专利名称：用于铺展物质的可调滚轴装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于铺展(spreading)物质的方法和系统。例如，这样的铺 展可以以获得预定厚度的方式进行。还提供用于进料装置的方法和系统，其 要求把物质展开到预定厚度。这些方法和系统可被用于各种应用中。它们例 如可被使用以提供沿期望的宽度处于预定厚度的可铺展物质的均匀分布和 调节。这些系统可与要求预定厚度的物质调节和铺展的任意装置组合。这些 方法和系统可连续地操作或成批次地处理。
背景技术：
当前，在浆料工业和面包厂中，使用的是传统的系统，其允许生面团物 质被拉伸和降低其厚度。生面团物质是由于其胶体结构而具有高粘性和弹性 的流体物质。但是，这样的传统系统不能用于低粘性物质，例如污泥，其包括各种尺 寸的块状物，且要求以连续的和规律的方式压紧并以预定的厚度铺展。发明内容根据本发明的一个方面，提供一种用于铺展物质的系统。该系统包括 壳体，适于容纳物质且包括入口和出口；和至少两个旋转装置，设置在壳体内且靠近出口，该旋转装置适于压缩和 移动物质到出口，旋转装置中的一个比至少另一个旋转装置更靠近出口，该 系统适于基本上沿一轴线移动该更靠近出口的旋转装置和调节其以控制要 穿过出口而被铺展的物质的厚度。更靠近出口的旋转装置可被限制以沿轴线移动。该旋转装置适于在其之 间容纳要被铺展的物质。这样的旋转装置可以是滚轴且可被以相同的速度移 动。该系统还可进一步包括设置在出口和靠近出口设置的滚轴之间的至少两 个其它滚轴，以控制施加到穿过其之间的物质的压力。例如，该至少两个其 它滚轴之间的距离可被靠近出口设置的滚轴之间的距离大。该滚轴和该其它滚轴可在其之间限定一体积，其允许压紧物质和增加其密度。根据一个实施例，滚轴中的每个都可按照预定速度旋转。在另一实施例定速度旋转。滚轴中的至少 一个可由齿轮马达驱动且可选地两个其它滚轴的 至少 一个可由齿轮马达驱动。出口和更靠近出口的旋转装置适于允许物质以预定厚度基本上均匀地 堆积(deposit)在靠近出口设置的基底上。更靠近出口的旋转装置和基底之 间的距离的调节可允许物质以预定厚度基本上均匀地堆积。该系统可包括调节装置，其允许控制更靠近出口的旋转装置和基底之间 的距离。例如，这样的调节装置可包括螺杆系统。该系统还可包括用于调节 该系统和基底之间的相对距离的其它装置，以允许物质以预定厚度基本上均 匀地堆积。更靠近出口的旋转装置可适于实质上沿一轴线移动且被调节以控 制要铺展的物质的厚度。旋转装置可包括用于排出包含在物质中的液体的装置，用于排出液体的 装置可包括限定在旋转装置中的孔，该孔适于排出液体。例如，至少一个旋 转装置可适于以预定速度旋转，该速度作为要被铺展的物质的性质的函数而被选择。该系统进一 步包括调节装置，用于允许物质以预定宽度均匀地堆积。 根据本发明的另一方面，提供一种进料和铺展系统，其与用于电脱水物质的装置或与用于传送物质的传送器组合使用。该系统包括 壳体，包括入口和出口；和至少两个旋转装置，设置在该壳体中且靠近出口，该旋转装置适于压缩 和基本上垂直地朝出口移动物质，旋转装置中的一个比旋转装置中的至少另 一个更靠近出口 ，该系统适于基本上垂直地移动该更靠近出口的旋转装置和 调节其以控制要穿过出口被铺展的物质的厚度。更靠近出口的旋转装置可被限制为沿垂直轴线移动。例如，该旋转装置 可基本上水平地延伸且可绕基本上水平旋转轴线旋转。该更靠近出口的旋转 装置的旋转轴线低于该至少一个其它旋转装置的旋转轴线。该旋转装置适于 在其之间容纳要被铺展的物质。例如，该旋转装置可以是滚轴。靠近出口设 置的至少两个滚轴可以相同的速度旋转。该系统还包括设置在入口和靠近出口设置的滚轴之间的两个上滚轴，。该上滚轴水平地延伸且绕基本上水平旋转轴线旋转。上滚轴可以基本上相同 的速度旋转且适于在其之间容纳物质和压紧其和朝向靠近出口设置的滚轴 移动其。