从基板剥离成像介质的制作方法

专利名称：从基板剥离成像介质的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于从基板剥离或以其它方式移除介质的方法和设备。本发明的特定实施例被提供于成像机中，其中包含施主材料的介质经成像以将施主材料赋予到基板上， 并且该介质在成像后被从基板移除。
背景技术：
诸如液晶显示器等的彩色显示器通常包含用来为像素提供颜色的滤色器。一种用 于制造滤色器的技术涉及激光诱导的热转移过程。在图IA中示意性示出一种特定的现有 技术热转移过程。用施主元件(常常被称为“施主片”)12覆盖基板(经常被称为“受体元 件”)10。在滤色器制造的情况下，基板10通常由玻璃制成并具有大体平坦的形状。施主元 件12通常为片，所述片与基板10相比相对较薄且相对挠性。例如，施主元件12可由塑料 制成。施主元件12包含施主材料(未示出)。所述施主材料可包括用于制造滤色器的着色 齐U、颜料等。施主元件12经逐图像(image-wise)曝光以将施主材料从施主元件12选择性地 转移至基板10。一些曝光方法涉及控制用于发射辐射束的辐射源。例如，如图IA所示，采 用一个或多个可控激光器14来提供一个或多个对应的激光束16。在当前优选的技术中， (一个或多个)激光束16诱导施主材料从施主元件12的成像区域转移至基板10的对应区 域。(一个或多个)可控激光器14可包括(一个或多个)相对易于调制、具有相对较低成 本且具有相对较小尺寸的二极管激光器。(一个或多个)这样的激光器14是可控的，以直 接逐图像曝光施主元件12。在一些实施例中，使用掩膜(未示出)来逐图像曝光施主元件 12。一旦施主材料已从施主元件12逐图像转移至基板10，通常就有必要从基板10移 除成像施主元件12。例如，在制造滤色器期间，可使用第一施主元件12以将红色着色剂施 加于基板10，可使用第二施主元件12以施加绿色着色剂，且可使用第三施主元件12以施加 蓝色着色剂。使用后，给定的成像施主元件12被从基板10移除，随后施加和使用后续的施 主元件12。在各种现有技术中，使用包含一个或多个抽吸部件20的辊18来从基板10移除施 主元件12。将辊18带到施主元件12的边缘12A附近(如箭头19所示)，并且然后通过 抽吸部件20来施加抽吸，以使得施主元件12的边缘12A被固定至抽吸部件20。然后旋转 (如箭头22所示)且平移(如箭头24所示)辊18，以将施主元件12卷绕脱离基板10并 卷到辊18的圆周表面18A上，从而从基板10上剥离施主元件12。
在一些情况下，在移除过程期间，与施主元件12的曝光区域对应的一些施主材料 可能保持部分地附着到施主元件12，而不是如预计地那样附着到基板10。施主材料到施主 元件12的部分附着可能使得难以从基板10移除施主元件12。在一些情况下，从基板10移 除施主元件12会导致已转移到基板10的一些施主材料与保持附着到施主元件12的一些 施主材料之间的不规则分离。例如，图IB示出了位于基板10顶部上的部分施主元件12。 施主元件12的区域已被曝光以形成成像区域25。成像区域25与非成像区域27由成像边 缘25A分离。然而，在从基板10移除施主元件12期间，不是在成像边缘25A处整齐地分 离，而是分离可能发生在成像边缘25A附近的成像区域25内的较大区域中。如图IC所示， 在移除施主元件12后，施主材料可能沿与成像边缘25A对应的基板10的区域没有保持均 勻地分布。相反，保持转移到这个区域的施主材料量可能比期望的要少，并且沿这个区域所 转移的施主元件的分布可能是不均勻的。这就会导致形成包括断裂和其它各种间断的边缘 25B。这些断裂的边缘会导致最终图像中的令人讨厌的视觉伪影。另外，施主材料还可能延 伸到非成像区域27中，这也是不期望的。通常期望的是提供用于更有效地从基板移除成像介质的方法和设备。通常期望的是提供用于在施主材料已从施主元件转移到基板后更有效地从基板 移除施主元件的方法和设备。

发明内容
本发明涉及一种用于对介质进行成像的方法。该介质被放置在以层状配置支撑基 板和介质的支撑物上。操作成像头以在实现成像头和该支撑物之间的相对运动时，通过朝 所成像介质的表面引导辐射束来对该介质进行成像。使诸如例如惰辊之类的辊与所成像介 质相接触。能够使该辊与所成像介质的表面的非成像区域接触，该非成像区域对应于未被 辐射束照射的所成像介质的表面的区域。该非成像区域可以是介质的边缘部。该辊可绕旋转轴旋转。实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动，以使得辊在由 辐射束照射的所成像介质的表面的区域上沿滚动方向滚动。能够使得辊沿远离该边缘部的 方向在所成像介质的表面上滚动。然后从基板移除所成像介质。