一种谐振器上片装置的制作方法

文档序号:20752875发布日期:2020-05-15 17:12阅读:168来源:国知局
一种谐振器上片装置的制作方法

本实用新型涉及谐振器生产设备技术领域,具体涉及一种谐振器上片装置。



背景技术:

石英晶体谐振器是利用石英晶体的压电效应,用来产生高精度振荡频率的一种电子元件,其由石英晶片、基座、封盖、银胶等组合而成,主要用于频率控制以及频率选择电路,在通信设备、电视机、电话机、电子玩具、计时器、电子钟、计算器等电器件有着广泛的应用。

在生产石英晶体谐振器时,通常先在石英晶片的两个对应面分别镀一层银作为电极;然后将石英晶体放置在基座内,并通过导电胶将石英晶体的电极与设于基座的引线电连接;最后向基座盖上封盖,即可完成对石英晶体谐振器的生产。

现有技术在对谐振器进行上片时,受限于石英晶片镀膜工装治具与谐振器基座料盘阵列间距不同,大多采用从镀膜夹具中逐一吸取石英晶片放置在基座内的生产方法。存在着上片速度慢、生产效率低的缺陷。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种谐振器上片装置,可以批量上片,从而加快上片速度、提高生产效率。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

一种谐振器上片装置,包括:

取件工位,其放置有石英晶片镀膜工装治具,所述石英晶片镀膜工装治具内均匀排列有多个完成镀膜的石英晶片;

上片工位,其放置有料盘,所述料盘均匀设置多个用于放置基座的料槽;

吸放机构,其由多个吸嘴构成;所述吸嘴的真空泵通过连接杆与丝杆螺母固接,所述丝杆螺母适配沿前后方向延伸的丝杆,所述丝杆与吸嘴一一对应、且沿竖直方向并列设置,所述丝杆由伺服电机驱动;

行走机构,其在控制器的控制下带动吸放机构沿左右及上下方向移动、将吸取的石英晶片从取件工位输送至上片工位;所述吸放机构由控制器控制。

优选的,所述取件工位的左侧适配有给料滑道,所述给料滑道从左往右斜向下延伸、且宽度与石英晶片镀膜工装治具适配;所述取件工位的右侧设置有挡板。

优选的,所述挡板与吸放机构对应设置有位置传感器,所述取件工位的前侧设置工装出口、后侧适配由气缸驱动的推杆;所述位置传感器及气缸分别与控制器电连接。

优选的,所述吸放机构固定在安装座上。

优选的,所述行走机构包括驱动安装座沿竖直方向移动的第一线性电机和驱动第一线性电机沿左右方向移动的第二线性电机;所述第一线性电机及第二线性电机分别与控制器电连接。

优选的,所述料盘适配有排列盘,所述排列盘内设置与料槽一一对应的定位槽,所述定位槽的深度低于基座的高度,所述定位槽内设置对基座构成选位限定的凸起。

本实用新型的工作原理为:控制器会通过伺服电机驱动丝杆转动,分别对吸放机构的每个吸嘴的位置进行调整;当行走机构带动吸放机构从上片工位向取件工位移动时,控制器会对吸嘴的位置进行调整、使吸嘴的位置与石英晶片镀膜工装治具内的一列石英晶片对应适配;当行走机构带动吸放机构从取件工位向上片工位移动时,控制器会对吸嘴的位置进行调整、使吸嘴的位置与料盘的一列料槽对应适配;如此,吸放机构每来回行走一次,即可完成一列石英晶片的上片操作。

由此可知,本实用新型的有益效果是:可以对石英晶片进行批量上片,从而加快上片速度、提高生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的俯视图;

图2为吸放机构的结构示意图;

图3为排列盘的结构示意图;

图4为排列盘的俯视图;

附图标记:1、取件工位;2、上片工位;3、料盘;4、凸起;5、吸嘴;6、连接杆;7、丝杆螺母;8、丝杆;9、伺服电机;10、行走机构;11、给料滑道;12、挡板;13、位置传感器;14、推杆;15、气缸;16、安装座;17、第一线性电机;18、第二线性电机;19、排列盘;20、定位槽。

具体实施方式

在下文中,仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样,在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此,附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接,还可以是通信;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图1~4对本实用新型的实施例进行详细说明。

本实用新型实施例提供了一种谐振器上片装置,该上片装置包括:

