一种窑炉自动进料机构的制作方法

1.本技术涉及古建瓦制作的领域，尤其是涉及一种窑炉自动进料机构。


背景技术：

2.在中国的古建筑中常用到种类繁多的砖瓦，这些砖瓦大都给人以沉稳、古朴和自然的美感，为了追求这种美感，现代社会的一些建筑也会用到仿造的古建瓦，在制作古建瓦时需要将泥坯压制成瓦片的外形，然后再进行干燥和烧制。
3.参照图1，瓦片的烧制需要在窑炉100内进行，泥坯经过压制和干燥后经进料机构运输到窑炉100内进行烧制，进料机构包括传送辊300和电机400，传送辊300从窑炉100的进料口110延伸至窑炉100的出料端120，电机400驱动链条传动，传送辊300在链条的作用下发生转动，干燥后的瓦片堆积成垛型放置在托盘中，再放置在传送辊300上，传送辊300不停转动，从而使得托盘向窑炉100进料口110处运动，瓦垛被送入窑炉100内。
4.针对上述中的相关技术，发明人认为在传送辊上相邻瓦垛之间的距离是不确定的，瓦垛进入窑炉内后可能会由于距离过近导致紧靠在一起使得受热不充分。


技术实现要素：

5.为了改善瓦垛距离过近导致在窑炉内受热不充分的现象，本技术提供一种窑炉自动进料机构。
6.本技术提供的一种窑炉自动进料机构采用如下的技术方案：
7.一种窑炉自动进料机构，包括设置在窑炉进料口处的支架、传送辊和电机，所述传送辊设置在支架上，从窑炉的进料口处延伸至出料端处，所述电机用于驱动传送辊转动，所述传送辊上设置有多个光电检测器；
8.位于进料口处的光电检测器为第一光电检测器，位于所述第一光电检测器远离进料口的一侧的光电检测器为第二光电检测器，所述第一光电检测器和第二光电检测器之间的一段传送辊为第一传送辊，用于驱动第一传送辊的电机为第一电机，所述第二光电检测器远离进料口一侧的传送辊为第二传送辊，用于驱动第二传送辊的电机为第二电机，位于窑炉进料口至出料端之间的传送辊为第三传送辊，用于驱动第三传送辊的电机为第三电机；
9.所述第一光电检测器与第一驱动电机电连接，用于控制第一传送辊的启停，所述第二光电检测器与第二电机电连接，用于控制第二传送辊的启停。
10.通过采用上述技术方案，瓦垛经传送辊运输至窑炉内进行烧制，第三传送辊在第三电机的作用下一直转动，当第一光电检测器处没有瓦垛时，整条传送辊正常工作；当瓦垛运动处窑炉进料口处时第一光电检测器控制第一电机断路使得第一传送辊不再转动，瓦垛在第三传送辊的作用下在窑炉内传送，若此时第二光电检测器检测到有瓦垛，则第二电机断路使得第二传送辊不再转动，减少了由于第二光电检测器处的瓦垛移动导致的与前方瓦垛距离过近的现象；若此时第二光电检测器处没有瓦垛，则第二电机继续工作直至瓦垛运
动到第二光电检测器处再停止。光电检测器控制电机的启停，相邻两瓦垛距离过近时光电检测器会使电机停止工作，当相邻两瓦垛之间的距离合适时再继续传送，从而减少了由于瓦垛之间距离过近导致烧制过程中受热不充分的现象。
11.可选的，所述第二光电检测器远离进料口的一侧设置有第三光电检测器，所述第二光电检测器和第三光电检测器之间的距离等于瓦垛在传送辊运动方向上的长度，所述第三光电检测器与第二电机电连接，与第二光电检测器同时控制第二传送辊的启停。
12.通过采用上述技术方案，由第二光电检测器和第三光电检测器同时对瓦垛的位置进行定位，第二光电检测器和第三光电检测器能够对瓦垛的位置进行两次定位，使得相邻瓦垛之间的距离更精确。
13.可选的，两根所述传送辊之间设置有连接杆，所述连接杆具有与传送方向平行的分量，所述连接杆上滑动连接有定位片，所述光电检测器安装在定位片上。
14.通过采用上述技术方案，光电检测器安装在定位片上，定位片可沿着连接杆滑动，工作人员可以通过滑动定位片改变光电检测器在连接杆上的位置，从而改变光电检测器和进料口之间的距离，使得光电检测器与进料口之间的距离和瓦垛的尺寸相匹配。