在一个实施例中，在从基 板剥离所成像介质时，可以通过将所成像介质的一部分缠绕到辊的圆柱面的一部分上来移 除所成像介质。剥离方向可以是在与滚动方向相同的方向上或相反的方向上。在一个实施 例中，滚动方向可以是但不必然是与扫描方向、支撑物的传送方向或者形成在基板上的条 纹特征的方向平行。在从基板移除所成像介质后，附加介质可以以层状配置放置在支撑物上的基板 上。可以在实现成像头和该支撑物之间的相对运动时对该附加介质进行成像。然后可以在 实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动时从基板移除所成像的附加介质。在一个实施例中，当卷取辊不在介质的表面上滚动时，卷取辊可以用来卷绕 (spool)所成像介质的一部分。当从基板移除所成像介质时，可以将所成像介质的一部分卷 绕到卷取辊上。在一个实施例中，诸如例如磁粉制动器或其它合适制动器之类的制动器用来在使 辊在所成像介质的表面的一部分上滚动时对该辊选择性地施加阻力(drag)。在另一个实施例中，一种用于对介质进行成像的方法包括提供用于以层状配置支撑基板和该介质的支撑物。在介质和基板处于层状配置时，操作成像头以朝介质发射辐 射束来对该介质进行成像。使辊与所成像介质的表面相接触。在使辊在所成像介质的表面 上滚动时，对辊选择性地施加诸如例如旋转阻力之类的阻力。该阻力可以用制动器来施加 或者可以通过激活致动器来施加。从基板移除所成像介质。可以在从基板剥离所成像介质 之前或同时，在所成像介质的表面上滚动辊。在一个实施例中，辊可以在所成像介质的表面上沿多个不同的方向滚动，并且当 辊在表面上沿每个方向滚动时，可以以不同量在不同时刻对辊选择性地施加阻力。可以在 使所成像介质和基板维持层状配置时，在所成像介质的表面上滚动辊。可以在从基板剥离 介质时，在所成像介质的表面上滚动辊。接触辊可以在所成像介质的表面上滚动，并且可以 在从基板剥离所成像介质时，将所成像介质的一部分缠绕到接触辊的表面的一部分上。当 卷取辊不在所成像介质的表面上滚动时，卷取辊可以用来卷绕所成像介质的一部分。可以 在从基板剥 离所成像介质时将所成像介质的该部分卷绕到卷取辊上。在另一个实施例中，在支撑物上支撑基板。在支撑物上支撑基板后将施主元件定 位在基板上。操作成像头以通过朝施主元件引导辐射束来对该施主元件进行成像。使可绕 旋转轴旋转的辊与所成像施主元件的表面相接触。实现辊的旋转轴和所成像施主元件之间 的多个相对运动，以使得辊在所成像施主元件的一个或多个成像区域上滚动多次。每当辊 在一个或多个成像区域上滚动时，可以在相同方向或不同方向上滚动该辊。与在辊的旋转轴和所成像施主元件之间的另一相对运动期间相比，在辊的旋转轴 和所成像施主元件之间的一个相对运动期间，当辊在所成像施主元件的一个或多个成像区 域上滚动时，可以用制动器或其它装置对辊施加不同量的阻力。在辊的旋转轴和所成像施主元件之间的相对运动期间，从基板移除所成像施主元 件。在从基板移除所成像施主元件后，从支撑物移除基板。在辊的旋转轴和所成像施主元 件之间的多个相对运动中的任一相对运动期间，不从支撑物移除基板。在从基板移除所成像施主元件后，第二施主元件可以被定位在基板上并且被成 像。可以在实现辊的旋转轴和所成像的第二施主元件之间的相对运动时，从基板移除第二 施主元件。使辊在所成像施主元件的区域上滚动减少了当从基板剥离施主元件时沿特征边 缘的边缘间断。通过使用被适配为当辊在所成像施主元件的区域上滚动时增加施加到辊的 阻力量的制动器，来调节当从基板剥离所成像施主元件时保持转移到基板表面上的施主材 料的量。在另一个实施例中，提供一种用于对介质进行成像的设备，该设备包括被适配为 以层状配置支撑基板和介质的支撑物。成像头被适配为朝介质发射辐射束以对该介质进行 成像。提供辊，并且制动器被适配为对该辊选择性地施加阻力。机架支撑该辊，以使得该辊 可相对于该机架旋转。控制器可以包括一个或多个控制器，该控制器被配置成操作该成像 头以朝介质发射辐射束。控制器实现机架和支撑物之间的相对运动，以在所成像介质和基 板处于层状配置时，使辊位于所成像介质的附近。控制器还实现机架和支撑物之间的多个 相对运动，以使得辊在所成像介质的表面上滚动多次。另外，控制器可以控制该制动器，以 在机架和支撑物之间的一个相对运动与机架和支撑物之间的另一个相对运动之间选择性 地改变施加到辊的阻力。


图IA示出现有技术热转移过程，其中从基板剥离所成像施主元件；图IB和图IC示出当从基板常规地剥离所成像施主元件时形成边缘间断；图2A示意性地示出根据本发明的示例实施例的图像形成系统的平面图；图2B示意性地示出图2A的成像系统的部分横截面图；图2C示意性地示出按照本发明的示例实施例，在从基板移除所成像施主元件之前在所成像施主元件上滚动接触辊；图2D、2E和2F示意性地示出按照本发明的示例实施例的、用于移除图2C的施主 元件的片移除设备所采用的一系列操作；图3示出表示根据本发明的示例实施例的方法的流程图；以及图4示出表示当接触辊在由基板所支撑的所成像施主元件上滚动时，该接触辊的 运动的示意性力图。
