一种用于PECVD工艺的电池片托盘的制作方法

一种用于pecvd工艺的电池片托盘
技术领域
1.本实用新型涉及太阳能电池片生产工装，尤其涉及一种用于pecvd工艺的电池片托盘。


背景技术：

2.等离子体增强化学气相沉积（pecvd）设备，在pecvd设备工艺过程中，需要尽量减少电池片与托盘产生接触面积，避免不必要的污染及磨损，从而提高电池片的发电效率。在pecvd工艺过程中，现将电池片（即硅片）放在托盘中，在将整个托盘放入pecvd反应炉腔中进行工艺，工艺过程先对整个pecvd反应炉腔抽真空，如图1所示：电池片的上空间（11）和下空间（12）皆为真空。参看图2所示，当托盘送到冷却腔内回填n2时，电池片下表面的空间（12）相对密闭，气压变化缓慢，而电池片上表面先受到回填气压的影响，产生向下的压力，电池片产生翘曲，电池片下表面容易碰触托盘底部而受到污染。
3.因此，如何设计一种减小电池片与托盘触面积，能有效防止电池片污染及磨损的电池片托盘，是业界亟待解决的技术问题。


技术实现要素：

4.为了解决现有技术中存在的上述缺陷，本实用新型提出一种用于pecvd工艺的电池片托盘。
5.本实用新型采用的技术方案是设计一种用于pecvd工艺的电池片托盘，其具有平板状的托盘本体，托盘本体顶面设有多个矩形的凹陷的电池片放置槽，所述电池片放置槽的四个侧壁皆采用两级台阶结构，其中部的台阶围拢成一个框状的电池片支撑台阶，电池片放在该电池片支撑台阶上进行pecvd工艺，所述电池片支撑台阶上设有多个气道，所述气道沟通电池片上表面空间和下表面空间。
6.所述气道为矩形的凹槽。
7.所述气道为半椭圆形的凹槽。
8.所述气道为倒角式缺口。
9.所述电池片放置槽的四个电池片支撑台阶中，每个电池片支撑台阶上设有至少一个气道，所有气道均匀分布。
10.所述电池片放置槽为正方形。
11.本实用新型提供的技术方案的有益效果是：
12.本实用新型可防止冷却腔内n2回填时电池片翘曲变形，使电池片上表面的空间与电池片下表面的密闭空间尽快实现压强平衡，防止电池片变形后与托盘凹槽底面接触产生污染，从而影响电池片发电效率。
附图说明
13.下面结合实施例和附图对本实用新型进行详细说明，其中：
14.图1是现有托盘中电池片摆放示意图；
15.图2是现有托盘在冷却腔内n2回填时电池片翘曲示意图；
16.图3是本实用新型的俯视图；
17.图4是气道采用矩形的凹槽的局部放大示意图；
18.图5是单个电池片放置槽的俯视图；
19.图6是气道采用半椭圆形的凹槽的局部放大示意图；
20.图7是气道采用倒角式缺口的局部放大示意图；
21.图8是图5中a-a剖面示意图。
具体实施方式
22.为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型作进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
23.本实用新型对于现有托盘进行改进，防止冷却腔内n2回填时，使电池片上表面的空间与电池片下表面的密闭空间尽快实现压强平衡，防止电池片变形后与托盘凹槽底面接触产生污染，从而影响电池片发电效率。
24.本实用新型公开了一种用于pecvd工艺的电池片托盘，其具有平板状的托盘本体1，托盘本体顶面设有多个矩形的凹陷的电池片放置槽2。图3是托盘的俯视图，本例中有5
×
5共25个电池片放置槽，也可以根据实际需求调整放置槽的布局及数量。
25.参看图1或图2所述电池片放置槽的四个侧壁皆采用两级台阶结构，其中部的台阶围拢成一个框状的电池片支撑台阶3，电池片5放在该电池片支撑台阶上进行pecvd工艺。参看图5示出的单个电池片放置槽的俯视图，所述电池片支撑台阶3上设有多个气道4。图8示出了图5中a-a剖面示意图，气道可以沟通电池片上表面空间和下表面空间。当托盘送到冷却腔内回填n2时，电池片上空间11和下空间12通过气道沟通，气压迅速均衡，电池片不会产生翘曲。为了表述清楚，本申请使用了台阶结构这个名词，其结构见附图1、2、4。放置槽侧壁从横截面上看为台阶状，台阶共有两级，电池片放置在中部的（中间的）一个台阶面上，该台阶面围拢成一个框状平面。电池片5放该电池片支撑台阶上。
26.在一个实施例中，所述气道4为矩形的凹槽4a，参看图4示出的气道采用矩形的凹槽的局部放大示意图。
27.在另一个实施例中，所述气道4为半椭圆形的凹槽4b，参看图6示出的气道采用半椭圆形的凹槽的局部放大示意图。
28.在另外一个实施例中，所述气道4为倒角式缺口4c，参看图7示出的气道采用倒角式缺口的局部放大示意图。
29.值得一提的是，在保证电池片下表面能完全覆盖住所述气道的前提下，所述气道的形状不局限于上述三种，也可以是任一形状。
30.参看图5示出的单个电池片放置槽的俯视图，所述电池片放置槽2的四个电池片支撑台阶中，每个电池片支撑台阶上设有至少一个气道4，所有气道均匀分布。
31.在较佳实施例中，每个电池片支撑台阶上都设有两个或两个以上的气道4。
32.在较佳实施例中，所述电池片放置槽2为正方形，用于放置全片电池片。根据实际
需求，也可以改变电池片放置槽2的形状，使电池片放置槽2可以放置半片电池片等。
33.以上实施例仅为举例说明，非起限制作用。任何未脱离本申请精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于本申请的权利要求范围之中。