该系统还可包括调节装置，用于调节靠近出口设置的滚轴之间的水平距 离，该调节装置还允许调节上滚轴之间的水平距离。上滚轴之间的水平距离 可大于靠近出口设置的滚轴之间的水平距离。例如，滚轴和上滚轴可在其之间限定一体积，其允许压紧物质和增加其 密度。出口和更靠近出口的旋转装置可适于允许物质以预定厚度基本上均匀 地堆积在设置在出口下方的设备或传送器上。更靠近出口的旋转装置和电脱 水设备的一部分之间的距离的调节允许物质以预定厚度均匀地堆积。该系统可包括调节装置，其允许控制更靠近出口的旋转装置和电脱水设 备或传送器的一部分之间的距离。例如，调节装置可包括螺杆系统。该系统 还可包括其它用于调节该系统和电脱水设备或传送器的一部分之间的相对 距离的装置。更靠近出口的旋转装置可适于实质上垂直地移动和被调节，以 控制要穿过出口被铺展的物质的厚度。根据一个实施例，更靠近出口的滚轴可以是一旋转装置，其能够距离电 脱水设备或传送器最近或最远。该系统还可包括调节装置，以允许物质以预定宽度基本上均匀地堆积。根据本发明的另一方面，提供一种进料和铺展系统。该系统包括壳体，适于容纳要经由进料和铺展系统而被铺展在基底上的物质，该壳 体包括入口和出口，该出口适于靠近其上要铺展物质的基底设置；和靠近出口设置的至少两个旋转装置，该旋转装置时适于压缩和向下朝出 口移动物质，该旋转装置被每个都被设置为从出口的不同垂直距离处，该系 统适于实质上垂直地移动最靠近出口的旋转装置，以控制要穿过出口在基底 上铺展的物质的厚度。最靠近出口的旋转装置和出口可适于允许物质基本上均匀地堆积在基 底上。最靠近出口的旋转装置可适于实质上垂直地移动和被调节，以控制要 穿过出口在基底上铺展的物质的厚度。装置可适于在其之间容纳要在基底上铺展的物质。例如，旋转装置可以是滚10轴。靠近出口设置的至少两个滚轴可被以相同的速度旋转。该系统还包括设置在入口和靠近出口设置的滚轴之间的两个上滚轴。上 滚轴可基本上水平地延伸且绕基本上水平旋转轴线旋转。上滚轴可基本上以 相同的速度旋转且适于在其之间容纳要铺展的物质，以将其压紧和将其朝向 靠近出口设置的滚轴移动。该系统还包括调节装置。调节装置可允许调节靠 近出口设置的滚轴之间的水平距离。该调节装置还允许调节上滚轴之间的水 平距离。例如，上滚轴之间的水平距离可大于靠近出口设置的滚轴之间的水 平距离。该滚轴和上滚轴可在其之间限定一体积，其允许压紧物质和增加其 密度。该系统可被以一方式设置，即该系统和基底相对于彼此水平地移动。 该系统可水平地移动或固定。最靠近出口的旋转装置和基底的一部分之间的距离的调整可允许物质 以预定厚度基本上均匀地堆积。该系统还包括调节装置，其允许控制最靠近出口的旋转装置和基底之间 的距离。调节装置可包括螺杆系统。该系统还可包括用于调节该系统和基底 的一部分之间的距离的装置，以控制要铺展的物质的厚度。最靠近出口的旋 转装置可适于实质上垂直地移动和被调节，以控制要穿过出口铺展的物质的 厚度。该系统还包括调节装置，以允许物质以预定宽度基本上均匀地堆积。 根据本发明的另一方面，提供一种用于在基底上铺展物质的方法。该方法包括在协作的滚轴之间《1入物质，以压缩该物质和把该物质基本上向下朝基 底移动，和使该系统和基底相对于彼此水平地移动，以铺展物质，该方法的特征在于，在把物质引入到滚轴之间之前，该系统被基本上沿 垂直轴线调节，以选择以位置，要铺展的物质在该位置具有预定厚度。基底可以是可移动基底，其适于相对于该系统水平地移动。例如，该可 移动基底可以是传送器。在把物质引入滚轴之间之前，该物质可被倾倒到漏斗内且在漏斗的整个 长度上均等，以均匀地铺展该物质。通过以这样的方式基本上垂直地移动滚轴中的一个，使得滚轴和基底之 间的垂直距离小于其它滚轴和基底之间的垂直距离，该系统可被调节。例如，该物质可被引入两个分开距离dl的上协作滚轴之间，然后被引入两个分开距离d2的下协作滚轴之间。