具体实施例方式在整个以下描述中，呈现特定细节以向本领域技术人员提供更透彻的理解。然而， 可能没有详细示出或描述公知的元件，以避免使公开内容不必要地晦涩难懂。因此，说明书 及附图被认为是说明性的，而非限制性的意义。另外，附图可以不必然按比例绘制，并且其 部分为清楚起见可以被放大。图3示出表示按照本发明的示例实施例的、用于移除在基板上支撑的成像介质的 方法的流程图。参照根据本发明的示例实施例的设备100来描述图3中所示的各个步骤， 在图2A-2F中示出该设备100的一部分。这仅用于举例目的，并且其它合适的图像形成设 备可以用于本发明。在步骤300中，处理该介质以形成图像。在这个示例实施例中，通过成 像技术(即也称为曝光技术)来形成图像。成像技术可以采用辐射束(例如激光束)来在 表面上形成图像。这些图像可以以各种方式来形成。例如，成像技术可以用来改变图像可 修改层的属性或特性，以在其上形成图像。成像技术可以用来烧蚀表面以在其上形成图像。 成像技术可以用来促进施主材料到表面的转移以在其上形成图像。在这个所示的实施例中，仅通过示例方式，采用热转移过程并且介质包括施主元 件112。提供包括诸如激光器的辐射源(未示出)的成像头102，以将施主材料(也未示 出)从施主元件112转移到基板110 (在图2A中以虚线示出)的表面。成像头102可以包 括一个或多个通道114。在这个所示的实施例中，成像头102包括通道排列114 ；每个通道 114可单独被控制以发射辐射束116 (未示于图2A中)。操作成像头102来引导辐射束116 以照射到施主元件112的各个区域上。成像电子装置103依据控制器108所提供的图像数 据104来控制辐射束116从通道102的发射。在这个所示的实施例中，基板110、成像头102或者两者的组合相对于彼此移动， 同时响应于图像数据104来控制通道114，以使辐射束116在施主元件112上以逐图像方 式进行扫描。在一些情况下，成像头102是固定的而移动基板110。在另一些情况下，基板 110是固定的而移动成像头102。在又一些情况下，移动成像头102和基板110两者。在本 发明的一些示例实施例中，成像头102以步进重复方式对施主112进行曝光。在这些实施例中，成像头102和施主元件112之间的相对运动可以在曝光发射(shot)之间发生。在一 些情况下，施主元件112可能太大而不能在单次曝光或扫描内被成像。为使图像完整可能 需要成像头102的多次曝光或扫描。可以应用任何合适的机构以使成像头102相对于基板110移动。平板(flat bed)标记系统通常用于在包括基本平坦定向的表面上形成图像。Gelbart的美国专利 6，957，773描述了一种适合用于显示面板曝光的高速平板成像器。在一些示例实施例中，适 当挠性的基板能够被固定到“鼓型”支撑物的外表面或内表面，以影响图像在显示组件上的 形成。
图2A示出了设备100的图像形成系统的示意性平面图。在图2A中，提供支撑物 101，以用于以层状配置支撑基板110和施主元件112。在这个所示的实施例中，支撑物101 被适配为沿与主扫描轴42对准的路径传送基板110和施主元件112。在这个实施例中，支 撑物101可沿多个传送方向(即正向42A和反向42B)移动。正向42A与反向42B相反。 支撑物101可以在正向42A和反向42B之间往复运动。成像头102可移动地支撑在支撑物 105上，该支撑物105跨在支撑物101上。在这个示例实施例中，成像头102可沿与副扫描 轴44对准的路径移动。在这个实施例中，成像头102可以沿离开(away)方向44A和沿回 归(home)方向44B移动。离开方向44A与回归方向44B相反。在这个所示的实施例中，成 像头102可以在施主元件112上双向扫描辐射束116以形成图像。双向扫描技术可以增强 成像生产力，原因在于在每个相反的扫描方向上都能够进行扫描。运动系统109被提供以引起支撑物101和/或成像头102的运动，并且可以包括 合适的驱动、传动构件和/或导引构件。运动系统109可以包括一个或多个运动系统。本 领域技术人员将会意识到分离的运动系统也可以用来操作设备100内的不同系统。可以包括一个或多个控制器的控制器108用来控制设备100的一个或多个系统， 包括但不限于运动系统109。控制器108可以使图像数据104被传送到成像头102，并且依 据该数据来控制成像头从而发射辐射束116。控制器108也可以控制除设备100之外的系 统。控制器108可被配置成执行合适的软件并且可包括一个或多个数据处理器以及合适的 硬件，所述硬件通过非限制性示例方式包括可存取存储器、逻辑电路、驱动器、放大器、A/D 和D/A转换器、输入/输出端口等等。