改良的TP模组保护膜的制作方法

本实用新型涉及TP模组的保护的技术领域，特别涉及一种改良的TP模组保护膜。

背景技术：

手机都有设计摄像孔/光感孔等光学孔，目前摄像孔上的泡棉基本都在TP厂或模组加工厂就贴好，为了防止TP在加工及运输等过程中造成光学孔的脏污或者刮伤现象，均会在这些光学孔上增加保护膜来保护。

目前行业上TP模具背面小孔保护膜的结构一般有两种结构设计。

第一种结构设计如图1所示，通过采用两张不同的保护膜200a来分别保护摄像孔与摄像孔周围的小孔。该贴两张保护膜的操作繁琐，材料成本高。且摄像孔上的保护膜如果粘性强，撕的时候容易把泡棉扯掉；如果粘性弱，保护膜小，没有吸附力，则容易脱落。

第二种结构设计如图2所示，通过采用一整张保护膜200b来覆盖摄像孔与其周围的小孔。这种结构虽然简单，但是由于泡棉具有一定的厚度，保护膜位于摄像孔旁边的拱起，旁边的光学孔容易进灰尘造成脏污。

技术实现要素：

针对现有技术存在的问题，本实用新型的主要目的是提供一种改良的TP模组保护膜，皆在避免泡棉的厚度引起的保护膜在光学孔位附近的膜拱，引起的光学孔位进灰尘现象。

为实现上述目的，本实用新型提出的改良的TP模组保护膜，该TP模组设于光学孔位、摄像孔位以及听筒孔位，所述摄像孔位上粘附泡棉，保护膜本体覆盖于所述TP模组上。所述保护膜本体第一侧设有沿其径向延伸的撕手，其中部设有用于避让TP模组的听筒孔位的避让槽。所述保护膜本体设有切断线，所述切断线位于所述泡棉靠近光学孔位的一侧。

优选地，所述切断线呈直线。

优选地，所述切断线的长度为所述泡棉直径的三分之二。

优选地，所述切断线呈圆弧状。

优选地，所述切断线的圆心与所述泡棉的圆心重合，且所述切断线的弧长为泡棉周长的三分之一。

本实用新型的技术方案通过将保护膜本体在泡棉旁边增加一条切断线，以解决保护膜在摄像孔位的膜拱问题，且粘贴操作简单，制造成本低。同时，将撕手设置在远离切断线的一边，还可避免保护膜本体撕起时在切断线处发生断裂的情况，实用性更强。

与现有的保护膜相比，本实用新型提供的改良的TP模组保护膜的有益效果在于：既节省了粘贴和撕保护膜的工时，同时也节省了保护膜本身的成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为现有TP模组保护膜一实施例的结构示意图；

图2为现有TP模组保护膜另一实施例的结构示意图；

图3为本实用新型改良的TP模组保护膜一实施例的结构示意图；

本实用新型目的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

本实用新型提出一种改良的TP模组保护膜。其中，该TP模组100c设于光学孔位、摄像孔位以及听筒孔位，摄像孔位上粘附泡棉220，保护膜本体200c覆盖于该TP模组100c上。

参照图3，图3为本实用新型改良的TP模组保护膜一实施例的结构示意图，

如图3所示，在本实用新型实施例中，该保护膜本体200c覆盖于所述TP模组100c上。所述保护膜本体200c第一侧设有沿其径向延伸的撕手210，其中部设有用于避让TP模组100c的听筒孔位110的避让槽。所述保护膜本体200c设有切断线230，所述切断线230位于所述泡棉220靠近光学孔位的一侧。

如图3所示，在本实施例的第一实施方式中，该切断线230呈直线。具体地，该切断线230的长度为泡棉220直径的三分之二即可。通过设置切断线230，保护膜本体200c在摄像孔位与光学孔位之间形成上下隔断，以避免泡棉220的厚度引起的保护膜本体200c在光学孔位附近的膜拱，避免光学孔位进灰尘造成脏污。

在本实施例的第二实施方式中，该切断线230由若干呈圆弧状排列的槽孔组成。具体地，所述切断线230的圆心与所述泡棉220的圆心重合，且所述切断线230的弧长为泡棉220周长的三分之一。通过将切断线230设置呈圆弧状，可以更好的与泡棉220的外轮廓向对齐，从而达到更好的隔断效果。

本实用新型的技术方案通过将保护膜本体200c在泡棉220旁边增加一条切断线230，以解决保护膜在摄像孔位的膜拱问题，且粘贴操作简单，制造成本低。同时，将撕手210设置在远离切断线230的一边，还可避免保护膜本体200c撕起时在切断线230处发生断裂的情况，实用性更强。

与现有的保护膜相比，本实用新型提供的改良的TP模组100c保护膜的有益效果在于：既节省了粘贴和撕保护膜的工时，同时也节省了保护膜本身的成本。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。