距离dl大于距离d2，且实质上沿垂 直轴线移动的滚轴是下滚轴中的一个。上和下滚轴可在其之间限定一体积， 其允许压紧物质且增加其密度。该方法还包括调节协作滚轴之间的距离，该距离为要被处理的物质的性 质和/或密度的函数。滚轴中的 一个和基底的 一部分之间的距离的调节可允许物质以预定厚 度基本上均匀地堆积。已发现，这样的系统和方法可提供多个优点。实际上，当这样的系统中 的一个与例如电脱水设备(2007年6月13日提交的PCT/CA2007/001052 ) 组合时，进料和铺展系统可允许适当地压紧和把物质均匀地在基底(例如传 送器)上铺展或分布。这样的系统还允许以预定厚度铺展物质。当这样的适 当的压紧被执行时，要被处理的物质可经受更大的压力。而且，在这样的情 形下，要被处理的物质允许具有更好的电流传导性，因为例如通过减少其中 的空气量而变得更不绝缘。例如，当使用这样的系统或方法时，物质的铺展被均匀地执行且块状物 质可被处理为在基底或传送器的整个表面(宽度)上具有均匀的厚度。这样 的块由此允许被在物质上执行均匀的电脱水处理。这样的系统和方法对于把处理的物质为设备以连续的方式进料也是有 效的。其也可与用于干燥物质的设备组合使用。
本发明的其它特征和优点从附图中所示的下面的例子可变得更明白，在 附图中图1是根据一个例子的铺展和进料系统的透视图；图2是图1中所示的系统的侧视图；图3是图1中所示的系统的另一侧^L图；图4是图1中所示的系统的后视图；图5是沿图4中的5-5线截取的横截面视图；图6是与传送器组合使用的图1的系统的横截面视图。
具体实施方式
本发明的其它特征和优点可更容易地显见于下述非限定性具体实施例。如图1和4所示，系统10包括壳体，譬如由两个侧壁20支撑的漏斗12。 侧壁20支撑齿轮马达14。内壁18允许把要铺展的物质限制在系统10内。 调节装置22允许系统的垂直调节。这样的装置允许调节系统IO相对于设置 在下方的设备或基底(当该系统与这样的设备组合使用时)的垂直距离。例 如，调节装置22可包括置有螺母的螺杆系统。替换地，侧壁20还可允许系 统相对于设备或基底的固定和调节。装置22还可包括其它调节装置，以调 节该系统和设备或基底之间的距离。这样的装置可例如是垫片或支撑该系统 IO的可调结构、气动致动器、机械系统(液压系统、螺紋系统等)、或电系 统。齿轮马达14和其驱动滚轴(未示出)被固定在带法兰盘轴承16上。图2示出了，在系统10中，漏斗12被连接到侧壁20,且示出了两个齿 轮马达14被连接到该壁20。系统10还包括刮刀调节装置24和垂直调节装 置22,该垂直调节装置22允许调节系统IO相对于基底(未示出)的高度， 即系统10和基底之间的距离。这样的基底可以是可移动基底，例如图6中 所示的传送器66。如图3所示，系统10还包括两个上链轮32、两个下链轮34、上链轮36、 下链轮38。所有这些轮都被连接到壁20。系统10还包括上链轮36的水平 调节装置42、下链轮38的水平调节装置44和下滚轴(未示出)的调节装置 40。上驱动链30穿过链轮32和36。下驱动链31穿过链轮34和38。刮刀 调节装置24允许固定刮刀(未示出)和调节它们。调节装置40允许滚轴54(在图5中示出)的位移和下滚轴54和56(在 图5中示出)之间的距离的调节。滚轴54可旋转地安装到装置40内，其包 括轴承和槽。滚轴的位置可被在该槽内调节。装置40可以例如是松紧式支 承系统(take-up bearing system )。调节装置44允许链轮38的固定和调节。装置44包括板，该板设置有 长圓孔(oblong hole)以被连接到壁20。该板适于支撑轮38。装置42类似 于装置44。在图5中，沿图4的线5-5截取的横截面视图，示出了两个上滚轴50、 两个上刮刀52、下滚轴54、下刮刀58、下滚轴56、下刮刀60。这样的滚轴 被可旋转地安装在壁20内。内壁18允许把物质限制在系统10内。