控制器108可包括(而非限制)微处理器、单片计算 机、计算机的CPU或者任何其它合适的微控制器。控制器108可以与材料处理系统相关联。图2B示出设备100的图像形成系统的示意性部分横截面图。在所示的热转移过程 中，基板110可以通过本领域中已知的各种技术(例如抽吸)而固定至支撑物101。在这个 所示的实施例中，施主元件112与基板110被定位成层状配置，其中在基板110被支撑在支 撑物101上之后，施主元件112被置放在基板110上。为了保持图像质量，期望的是，防止 施主元件112在成像期间相对于基板110移动。如图2B所示，支撑物101包括支架118，所 述支架118与基板110的边缘横向隔开，并具有基本上与基板110的厚度类似的高度。支 撑物101还包括一个或多个抽吸部件120，该抽吸部件120在支架118与基板110之间的空 间122中施加抽吸。该抽吸将施主元件112固定到基板110上。本领域的技术人员将会明 白，存在用于将施主元件112固定到基板110上的其它附加和/或可选的技术，并且应将本 发明理解为适应这种附加和/或可选的施主元件固定技术。例如，可使用各种激光诱导热转移技术来实施施主材料从施主元件112到基板110的转移。本发明所使用的激光诱导热转移过程的示例包括激光诱导“染料转移”过程、 激光诱导“熔融转移”过程、激光诱导“烧蚀转移”过程及激光诱导“质量转移”过程。一般而言，基板110、施主元件112及施主材料的组成取决于特定成像应用。在特 定实施例中，成像设备100用来在基板110上制造用于显示器的滤色器。在这样的实施例 中，基板110通常由透明材料(例如玻璃)制成，施主元件112通常由塑料制成，而施主材 料通常包含一种或多种着色剂。例如，这样的着色剂可包含基于染料或基于颜料的合适成 分。施主材料还可以包含一个或多个合适的粘合剂材料。
在所示的实施例中，约束成像头102来发射辐射束116，以使得它们照射施主元件 112的成像区域112B的各个区。因此，施主元件112的区域112A保持为未成像区，并且在 一些情况下可提供围绕成像区域112B的边界。因而，在所示的实施例中，仅将施主材料从 施主元件112转移到基板110的成像区域IlOB上而不转移到基板110的非成像区域IlOA 上。在所示的实施例中，非成像区域112A的部分113伸出基板110之外并由支架118支撑。在成像过程结束时，从基板110移除施主元件112。在这个示例实施例中，期望的 是，施主元件112以减少形成在基板110上的各个特征边缘处的断裂和其它间断的存在的 方式从基板110上移除。图2C是描绘支撑物101、基板110和所成像施主元件112的一端的示意性局部侧 视图。通过片移除设备129来实现所成像施主元件112从基板110的移除，该片移除设备 129在这个所示的实施例中形成设备100的一部分。在所示的实施例中，片移除设备129包 含机架136以及多个辊(即接触辊130以及卷取辊132)，所述辊通过对应的一对辊耦合器 (接触辊耦合器138以及卷取辊耦合器140)来机械地耦合到机架136。辊130、132的形状优选为基本圆柱形。接触辊耦合器138以及卷取辊耦合器140 允许它们相应的辊130、132绕其对应的旋转轴130A、132A旋转。在所示的实施例中，卷取 辊耦合器140包括致动器133，所述致动器133实现卷取辊132的轴132A相对于机架136 的运动。在本文中将致动器133称为“卷取辊轴位置致动器133”。可通过控制器108使用 信号135来控制卷取辊轴位置致动器133。卷取辊轴位置致动器133 —般可包括任何适当 地耦合的致动器。可用来提供卷取辊轴位置致动器133的致动器的非限制性示例包括适当 地耦合的电动机和/或气动致动器。在所示的实施例中，卷取辊耦合器140还包括使得卷取辊132绕其轴132A旋转的 卷取辊旋转致动器139。可通过控制器108使用信号141来控制卷取辊旋转致动器139。优 选地，卷取辊旋转致动器139包含适当地耦合的电动机，但卷取辊旋转致动器139 —般可包 括任何适当地配置的致动器。在所示的实施例中，卷取辊132还包括一个或多个抽吸部件134。抽吸部件134可 包括流体连通地耦合到抽吸源143的孔口。如本领域内已知的，抽吸源143可包括用于产 生正压差或负压差的机构，诸如经适当配置的泵等等。可通过控制器108使用信号145来 控制抽吸源143，所述信号145也可控制与由抽吸源143实施抽吸有关的一个或多个阀或类 似部件(未示出)。在所示的实施例中，接触辊130是非驱动的“惰”辊。在可选的实施例中，接触辊 130可被旋转地驱动。片移除设备129还包括一个或多个机架位置致动器131，所述机架位 置致动器引起支撑物101与机架136之间的相对移动。