取件工位1,其放置有石英晶片镀膜工装治具,所述石英晶片镀膜工装治具内均匀排列有多个完成镀膜的石英晶片。

上片工位2,其放置有料盘3,所述料盘3均匀设置多个用于放置基座的料槽。

吸放机构,其由多个吸嘴5构成;所述吸嘴5的真空泵通过连接杆6与丝杆螺母7固接,所述丝杆螺母7适配沿前后方向延伸的丝杆8,所述丝杆8与吸嘴5一一对应、且沿竖直方向并列设置,所述丝杆8由伺服电机9驱动。应当理解的是,吸放机构可以通过设置位置传感器来确定取件工位1与上片工位2的位置;也可以根据取件工位1和上片工位2的位置,通过控制器预设吸放机构行走量,来使吸放机构能分别对应于上片工位2与取件工位1。

行走机构10,其在控制器的控制下带动吸放机构沿左右及上下方向移动、将吸取的石英晶片从取件工位1输送至上片工位2;所述吸放机构由控制器控制。应当理解的是,真空泵、伺服电机9以及行走机构10的动力源均与控制器电连接。以一个料盘3为循环,可以对控制器的参数进行设定,对真空泵的启停、吸嘴5的行走轨迹以及行走机构10的行走轨迹进行控制;控制器的具体程式可通过相关技术人员或委托生产厂家进行编程,行走轨迹的编程控制为成熟的现有技术,在此不再赘述。

下面阐述本实用新型的实施方式,将石英晶片镀膜工装治具与料盘3分别放置在取件工位1与上片工位2,并启动本装置。当行走机构10带动吸放机构从上片工位2向取件工位1移动时,控制器会通过伺服电机9驱动丝杆8转动、对每个吸嘴5的位置进行调整,从而使吸嘴5的位置与石英晶片镀膜工装治具内的一列石英晶片对应适配;接着,吸放机构会将石英晶片镀膜工装治具内的一列石英晶片吸出;然后行走机构10会带动吸放机构从取件工位1向上片工位2移动,此时,控制器会通过伺服电机9驱动丝杆8转动、对每个吸嘴5的位置进行调整,从而使吸嘴5的位置与料盘3的一列料槽对应适配;当吸放机构移动到上片工位2后,会将一列石英晶片对应放置在一列基座内。如此,吸放机构每来回行走一次,即可完成一列石英晶片的上片操作。本实用新型可以对石英晶片进行批量上片,从而加快上片速度、提高生产效率。

作为本实用新型的进一步优化,所述取件工位1的左侧适配有给料滑道11,所述给料滑道11从左往右斜向下延伸、且宽度与石英晶片镀膜工装治具适配;所述取件工位1的右侧设置有挡板12。应当理解的是,给料滑道11可以向取件工位1逐一输送石英晶片镀膜工装治具。

进一步地,所述挡板12与吸放机构对应设置有位置传感器13,所述取件工位1的前侧设置工装出口、后侧适配由气缸15驱动的推杆14;所述位置传感器13及气缸15分别与控制器电连接。应当理解的是,控制器可以通过位置传感器13对吸放机构的吸取次数进行监控,可以根据石英晶片镀膜工装治具的具体行数进行设定,当吸放机构的吸取次数达到石英晶片镀膜工装治具的行数时,控制器会通过气缸15驱动推杆14,将空置的石英晶片镀膜工装治具推出工装出口,接着,下一石英晶片镀膜工装治具会在自身重力的作用下滑入取件工位1。

进一步地,所述吸放机构固定在安装座16上。应当理解的是,伺服电机9固定在安装座16上,丝杆8通过轴承与安装座16连接。

进一步地,所述行走机构10包括驱动安装座16沿竖直方向移动的第一线性电机17和驱动第一线性电机17沿左右方向移动的第二线性电机18;所述第一线性电机17及第二线性电机18分别与控制器电连接。

进一步地,所述料盘3适配有排列盘19,所述排列盘19内设置与料槽一一对应的定位槽20,所述定位槽20的深度低于基座的高度,所述定位槽20内设置对基座构成选位限定的凸起4。应当理解的是,排列盘19的定位槽20内设置了凸起4,基座只能以倒扣的方式排列在定位槽20内;先将基座排列在排列盘19内,然后向排列盘19扣上料盘3并翻转,即可将基座排列在料盘3内;这样可以避免人员操作失误、导致基座以倒扣的方式排列在料盘3内。

虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式,但是本领域的技术人员应当理解,在不背离本实用新型的原理和实质的前提下,可以对这些实施方式做出多种变更或修改,但这些变更和修改均落入本实用新型的保护范围。

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