侧壁2013允许支撑上和下滚轴以及上和下刮刀，以把物质限制在系统内，且限定要铺 展的物质的宽度。壁20可由此作为调节装置，以允许物质以预定宽度基本 上均匀地堆积。如图6所述，系统10可与传送器66组合使用，其包括滚轴64和传送 带67。传送带67可以，例如通过板68，而被变硬，其基本上大大降低了变 形的危险，以获得需要的厚度。图6还示出了，两个上滚轴50和其刮刀52、 两个下滚轴54和56以及它们各自的刮刀58和60。系统10允许物质以预定厚度基本上在传送带67 (见图6)的整个宽度 上均匀地铺展。传送带67还可包括侧导向件(未示出)，以容纳物质。这样 的引导件还可允许按照预定宽度铺展物质。在系统10的上部，可设置分配装置，以基本上在漏斗12的整个长度上 铺展和均等物质。该分配装置可以例如是螺旋系统或振荡系统。物质可以是 各种类型的固体，例如生物固体、用在食物处理或农产品食物工业中的固体、 浆状物。由于物质被基本上在漏斗12的整个长度上分布，物质的水平可被 均等化。通过利用装置22垂直地调节传送带67和下滚轴56之间的距离， 均匀地堆积在传送带67上的物质的厚度可被调节。替代他，这样的距离调 节可通过提供具有与装置40类似的调节装置的滚轴56来进行，但是该调节 装置允许实质上垂直地移动滚轴56。因此，代替垂直地移动整个系统10, 仅滚轴56可被移动，以选择需要的厚度。根据另一实施例，可能的是提供 具有例如装置22和类似于装置40但允许实质上垂直地移动滚轴56这样的 装置的系统10。根据要处理的物质的性质，通过利用装置40改变滚轴54 和56之间的距离，可进行进一步调节。例如，上滚轴(两个滚轴50 )之间的距离可大于下滚轴(滚轴54和56 ) 之间的距离。上和下滚轴具有双重功能它们驱动物质且还挤压该物质。中 间区间中的体积，由上和下滚轴限定，允许压紧该物质且增加其密度。例如， 这样的中间区域可^f皮包括在上和下滚轴之间。滚轴的外表面可以是粗糙表面，以允许更好地供给物质。这样的表面光 洁度减少了物质和滚轴之间的滑动。物质的驱动依赖于与滚轴的表面接触。 上和下滚轴的速度可根据物质的性质选择。传送带67的速度还可根据要被 系统10铺展或堆积的物质的性质选择。滚轴的速度由驱动器提供的齿轮马 达控制。当物质在漏斗12的整个长度上被倾倒和均等化时，上滚轴50将压紧且垂直地朝下滚轴54和56移动物质。这样的下滚轴还提供物质的压缩且将其 朝传送带67移动。滚轴56和传送带66之间的距离将允许压缩该物质且限 定后者的最终厚度。系统10可连续操作或批量处理。通过提供水平传感器 和驱动器还可使得该系统10自动化。当系统10与设备，例如用于电脱水的 设备例如2007年6月13日提交的PCT/CA2007/001052，组合使用时，侧壁 20允许系统固定到该设备。侧壁20设置有长圆孔，其允许系统的垂直引导 和相对于传送带的距离即系统和传送带之间的距离的调节。限定在系统和传 送带之间的距离还可通过调节装置22通过紧固螺杆系统的螺母而被调节。 这两个调节装置可被同时使用。该系统还可用于需要以预定的厚度进料和/或铺展物质的任意应用中。例 如，其可与用于物质电脱水的设备和需要物质以与预定厚度调节和铺展的任意设备组合使用。虽然本发明以结合其具体实施例予以说明，但是应理解，还有其它修改， 且该申请要覆盖本发明的任意变化、使用或改编，其遵循本发明的一般原则 且包括从本披露内容的、落入本发明所属领域公知和惯用的实践的、且和用 于这里提出的基本特征且遵循所附权利要求的范围内的偏离。
权利要求
1.一种用于铺展物质的系统，该系统包括壳体，适于容纳物质且包括入口和出口；和至少两个旋转装置，设置在壳体内且靠近所述出口，所述旋转装置适于压挤和移动所述物质到所述出口，所述旋转装置中的一个比所述旋转装置中的至少另一个更靠近出口，该系统适于实质上沿一轴线移动该更靠近出口的旋转装置并调节该旋转装置以控制要穿过所述出口而被铺展的物质的厚度。