支撑物101与机架136之间的相对移动导致在支撑物101与辊130和132之间的对应移动。在所示的实施例中，机架位置致 动器131使机架136相对于支撑物101移动，以实现支撑物101与机架136之间的相对移 动。在其它实施例中，机架位置致动器131使支撑物101相对于机架136移动，以实现支撑 物101与机架136之间的相对移动。机架位置致动器131 —般可包括任何一个或多个适当 地耦合的致动器。可用来提供机架位置致动器131的致动器的非限制性示例包含适当地耦 合的电动机和/或气动致动器。当期望从基板110移除所成像施主元件112时，控制器108使用信号以使机架位置致动器131产生机架136与支撑物101之间的相对移动，从而使得片移除设备129的机 架136以及其余部分被定位在施主元件112的一个边缘部115A的附近(参见图2C)。在 所示的实施例中，片移除设备129从垂直方向接近施主元件112。在其它实施例中，机架位 置致动器131从其它方向使片移除设备129接近施主元件112 (或使施主元件112接近片 移除设备129)。在步骤310中，片移除设备129朝施主元件112移动，直至接触辊130接 触施主元件112为止。优选地，接触辊130在非成像区域112A中(即在成像区域112B之 外)接触施主元件112。接触辊130与施主片112之间的接触的这种定位尽管对本发明而 言不是必要的，但其避免了接触辊130对施主元件112的成像区域112B的影响，并且防止 了可能由这种影响产生的在基板110的对应成像区域IlOB中的图像的任何对应恶化。在 这个所示的实施例中，卷取辊132没有与施主元件112相接触。在这个示例中，控制卷取辊 轴位置致动器133以使卷取辊132不接触施主元件112。在步骤320中，使接触辊130在所成像施主元件112的一部分的表面上滚动。在 这个示例实施例中，使接触辊130在包括成像区域112B的所成像施主元件112的一部分上 滚动。在本发明的这个所示的实施例中，使接触辊130在于步骤300期间被辐射束照射的 施主元件112的区域上滚动。在这个示例实施例中，使接触辊130沿从边缘部115A附近的 非成像区域112A通过成像区域112B延伸到边缘部115B附近的非成像区域112A的路径滚 动。控制器108使用信号137以使机架位置致动器131沿(如箭头148A所示的)滚动方 向移动机架136 (包括辊130、132)，从而使接触辊130在所支撑的施主元件112上滚动。在 这个所示的实施例中，接触辊130在其在所成像施主元件112上滚动时旋转(如箭头144 所示)。如图2C所示，这使接触辊130的旋转轴130A沿箭头148A的方向移动。图2C示出 接触辊130在所成像施主元件112上滚动，同时所成像施主元件112和基板110保持定位 成其层状配置。本发明人已出乎意料地确定了 在所成像施主元件112上滚动诸如接触辊130之 类的辊可以用来减少当随后从基板110移除所成像施主元件112时存在的诸如边缘间断之 类的伪影。具体而言，本发明人发现尤其是当从基板110剥离施主元件112时，在从基板 110移除所成像施主元件112之前滚动该所成像施主元件112可以导致施主材料在成像特 征边缘处的断裂减少。尽管本发明人不想受任何特定理论的束缚，但是所形成图像的改进 的视觉特性的一个可能原因可起因于当接触辊130在所成像施主元件112上滚动时在所成 像施主元件112与基板110之间存在“微滑动”。然而，要理解，附加或替代的原因可产生如 本发明所提供的改进的图像特性。图4示出表示当接触辊130在所支撑的施主元件112上滚动时该接触辊130的运 动的示意力图。除了界面力F之外，示出了作用在接触辊130上的所有力和力矩。作用在接触辊130上的力包括施加在接触辊130上的负荷W。负荷W可以包括由机架位置致动器 131施加在接触辊130上的力。力P表示为了沿箭头148A的方向在所支撑的施主元件112 的表面上移动接触辊所需的力，并且在这个所示的实施例中该力P由机架位置致动器131 提供。力偶M表示施加在接触辊上且与箭头144的旋转方向相反的摩擦阻力或阻力。这个 阻力可以由包括接触辊耦合器138 (未示于图4中)的轴承的摩擦阻力的各种因素产生。接 触辊130可以包括柔性表面(compliant surface)，该柔性表面可以导致在辊130与所支撑 的施主元件112之间的接触点处的各种变形。在图4中在区域170处示出这样的变形。这 些变形使接触辊130与施主元件112之间的接触不是发生在单条接触线处而是发生在可以 引起“滚动阻力”的特定区域上。尽管图4中所示的变形限于接触辊130，但是要理解的是， 变形也可以发生在辊滚动所沿的表面上。图4示出由所支撑的施主元件112在这个区域上 施加在接触辊130上的力的合成是在点171处施加的反作用力R。