技术特征：
1.一种用于pecvd工艺的电池片托盘，其特征在于：具有平板状的托盘本体（1），托盘本体顶面设有多个矩形的凹陷的电池片放置槽（2），所述电池片放置槽的四个侧壁皆采用两级台阶结构，其中部的台阶围拢成一个框状的电池片支撑台阶（3），电池片（5）放在该电池片支撑台阶上进行pecvd工艺，所述电池片支撑台阶（3）上设有多个气道（4），所述气道沟通电池片上表面空间和下表面空间。2.如权利要求1所述的用于pecvd工艺的电池片托盘，其特征在于：所述气道（4）为矩形的凹槽（4a）。3.如权利要求1所述的用于pecvd工艺的电池片托盘，其特征在于：所述气道（4）为半椭圆形的凹槽（4b）。4.如权利要求1所述的用于pecvd工艺的电池片托盘，其特征在于：所述气道（4）为倒角式缺口（4c）。5.如权利要求1所述的用于pecvd工艺的电池片托盘，其特征在于：所述电池片放置槽（2）的四个电池片支撑台阶（3）中，每个电池片支撑台阶上设有至少一个气道（4），所有气道均匀分布。6.如权利要求1所述的用于pecvd工艺的电池片托盘，其特征在于：所述电池片放置槽（2）为正方形。

技术总结
本实用新型公开了一种用于PECVD工艺的电池片托盘，其具有平板状的托盘本体（1），托盘本体顶面设有多个矩形的凹陷的电池片放置槽（2），所述电池片放置槽的四个侧壁皆采用两级台阶结构，其中部的台阶围拢成一个框状的电池片支撑台阶（3），电池片（5）放在该电池片支撑台阶上进行PECVD工艺，所述电池片支撑台阶（3）上设有多个气道（4），所述气道沟通电池片上表面空间和下表面空间；本实用新型可防止冷却腔内N2回填时电池片翘曲变形，使电池片上表面的空间与电池片下表面的密闭空间尽快实现压强平衡，防止电池片变形后与托盘凹槽底面接触产生污染，从而影响电池片发电效率。从而影响电池片发电效率。从而影响电池片发电效率。


技术研发人员：左国军 芦伟 沈晨鑫
受保护的技术使用者：常州捷佳创精密机械有限公司
技术研发日：2021.12.24
技术公布日：2022/7/12