庚烯(opteonsf10，购自mitsuidupontfluorochemicalsco.，ltd.，沸点：110.5℃)

组分c

乙醇(wako等级1，沸点：78.37℃)

在实施例和比较例中使用以下方法。

颗粒去除率测量方法

将2ml的通过使1g的切割不锈钢(sus)板所产生的sus粉末分散到100ml的ipa(wakospecialgrade)中获得的分散体滴到可商购获得的6英寸裸硅晶片(购自advancedmaterialstechnology)上，同时使用涂布机(polos多用途旋涂机，购自kyodointernational，inc.)在1000rpm至2000rpm下旋转晶片，以制备被颗粒污染的硅晶片。

使用晶片测试仪(ypi-mx-θ，购自ygkcorporation)对晶片上金属颗粒的数量(颗粒计数)进行计数。

然后，在以下条件下，用蒸气去污机(sk-14y-1617双槽式清洁机，购自ympcorporation)洗涤晶片。

条件：

·超声频率：170khz(第一清洁槽和第二清洁槽)

·超声输出：150w(第一清洁槽)，250w(第二清洁槽)

·超声清洁时间：120秒(第一清洁槽和第二清洁槽)

·蒸汽清洁时间：60秒

在洗涤之后，用晶片测试仪对晶片上的颗粒数量类似地计数，并且将洗涤前后颗粒计数的差值用作颗粒去除率。

用于测量清洁组合物中的组成随时间推移的变化的方法

在连续操作期间，从蒸气去污机的第一清洁槽和第二清洁槽中对清洁组合物进行取样，并且使用气相色谱法(gc2014a，购自shimadzucorporation)，采用校准曲线法来分析组合物。

实施例1

将组分a、b和c以60：25：15的质量比混合，以获得非共沸混合物。用三种组分获得的混合物是非共沸的，但组分a和组分c可以以97∶3的比率形成共沸组合物，并且组分b和组分c可以以60：40的比率形成共沸组合物。

所获得的非共沸混合物用于测量颗粒去除率。结果示于下表1中。

此外，对于所获得的非共沸混合物，第一清洁槽和第二清洁槽(液体层)中的组成随时间推移的变化示于图1中。虽然在图1中未示出，但是蒸汽组合物的蒸气温度起始于56℃并在55℃+1℃保持约750小时，之后缓慢地开始上升至60℃。

实施例2

将组分a、b和c以70：15：15的质量比混合，以获得非共沸混合物。

所获得的非共沸混合物用于测量颗粒去除率。结果示于下表1中。

比较例1

将组分a和c以97∶3的质量比混合，以获得共沸混合物。

所获得的混合物用于测量颗粒去除率。结果示于下表1中。

比较例2

可商购获得的准共沸混合物(novec(商品名)71ipa，购自3m；该准共沸混合物包含95％的组分a：novec(商品名)7100氢氟醚c4f9och3；以及5％的组分c：异丙醇)用于测量颗粒去除率。结果示于下表1中。

表1

与比较例1和2的混合物相比，实施例1和2的非共沸混合物相对于较细小颗粒(亚微米尺寸的颗粒)而言表现出特别高的去除率。

需注意，并非所有上述的行为在一般描述或实施例中是需要的，可能不需要特定行为的一部分，并且除所述的那些之外，可执行一个或多个另外的行为。更进一步，列出行为的次序不一定是它们所执行的次序。

在前述说明书中，已经参照特定实施方案描述了概念。然而，本领域的普通技术人员认识到，可作出各种修改和变化而不脱离如以下权利要求书中所列的本发明的范围。因此，说明书和附图应视为示例性而非限制性含义，并且所有此类修改旨在包括在本发明的范围之内。

有益效果、其他优点和问题的解决方案已在上文参照具体的实施方案进行了描述。然而，有益效果、优点、问题的解决方案、以及可导致任何有益效果、优点、或解决方案出现或变得更明显的任何特征不被理解为任何或所有权利要求的关键、必要或基本特征。

应理解，为清楚起见在本文单独的实施方案内容中所述的某些特征也可在单个实施方案中以组合的方式来提供。相反地，为了简化而在单个实施方案的上下文中描述的各种特征也可单独地或者以任何次级的组合方式来提供。此外，对范围中所述值的引用包括该范围内的每个值。