污染物质除去方法与流程

本发明涉及一种利用了自剥离膜的污染物质除去方法，该自剥离膜在涂布于对象表面后，涂膜干燥，由此自发地剥离。

背景技术：

1、一般而言，作为除去附着、残留于设备表面的污物、微粒等粉尘的方法，进行利用水、溶剂的清洗、擦拭、利用机械力的削除、抽吸等。然而，在这些作业中，作业者有可能吸进清洗液、飞散的粉尘。特别是，在所使用的清洗液是对人体有害的物质、或所除去的物质是包含石棉、有害的化学物质、放射性物质等的污染物质的情况下，要求有使作业员不会吸进清洗液、污染物质的手段。例如，由于核电站的污染物质包含放射性物质，因此对于清洗、废炉作业时的作业员而言有由吸进、附着造成的被辐照的危险。因而，要求有高效率并且安全地除去此种污染物质的技术。

2、污染物质有易于残留于设备表面、特别是凹凸部等细微部分的特征。作为不使此种污染物质飞散地将其除去的有效的技术，有利用了如下的剥离性涂膜的方法，即，将涂料涂布于对象表面，在干燥后剥离涂膜，由此与所吸附的污染物质一起除去。该技术对于残留于细微部分的污染物质的除去有效，然而在干燥后的剥离时，难以在涂膜的端部形成剥离的起点，若在此花费作业时间，则作业员吸引有害物质或者暴露的风险提高。另外，还有在人无法进入的环境中也难以将剥离了的膜回收的问题。

3、作为能够应对此种问题的手段，可以认为，若能够开发出干燥后的涂膜自发地剥离的自剥离膜，则能够简单地在短时间内进行回收作业，还能够实现利用机器人等的远程作业。

4、作为有关自剥离膜的技术，专利文献1中，公开了在挥发性有机溶剂中溶解具有可剥性树脂被膜形成能力的纤维素系合成树脂而成的具备自剥离性的渗透探伤用显影剂除去材料。专利文献2中，公开了将以水性涂料作为主成分、且包含水溶性增稠剂的皮膜用水溶胀而剥离的手段。另一方面，专利文献3中，虽然是不同于自剥离膜的技术，然而公开了如下的方法，即，预先在基材涂布被覆用组合物而形成屏蔽被覆物，在污染物质堆积于屏蔽被覆物上后，从基材将屏蔽被覆物和污染物质去除。

5、专利文献1：日本特开昭59-171841号公报

6、专利文献2：日本特开2000-327958号公报

7、专利文献3：日本特表2010-530806号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、本发明提供一种污染物质除去方法，是除去附着于对象表面的污染物质的方法，该方法具备：将包含成分(a)～(c)的自剥离膜形成用组合物涂布于附着有污染物质的对象表面而形成涂膜的工序、将该涂膜干燥的工序、通过与该干燥相伴的涂膜的自剥离而将污染物质与涂膜一起除去的工序。

3、(a)膜化成分

4、(b)挥发性溶剂

5、(c)硅酮化合物

6、此外，本发明提供含有以下的成分(a)～(c)的组合物用于通过涂膜的与干燥相伴的自剥离而将对象表面上的污染物质除去的应用。

7、(a)膜化成分

8、(b)挥发性溶剂

9、(c)硅酮化合物

10、此外，本发明提供一种自剥离膜形成用组合物，其含有以下的成分(a)～(c)，且成分(c)与成分(a)的质量比(c)/(a)为0.01以上且1.00以下。

11、(a)膜化成分

12、(b)挥发性溶剂

13、(c)硅酮化合物

14、此外，本发明提供一种自剥离膜形成用组合物，其含有以下的成分(a)～(c)，通过下述评价方法测定的剥离度为20％以上且100％以下。

15、(a)膜化成分

16、(b)挥发性溶剂

17、(c)硅酮化合物

18、＜评价方法＞在环氧树脂涂装基板以0.3g/cm2涂布组合物，干燥24小时。将通过测定在干燥前的上述基板上润湿铺展了的组合物与上述基板的粘接面积s1和干燥后的涂膜与上述基材接触的面积s2而算出的(s1－s2)/s1的值设为剥离度。

技术特征：

1.一种污染物质除去方法，其是除去附着于对象表面的污染物质的方法，

2.根据权利要求1所述的污染物质除去方法，其中，

3.根据权利要求1或2所述的污染物质除去方法，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的污染物质除去方法，其中，

5.根据权利要求1～4中任一项所述的污染物质除去方法，其中，

6.根据权利要求1～5中任一项所述的污染物质除去方法，其中，

7.根据权利要求1～6中任一项所述的污染物质除去方法，其中，

8.根据权利要求1～7中任一项所述的污染物质除去方法，其中，

9.含有以下的成分a～c的组合物用于通过涂膜的与干燥相伴的自剥离而将对象表面上的污染物质除去的应用，

10.一种自剥离膜形成用组合物，其含有以下的成分a～c，且成分c与成分a的质量比c/a为0.01以上且1.00以下，

11.根据权利要求10所述的自剥离膜形成用组合物，其中，

12.根据权利要求10或11所述的自剥离膜形成用组合物，其中，

13.根据权利要求10～12中任一项所述的自剥离膜形成用组合物，其中，

14.根据权利要求10～13中任一项所述的自剥离膜形成用组合物，其中，

15.一种自剥离膜形成用组合物，其含有以下的成分a～c，且通过下述评价方法测定的剥离度为20％以上且100％以下；

技术总结
本发明提供一种污染物质除去方法，是除去附着于对象表面的污染物质的方法，该方法具备：将包含成分(A)～(C)的自剥离膜形成用组合物涂布于附着有污染物质的对象表面而形成涂膜的工序、将该涂膜干燥的工序以及通过与该干燥相伴的涂膜的自剥离而将污染物质与涂膜一起除去的工序。(A)膜化成分；(B)挥发性溶剂；(C)硅酮化合物。

技术研发人员：城地悠仁,牛尾典明
受保护的技术使用者：花王株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15