2. 如权利要求1所述的系统，其中所述更靠近出口的旋转装置被限制以 沿所述轴线移动。
3. 如权利要求1或2所述的系统，其中所述旋转装置适于在它们之间容 纳要^皮铺展的物质。
4. 如权利要求1至3中任一项所述的系统，其中所述旋转装置是滚轴。
5. 如权利要求4所述的系统，其中靠近所述出口设置的所述至少两个滾 轴以相同的速度旋转。
6. 如权利要求5所述的系统，其中所述系统还包括设置在所述入口和靠 近所述出口设置的所述滚轴之间的至少两个其它滚轴，所述至少两个其它滚的物质。
7. 如权利要求6所述的系统，还包括调节装置，所述调节装置允许调节 两个相邻设置的滚轴之间的距离，以控制施加到从其之间穿过的物质的压 力。
8. 如权利要求7所述的系统，其中所述至少两个其它滚轴之间的距离大 于靠近所述出口设置的所述滚轴之间的距离。
9. 如权利要求6至8中任一项所述的系统，其中所述滚轴和所述其它滚 轴在其之间限定一体积，该体积允许压紧物质且增加物质的密度。
10. 如权利要求4所述的系统，其中所述滚轴的每个都按照预定速度旋转。
11. 如权利要求6所述的系统，其中所述至少两个滚轴按照预定速度旋 转，所述至少两个其它滚轴按照另一预定速度旋转。
12. 如权利要求6至8中任一项所述的系统，其中所述至少两个滚轴中的一个由齿轮马达驱动。
13. 如权利要求6至8、 11和12中任一项所述的系统，其中所述至少两 个其它滚轴中的 一个由齿轮马达驱动
14. 如权利要求1至13中任一项所述的系统，其中所述出口和更靠近出 口的旋转装置适于允许所述物质以预定厚度在靠近所述出口设置的基底上 基本上均匀地堆积。
15. 如权利要求14所述的系统，其中更靠近出口的所述旋转装置和所述 基底之间的距离的调节允许物质以预定厚度在所述基底上基本上均匀地堆 积。
16. 如权利要求14或15所述的系统，其中所述系统包括调节器具，该 器具允许控制更靠近出口的所述旋转装置和所述基底之间的距离。
17. 如权利要求16所述的系统，其中所述调节器具包括螺杆系统。
18. 如权利要求14至17中任一项所述的系统，还包括用于调节所述系 统和所述基底之间的相对距离的其它装置，以允许所述物质以预定厚度基本 上均匀地堆积。
19. 如权利要求14至16中任一项所述的系统，其中所述更靠近出口的 旋转装置适于实质上沿一轴线移动且被调节，以控制要铺展的物质的厚度。
20. 如权利要求1至19中任一项所述的系统，其中所述旋转装置包括用 于排出包含在所述物质中的液体的装置。
21. 如权利要求20所述的系统，其中所述用于排出液体的装置包括限定 在所述旋转装置中的孔，所述孔适于排出所述液体。
22. 如权利要求1至21中任一项所述的系统，其中至少一个旋转装置适 于以 一速度旋转，该速度根据要铺展的物质的性质而被选择。
23. 如权利要求1至22中任一项所述的系统，还包括调节装置，以允许 所述物质以预定宽度基本上均匀地堆积。的供料和铺展系统，所述系统包括 壳体，包括入口和出口；和
24.设置在所述壳体内且靠近所述出口的至少两个旋转装置，所述旋转装置 适于压挤和基本上垂直地朝所述出口移动所述物质，所述旋转装置中的一个 比所述旋转装置中的至少另一个更靠近所述出口，所述系统适于实质上垂直地移动更靠近出口的所述旋转装置并调节该旋转装置以控制要穿过所述出 口而被铺展的物质的厚度。
25. 如权利要求24所述的系统，其中更靠近出口的所述旋转装置被限制以沿垂直轴线移动。
26. 如权利要求24或25所述的系统，其中所述旋转装置基本上水平地 延伸且绕基本上水平旋转轴线旋转，更靠近出口的所述旋转装置的旋转轴线 低于至少一个其它旋转装置的旋转轴线，所述旋转装置适于在它们之间容纳 要铺展的物质。
27. 如权利要求24至26中任一项所述的系统，其中所述旋转装置是滚轴。
28. 如权利要求27所述的系统，其中靠近所述出口设置的所述至少两个 滚轴以相同的速度旋转。