15.可选的，所述连接杆远离瓦垛的一端设置有固定块，所述连接杆穿设于固定块内且与固定块滑动连接，所述固定块相对的侧面上设置有螺栓，所述螺栓与固定块连接后与连接杆抵接。
16.通过采用上述技术方案，在对不同的瓦片进行烧制时，瓦垛的尺寸是不同的，滑动连接杆可以改变光电检测器与瓦垛之间的距离，减少了由于光电检测器距离瓦垛过远导致的检测不准的现象，也减少了由于光电检测器距离瓦垛过近导致的瓦垛不能顺利向进料口内移动的现象。
17.可选的，所述窑炉进料口处设置有挡板，所述挡板距离传送辊的高度是可调节设置的。
18.通过采用上述技术方案，工作人员可以根据瓦垛的高度调节挡板距离传送辊的高度，减少了由于高度过低导致的瓦垛不能顺利进入窑炉内的现象也减少了由于高度过高导致的窑炉内散热过快的现象。
19.可选的，所述第三光电检测器远离进料口的一侧设置有限高装置，所述限高装置包括螺纹杆和条形板，所述条形板和传送辊平行，所述条形板两端均穿设有所述螺纹杆，在条形板的两侧用螺母固定，所述螺纹杆远离水平杆的一端与传送辊的支架连接。
20.通过采用上述技术方案，工作人员可以根据进料口的高度调节条形板的高度，瓦垛的高度低于条形板的高度时才能从条形板下方穿过，在传送辊的作用下向进料口的方向运动，瓦垛的高度高于条形板的高度时工作人员可以手动取下部分瓦片，使得瓦垛能够顺利经进料口进入到窑炉内。
21.可选的，所述第一传送辊处设置有导向板，所述导向板沿着瓦垛的运动方向设置在第一传送辊上方。
22.通过采用上述技术方案，瓦垛运动至第一传送辊处，导向板能够减少瓦垛移动过程中向传送辊边缘处偏移的现象，使得瓦垛能够顺利的进入到窑炉内。
23.可选的，所述导向板上表面设置有滚轮，所述滚轮的切线方向与传送辊的运动方向一致。
24.通过采用上述技术方案，当瓦垛偏移至导向板的位置处时会与滚轮相切，滚轮在瓦垛的作用下会转动，减少了瓦垛与导向板之间的摩擦力，有利于瓦垛向窑炉内移动。
25.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
26.1.传送辊上设置有距离检测装置，能够检测相邻瓦垛之间的距离，当距离过近时会使远离进料口的瓦垛停止前进，减少了由于瓦垛距离过近导致的瓦垛受热不充分的现象；
27.2.支架上设置有限高装置，限高装置的高度低于窑炉进料口的高度，使得瓦垛能够顺利进入窑炉内。
附图说明
28.图1是本技术相关技术的整体结构示意图；
29.图2是本技术实施例的整体结构示意图；
30.图3是本技术实施例的局部结构示意图；
31.图4是本技术实施例中限高装置的结构示意图；
32.图5是图3中a处的放大图；
33.图6是光电检测器处的电路图。
34.附图标记说明：100、窑炉；110、进料口；111、滑槽；112、挡板；113、定位螺栓；120、出料端；200、支架；300、传送辊；310、第一传送辊；311、导向板；312、滚轮；320、第二传送辊；400、电机；410、第一电机；420、第二电机；500、光电检测器；510、第一光电检测器；520、第二光电检测器；530、第三光电检测器；600、连接杆；610、定位片；620、固定块；630、螺栓；700、限高装置；710、螺纹杆；720、条形板；730、螺母；800、控制电路；810、第一控制电路；820、第二控制电路。
具体实施方式
35.以下结合附图2
‑
6对本技术作进一步详细说明。