点171不是位于旋转轴 130A的正下方而是稍微在其前面。点171离旋转中心172位移了距离b。距离b在本领域 内被称为滚动阻力系数。然而要注意，b不是无量钢系数，因为其以长度的单位来表达。反 作用力R的分量是接触辊130与所支撑的施主元件112之间的摩擦力f”在施主元件112 和基板110之间还存在界面力F。接触辊130的半径被示为“r”。围绕点171作用在接触辊130上的力矩总和可以用以下关系表达(即假设辊正以 恒定速度移动)(I)P * r ^ M+(W*b)。沿接触辊130的移动方向148A作用在接触辊130上的力的总和可用以下关系表 达(即假设辊正以恒定速度移动)(2)f\ = P。通过重组关系(1)和(2)，可以建立以下关系(3) fi = P ^ (M+ (W*b)) /r。当这些各种参数组合以使摩擦力超过界面力F时，可在施主元件112与基板110 之间发生一些滑动。称为微滑动的小量滑动可在接触区附近的施主元件到基板界面的区域 中发生。界面力F取决于各种因素，所述因素可以包括所成像施主元件112与基板110之间 的压制力(例如施主元件112与基板110之间施加的抽吸)、负荷W以及和施主元件到基板 界面有关的各种摩擦参数。其它因素可以包括为在所形成的各种图像特征的边界处剪切施 主材料而必须克服的剪切力。当摩擦力大得足以克服界面力F时，可剪切在所成像特征 的边界处的施主材料，因为摩擦力引起在所成像特征边界附近的所成像施主元件112的 局部剪切。施主材料的局部剪切可进而减小当从基板110剥离所成像施主元件112时在所 成像特征边界处可能发生的断裂量。本发明人已发现当从基板110移除所成像施主元件 112时，滚动接触辊130经过成像区域112A显著地促进沿形成在基板110的成像区域IlOB 中的特征边缘的伪影的减少。可以各种方式将摩擦力增加到期望水平。关系(3)表明可以通过增加负荷W或 者通过采用具有减小的半径r的接触辊130来增加摩擦力f”这可以在本发明的各个实施 例中完成，而在本发明的其它实施例中，各种因素可限制与这些参数相关联的容许变化的 程度。例如，负荷W的过度增加可导致足以损坏已被转移到基板110的施主材料从而降低 最终图像的视觉质量的接触应力。减小接触辊130的尺寸可导致辊的不期望偏转，这会负面影响接触辊130在施主元件112上均勻滚动的能力。减小接触辊130的尺寸还会助长前 述的接触应力问题。负荷W的增加也可增加界面力F。在本发明的一些示例实施例中，接触辊130包括使得滚动阻力系数b足以在从基 板110剥离所成像施主元件112时获得期望图像质量的材料或几何结构。在本发明的一些 示例实施例中，调节接触辊130与施主元件112之间的各种摩擦属性以获得期望的图像质 量。例如，这些摩擦属性可以包括调节接触辊130和施主元件112中的一者或两者的材料 属性以改变相关的摩擦系数。关系(3)还表明还可以通过增加力偶M产生的阻力来增加摩擦力f\。在图2C中 所示的本发明的示例实施例中，采用制动器200以将接触辊130上的阻力选择性地调节到 适于减少诸如前述边缘间断之类的伪影的期望水平。制动器200由信号201控制，以在接 触辊130在所支撑的施主元件112的表面上滚动时向接触辊130选择性地施加期望量的阻 力。制动器200可以由受信号201控制的各种致动器致动。尤其是在接触辊130执行各种 不同功能的应用中，制动器200的使用会特别有利。与其它参数中的一些参数不同，特定功 能所需的施加到接触辊的阻力量可以依据该功能所需的期望阻力量而由适当地激活的制 动器200容易地调整。就这一点而言，制动器200可以按照接触辊130所需的特定功能的 要求而被选择性地激活，从而允许接触辊130执行不同的功能。在本发明的这个所示实施 例中，制动器200的功能之一是在步骤320期间给接触辊130选择性地施加足够量的阻力， 以在随后从基板110移除所成像施主元件112时提高所形成图像的视觉质量。在本发明的 各个示例实施例中，控制接触辊130以沿滚动方向滚动，该滚动方向基本上与随后为从基 板110移除施主元件112而剥离施主元件112所沿的方向平行。在本发明的一些示例实施例中，由制动器200的制动动作所产生的碎片在特定的 应用(例如在洁净室环境中形成滤色器)中是不期望的。在这些实施例中，使这种碎片的 生成最小化的制动器200是优选的。例如，这样的制动器可以包括磁粉制动器和磁滞制动