29. 如权利要求27或28所述的系统，其中所述系统还包括设置在所述 入口和靠近所述出口设置的所述滚轴之间的两个上滚轴，所述上滚轴基本上 水平地延伸且绕基本上水平的旋转轴线旋转，所述上滚轴基本以相同的速度所述滚轴移动。
30. 如权利要求29所述的系统，还包括调节装置，所述调节装置允许调 节靠近所述出口设置的所述滚轴之间的水平距离，所述调节装置还允许调节 所述上滚轴之间的水平距离。
31. 如权利要求30所述的系统，其中所述上滚轴之间的水平距离大于靠 近所述出口设置的所述滚轴之间的水平距离。
32. 如权利要求29至31中任一项所述的系统，其中所述滚轴和所述上 滚轴在其之间限定一体积，该体积允许压紧物质并增加该物质的密度。
33. 如权利要求24至32中任一项所述的系统，其中所述出口和更靠近 出口的所述旋转装置适于允许物质以预定厚度在要设置在所述出口下的所 述设备或传送器上基本上均匀地堆积。
34. 如权利要求24至33中任一项所述的系统，其中更靠近出口的所述 旋转装置和电脱水设备或传送器的一部分之间的距离的调节允许所述物质 以预定厚度基本上均匀地堆积。
35. 如权利要求34所述的系统，其中所述系统包括调节装置，其允许控制更靠近出口的所述旋转装置和电脱水设备或传送器的所述部分之间的距离。
36. 如权利要求35所述的系统，其中所述调节装置包括螺杆系统。
37. 如权利要求34至36中任一项所述的系统，还包括用于调节所述系 统和电脱水设备或传送器的所述部分之间的相对距离的其它装置。
38. 如权利要求34或35所述的系统，其中更靠近出口的所述旋转装置 适于实质上垂直地移动和被调节，以控制要穿过出口被铺展的物质的厚度。
39. 如权利要求24至38中任一项所述的系统，其中更靠近所述出口的 所述滚轴是适于最靠近所述电脱水设备或所述传送器的出口的旋转装置。
40. 如权利要求24至38中任一项所述的系统，其中更靠近所述出口的 所述滚轴是适于离所述电脱水设备或传送器的出口最远的旋转装置。
41. 如权利要求24至40中任一项所述的系统，还包括调节装置，以允 许所述物质以预定宽度基本上均匀地堆积。
42. —种进料和铺展系统，所述系统包括壳体，适于容纳要经由所述进料和铺展系统而被铺展在基底上的物质， 所述壳体包括入口和出口，所述出口适于靠近基底设置，所述物质是要^C铺 展在基底上的物质；和靠近所述出口设置的至少两个旋转装置，所述旋转装置适于压挤和向下 朝所述出口移动物质，所述每个旋转装置都被设置在距所述出口的不同垂直 距离处，所述系统适于实质上垂直地移动最靠近出口的旋转装置，以控制要 穿过所述出口在所述基底上铺展的物质的厚度
43. 如权利要求42所述的系统，其中所述出口和最靠近出口的所述旋转 装置适于允许所述物质在所述基底上基本上均匀地堆积。
44. 如权利要求42或43所述的系统，其中最靠近出口的所述旋转装置 适于实质上垂直地移动和被调节以控制要穿过出口在所述基底上铺展的物 质的厚度。
45. 如权利要求42至44中任一项所述的系统，其中所述旋转装置基本 上水平地延伸且绕基本上水平的旋转轴线旋转，所述旋转装置适于在它们之 间容纳要在所述基底上铺展的物质。
46. 如权利要求42至45中任一项所述的系统，其中所述旋转装置是滚轴。
47. 如权利要求46所述的系统，其中靠近所述出口设置的所述至少两个 滚轴以相同速度旋转。
48. 如权利要求47所述的系统，其中所述系统还包括设置在所述入口和 靠近所述出口的所述滚轴之间的两个上滚轴，所述上滚轴基本上水平地延伸 且绕基本上水平的旋转轴线旋转，所述上滚轴基本上以相同速度旋转且适于 在它们之间容纳要被铺展的物质，以压紧所述物质并将其朝靠近所述出口i殳 置的所述滚轴移动。
49. 如权利要求48所述的系统，还包括调节装置，所述调节装置允许调 节靠近所述出口设置的所述滚轴之间的水平距离，所述调节装置还允许调节 所述上滚轴之间的水平距离。