36.本技术实施例公开一种窑炉自动进料机构。参照图2和图3，窑炉100进料机构包括支架200、传送辊300第一电机410和第二电机420，第一电机410和第二电机420均设置在地面上，传送辊300安装在支架200上，从进料口110延伸至出料端120处，将瓦垛运输至窑炉100内进行烧制。传送辊300上设置有多个光电检测器500，用于检测相邻两组瓦垛之间的距离，其中第一光电检测器510位于窑炉100进料口110的位置，第二光电检测器520位于第一光电检测器510远离进料口110的一侧，第三光电检测器530位于第二光电检测器520远离进料口110的一侧，第二光电检测器520和第三光电检测器530之间的距离和瓦垛沿着传送辊300运动方向的长度相同。
37.在第一光电检测器510和第二光电检测器520之间的传送辊300为第一传送辊310，第一电机410驱动链条传动，第一传送辊310在链条的作用下发生转动，用于传送瓦垛；位于第二光电检测器520远离进料口110一侧的传送辊300为第二传送辊320，第二电机420驱动链条传动，第一传送辊310在链条的作用下发生转动，用于传送瓦垛；从第一光电检测器510至窑炉100出料端120之间的传送辊300为第三传送辊300，第三电机400设置在窑炉100内部，能够驱动链条传动，第三传送辊300在链条的作用下发生转动，用于传送瓦垛，在窑炉
100烧制瓦片的过程中，第三传送辊300一直保持转动。
38.瓦垛传送至进料口110处时，若相邻两瓦垛距离过小，第一传送辊310和第二传送辊320会停止运动，瓦垛停止前进，等待靠近进料口110的一组瓦垛向进料口110处运动一段距离后再继续前进，使得相邻两组瓦垛之间的距离变大，利于瓦垛充分受热。
39.第一传送辊310上还安装有导向板311，瓦垛运输至第一传送辊310时如果发生了偏移，会贴着导向板311向进料口110处运动，最终进入到窑炉100内，减少了偏移过量导致的与窑炉100侧壁撞击的现象，导向板311的上表面还设置有滚轮312，滚轮312的切线方向与传送辊300的运动方向一致，当瓦垛偏移至导向板311的位置处时会贴着导向板311运动，滚轮312发生转动，减少了瓦垛和导向板311之间的阻力。
40.窑炉100的进料口110高度能够根据瓦垛的尺寸进行调节，使得进料口110的高度与瓦垛的高度相匹配，如果进料口110过高容易加快窑炉100内部的散热，如果进料口110过低容易导致进入窑炉100内的瓦垛体积过小，影响烧制效率。因此在窑炉100进料口110两侧开设有竖直方向的滑槽111，滑槽111处滑移连接有挡板112，工作人员可以根据瓦垛的尺寸调节挡板112与传送辊300之间的高度，并用定位螺栓113固定。为了与进料口110的高度相匹配，第二传送辊320上在第三光电检测器530远离进料口110的一侧还设置有限高装置700。
41.参照图4，限高装置700包括螺纹杆710和条形板720，条形板720与传送辊300平行，与传送辊300的高度不大于窑炉100进料口110的高度，螺纹杆710从条形板720的两端穿过，在条形板720的上下侧面用螺母730进行固定。瓦垛能从条形板720下穿过，则能顺利进入到进料口110内，减少了由于瓦垛过高导致的不能进入窑炉100内的现象。
42.参照图5，第一光电检测器510是通过连接杆600安装在支架200上的，连接杆600具有与传送辊300运动方向平行的分量，在本技术实施例中连接杆600呈l型，包括与传送辊300运动方向平行的部分和与传送辊300运动方向垂直的部分，与传送辊300动方向平行的部分上安装有定位片610，定位片610与连接杆600滑动连接，第一光电检测器510安装在定位片610上，滑动定位片610能够改变光第一电检测器510与窑炉100进料口110之间的距离。连接杆600与传送辊300动方向垂直的部分设置有固定块620，连接杆600与固定块620滑动连接，可以朝向靠近或者远离瓦垛的方向滑动，固定块620上还设置有用于固定连接杆600的螺栓630。沿着连接杆600滑动定位片610可以调节光电检测器500和进料口110之间的距离，滑动连接杆600可以调节光电检测器500与瓦垛之间的距离。