ο在所示的实施例中，选择性地控制制动器200以施加旋转阻力到接触辊130。在 本发明的其它示例实施例中，可以以其它方式选择性地使用阻力。例如，接触辊130可以是 从动辊，其被控制以在驱动接触辊130从而在所成像施主元件112上滚动时移动机架136。 可以控制各种致动器以选择性地施加约束机架136移动的力。可以控制各种致动器以选择 性地施加线性阻力到机架136。用于在所支撑的施主元件112上滚动接触辊130的合适参数通常将取决于各种因 素，所述因素可以包括施主元件112的基板、施主材料以及基板120的材料属性。诸如所施 加的阻力之类的参数通常通过反复试验过程来确定。在本发明的所示实施例中，接触辊130沿滚动方向(即图2C中的箭头148A的方 向)滚动，该滚动方向基本上与在图像形成步骤300期间传送支撑物101所沿的运动方向 平行。在这个示例实施例中，滚动方向基本上与主扫描轴42平行。在本发明的各个示例实 施例中，滚动方向可以基本上与在施主元件112的成像期间扫描辐射束所沿的方向平行。 在本发明的各个示例实施例中，特征的图案可以在步骤300期间被成像。图案中的所成像 特征可以沿一个或多个方向重复，并且接触辊130可以被控制以沿基本上与这一个或多个 方向之一平行的滚动方向滚动。在本发明的各个示例实施例中，连续条纹特征或中断条纹特征的图案可以在步骤300期间被成像。可以控制接触辊130以沿基本上与连续或中断条 纹特征延伸的方向平行的滚动方向滚动。在本发明的一些示例实施例中，在步骤300中形 成的各个所成像特征可用依据接触辊130随后滚动所沿的特定滚动方向而选择的定向来 形成。可以选择所成像特征的特定定向，以便于当接触辊130在施主元件112上滚动且随 后从基板110移除施主元件112时提高最终图像中的视觉质量。在步骤330中从基板110移除所成像施主元件112。在这个所示的实施例中，在 接触辊130已滚动经过成像区域112B到达边缘部115B附近的非成像区域112A后，移除施 主元件112。如图2D所示，信号135使卷取辊轴位置致动器133移动卷取辊132到所成像 施主元件112附近。优选地，卷取辊132移到施主元件112的非成像区域112A附近，位于 比接触辊130的位置距成像区域112B更远的位置处。在这个所示的实施例中，卷取辊132 移到非成像区域112A的部分113附近。在当前优选的实施例中，卷取辊132移到部分113 附近，位于至少部分覆盖支架118的位置处。在一些实施例中，卷取辊132移到非成像区域 112A附近，位于比将施主元件112固定到基板110的抽吸部件120距基板110的边缘隔开 得更远的位置处。当卷取辊132接触施主元件112时，控制器108使用信号145以使抽吸源143通 过抽吸部件134来施加抽吸。通过抽吸部件134施加抽吸使得一部分非成像区域112A (包 括边缘部115B)附着到卷取辊132 (即抽吸部件134将一部分非成像区域112A固定到卷取 辊132)上。在一些实施例中，卷取辊132在非成像区域112A中接触施主元件112，并且直 接施加抽吸以将施主元件112固定到卷取辊132上。在其它实施例中，在施加抽吸前，卷取 辊132不需要接触施主元件112。在这样的实施例中，当通过抽吸部件134施加抽吸时，一 部分施主元件112可被朝着卷取辊132吸引，随后被固定到卷取辊132上。在一些实施例 中，在通过抽吸部件134施加抽吸之前或期间，控制器108可切断或减小由抽吸部件120所 施加的抽吸。
在一些实施例中，抽吸部件134位于卷取辊132的圆柱面上的一个或多个已知位 置。在这样的实施例中，控制器108优选使用信号141来以“位置模式”操作卷取辊旋转致 动器139。在位置模式操作中，控制器108使用一种控制技术，所述控制技术使致动器139 以任意速度(在其可控的速度范围内)移动卷取辊132以达到所期望的位置。如图2D所 示，卷取辊132的期望位置是抽吸部件134位于最接近施主元件112的位置。在所示的实 施例中，卷取辊132被示为仅在其圆柱面上的一个圆周位置中具有抽吸部件。本领域技术 人员将会明白，在其它实施例中，卷取辊132可包括在其圆柱面上的多个圆周位置处的抽 吸部件。图2E示出了一旦施主元件112的边缘部115B被固定到卷取辊132的圆柱面上，控 制器108就使用信号135来使卷取辊轴位置致动器133移动卷取辊132远离基板110(即 在沿箭头146的方向上具有至少一个分量的方向上)。如通过比较图2D与2E可见，卷取 辊轴位置致动器133使得卷取辊132相对于机架136以及相对于接触辊130移动，同时机 架136和接触辊130保持在相同的位置。当卷取辊132以此方式移动时，施主元件112的 边缘部115B以及可能一些非成像区域112A远离支撑物101移动。如图2E中所示，接触辊130优选保持与施主元件112接触，并且可对施主元件112 施加力。因而，在接触辊130的一侧(即远离卷取辊132的一侧)的一部分施主元件112保持与基板110接触，而在接触辊130的相反侧(即卷取辊132的相同侧)的一部分施主元件112从基板110剥离开，并且围绕接触辊130的圆周表面弯曲。