50. 如权利要求49所述的系统，其中所述上滚轴之间的水平距离大于靠 近所述出口设置的所述滚轴之间的水平距离。
51. 如权利要求48至50中任一项所述的系统，其中所述滚轴和所述上 滚轴在其之间限定一体积，该体积允许压紧物质并增加其密度。
52. 如权利要求42至51中任一项所述的系统，其中所述系统适于以一 方式设置，以使得所述系统和所述基底可相对于彼此水平地移动。
53. 如权利要求52所述的系统，其中所述系统可水平移动。
54. 如权利要求52所述的系统，其中所述系统不可水平移动。
55. 如权利要求42至54中任一项所述的系统，其中最靠近出口的所述 旋转装置和所述基底的一部分之间的距离的调节允许所述物质以预定厚度 基本上均匀地堆积。
56. 如权利要求55所述的系统，其中所述系统包括调节器具，该器具允 许控制最靠近出口的所述旋转装置和所述基底之间的距离。
57. 如权利要求56所述的系统，其中所述调节器具包括螺杆系统。
58. 如权利要求55至57中任一项所述的系统，还包括用于调节所述系 统和所述基底的一部分之间的相对距离的其它装置，以控制要铺展的物质的 厚度。
59. 如权利要求55所述的系统，其中最靠近出口的所述旋转装置适于实 质上沿一轴线移动和被调节，以控制要穿过出口被铺展的物质的厚度。
60. 如权利要求42至59中任一项所述的系统，还包括调节装置，以允 许所述物质以预定的宽度基本上均匀地堆积。
61. —种用于在基底上铺展物质的方法，所述方法包括 在协作的滚轴之间引入物质，以挤压所述物质和把所述物质基本上向下朝基底移动，和使所述系统和所述基底相对于彼此水平地移动，以铺展所述物质， 该方法的特征在于，在把物质引入到滚轴之间之前，所述系统被实质上 沿垂直轴线调节，以选择一位置，在该位置要铺展的物质具有预定厚度。
62. 如权利要求61所述的方法，其中所述基底是可移动基底，其适于相 对于所述系统水平地移动，且其中所述基底可选地以一速度移动，该速度才艮 据要被铺展的物质的性质而被选择。
63. 如权利要求62所述的方法，其中所述可移动基底是传送器。
64. 如权利要求61至63中任一项所述的方法，其中在把物质引入所述 滚轴之间之前，物质被倾倒在漏斗内且在漏斗的整个长度上均等化，以均匀 地铺展该物质。
65. 如权利要求61至64中任一项所述的方法，其中所述系统通过实质 上垂直地以一方式移动所述滚轴中的一个而被调节，使得所述滚轴和基底之 间的垂直距离小于一或多个其它滚轴和基底之间的垂直距离。
66. 如权利要求61至65中任一项所述的方法，其中所述物质被引入到 分开距离dl的两个上协作滚轴之间，且然后被引入分开距离d2的两个下协 作滚轴之间，所述距离dl大于所述距离d2,且被实质上沿垂直轴线移动的 所述滚轴是所述下滚轴中的一个。
67. 如权利要求61至66中任一项所述的方法，还包括根据要被处理的 物质的性质和/或密度调节所述协作滚轴之间的距离。
68. 如权利要求67所述的方法，其中所述上和下滚轴在它们之间限定一 体积，该体积允许压紧物质并增加该物质的密度。
69. 如权利要求61至68中任一项所述的方法，其中所述滚轴中的一个 和所述基底的 一部分之间的距离的调节允许所述物质以预定厚度基本上均 匀地堆积。
全文摘要
提供一种用于铺展物质的系统。该系统包括设置在壳体内的至少两个旋转装置。该旋转装置适于压缩和移动所述物质。该系统允许控制要穿过出口被铺展的物质的厚度。还提供一种用于铺展物质的方法。
文档编号B05C11/02GK101557926SQ200780046515
公开日2009年10月14日 申请日期2007年10月19日 优先权日2006年10月20日
发明者琼-皮埃尔·迪翁, 罗杰·帕拉迪斯, 阿布德拉马尼·德莫尼, 阿布德拉齐兹·布雷加 申请人:Glv加拿大股份有限公司