43.参照图6，电机400处设置有控制电路800，第一电机410处的为第一控制电路810，能够控制第一电机410的启停；第二电机420处的为第二控制电路820，能够控制第二电机420的启停。
44.第一控制电路810包括pnp型三极管q1，pnp型三极管q1的基极和电阻器r1串联后与第一光电检测器510的信号输出端电连接，发射极与电源电连接，集电极与电阻器r2串联后再接地，其中第一光电检测器510输出的信号为k1。
45.第二控制电路820包括与门and和pnp型三极管q2，与门and有三个输入端，分别和第一光电检测器510的信号输出端、第二光电检测器520的信号输出端和第三光电检测器530的信号输出端电连接，与门and的信号输出端和电阻器r4串联后再和pnp型三极管q2的基极电连接，pnp三极管q2的发射极与电源电连接，集电极与电阻器r3串联后再接地,其中
第二光电检测器520输出的信号为k2，第三光电检测器530输出的信号为k3。
46.本技术实施例一种窑炉自动进料机构的实施原理为：在烧制瓦片之前，首先根据瓦垛的高度调节进料口110处挡板112的高度和限高装置700中条形板720的高度，使得瓦垛能顺利从条形板720下方通过向进料口110处运动，并通过进料口110进入到窑炉100内。然后根据瓦垛的尺寸调节光电检测器500之间的距离，使得第二光电检测器520和第三光电检测器530之间的距离等于瓦垛的宽度，第一光电检测器510和第二光电检测器520之间的距离能够保证瓦垛受热均匀且不浪费窑炉100内的空间。
47.启动各个电机400，传送辊300开始转动，其中第三传送辊一直转动，第一传送辊310和第二传送辊320的运动状态会受到瓦垛位置的影响。瓦垛匀速向窑炉100进料口110处运动。当第一光电检测器510检测到没有瓦垛时会输出低电平，pnp三极管q1导通，第一电机410保持工作，第一传送辊310继续转动，此时第二光电检测器520和第三光电检测器530无论是否检测到有瓦垛，与门and均输出低电平，pnp三极管q2导通，第二传送辊320也继续转动。
48.当第一光电检测器510检测到瓦垛时会输出高电平，pnp三极管q1截止，第一电机410停止工作，第一传送辊310不再继续转动，瓦垛在第三传送辊的作用下向窑炉100内部运动，若此时第二光电检测器520和第三光电检测器530均检测到瓦垛，则此时与门and输出高电平，pnp三极管q2截止，第二传送辊320也不再继续转动；若此时第三光电检测器530检测到有瓦垛，第二光电检测器520检测到没有瓦垛，此时与门and输出低电平，pnp三极管q2导通，第二传送辊320继续转动，直到瓦垛运动至第二光电检测器520处再停止。
49.故当相邻两组瓦垛之间的距离不大于第一光电检测器510和第二光电检测器520之间的距离时，第一传送辊310和第二传送辊320均停止转动，减少两组相邻瓦垛之间距离过近导致瓦垛受热不充分的现象；当相邻两组瓦垛之间的距离大于第一光电检测器510和第二光电检测器520之间的距离时，第二传送辊320会继续转动，知道瓦垛运动至第二光电检测器520处，减少了两组瓦垛之间距离过远导致窑炉100内部空间浪费的现象。
50.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。