接触辊130的特性(例 如其直径和/或形成其圆柱面的材料)和/或接触辊130接触施主元件112的方式的特性 (例如这种接触的力和/或压力)可以用来控制恰好在剥离之前施主元件112与基板110 之间的有效接触面积。在一些实施例中，在接触辊130与施主元件112之间的有效接触面积 小于接触辊130的圆周表面积的10%。在其它实施例中，这个比率小于5%。在一些实施 例中，在接触辊130与施主元件112之间所施加的力小于作用在接触辊130上的重力(即 机架136支撑接触辊130的一些重量)。卷取辊132远离基板110的运动还可包括卷取辊132在一个或多个与基板110相 切的方向上的运动。例如，卷取辊轴位置致动器133可使卷取辊132在曲线路径上移动。在 卷取辊132远离基板110的运动期间，控制器108可使用信号141来促成卷取辊旋转致动 器139使卷取辊132绕其轴132A转动(pivot)。卷取辊132的这种转动运动可以用来卷取 已从基板110剥离的所成像施主元件112的部分中的任何松弛部分，或者以其它方式在所 成像施主元件112的该部分上跟踪(track)所期望的张力。在此期间，控制器108可使用 信号141来以“扭矩模式”控制卷取辊旋转致动器139。在扭矩模式操作中，控制器108使 用一种控制技术，所述控制技术使致动器139以任意速度(在其可控的速度范围内)移动 卷取辊132以跟踪所期望的扭矩。本领域技术人员将会明白，可改变由卷取辊轴位置致动器133引起的卷取辊132 的运动量，以获得所期望的剥离角θ。在所示的实施例中，其中接触辊130与卷取辊132基 本上具有相同的尺寸，剥离角θ将与辊130、132的旋转轴130Α、132Α之间的角度相同。在 一些实施例中，部分地根据介质(即施主材料、基板110以及施主元件112)，剥离角θ小于 三十(30)度。在当前优选的实施例中，剥离角θ小于五(5)度。接着，如图2F所示，控制器108使用信号137来使机架位置致动器131在箭头148Β 的方向上移动机架136 (包括辊130、132)，并且使用信号141来促成卷取辊旋转致动器139 使卷取辊132同时相对于机架136以及支撑物101沿箭头147的方向旋转。卷取辊132的 旋转和机架136的这种同时运动围绕接触辊130拉动施主元件，并且从基板110剥离施主 元件112。当接触辊130沿剥离方向(即沿箭头148Β的方向)在所成像施主元件112上 滚动时，接触辊130沿箭头146的方向旋转。如图2F所示，该旋转使接触辊130的旋转轴 130Α沿箭头148Β的方向移动。在这个所示的实施例中，箭头148Β的方向与接触辊130在 步骤320中滚动所沿的箭头148Α的方向相反。在这个所示的实施例中，与在步骤330期间 接触辊130的运动相关联的剥离方向和与在步骤320期间接触辊130的运动相关联的滚动 方向相反。优选地，在该部分片剥离过程期间，控制器108使用信号141来以“扭矩模式”操 作卷取辊旋转致动器139，其中控制器108使卷取辊132以任意速度(在其可控的速度范围 内)旋转，以达到所期望的扭矩。当卷取辊旋转致动器139以扭矩模式操作以跟踪这个所 期望的扭矩时，施主元件112上的剥离张力被保持得相对接近于所期望的剥离张力。在其 它实施例中，控制器108使用信号141来以“位置模式”操作卷取辊旋转致动器139，从而跟 踪与机架136的平移位置同步的位置。随着卷取辊132沿箭头147的方向旋转并且沿箭头148Β的方向平移，施主元件112被卷取辊132 “卷起”(即围绕卷取辊132的圆柱面卷绕)。接触辊130保持与仍在基 板110上的施主元件112的部分接触，并且可对施主元件112施加力。如上文所讨论的，在 所示的实施例中，接触辊130是惰辊。接触辊130防止施主元件112过早地与基板110分 离，并且确保施主元件112以所期望的剥离角θ与基板110分离。在本发明的这个所示实施例中，与在对应于步骤320的成像后滚动顺序期间相 比，当接触辊在所成像施主元件112从基板110分离和移除期间在所成像施主元件112的 表面上滚动时，控制制动器200以对接触辊130施加不同量的阻力。即，实现接触辊130的 旋转轴130Α与所成像施主元件112和支撑物101之间的多个相对运动，以使接触辊在成像 区域112Β上滚动多次(即在步骤320和330中)。在该多个相对运动之一期间，通过所描 述的剥离方法从基板110移除施主元件112。在这个所示的实施例中，选择性地控制制动器 200，以在每个相对运动期间对接触辊130施加不同量的阻力。选择性施加的不同量的阻力 可以包括比在步骤320中施加的阻力量更大或更小的量的阻力。在本发明的这个所示实施 例中，控制制动器200以在步骤330期间比在步骤320期间施加更小的阻力。在这个实施 例中，在从基板110移除施主元件112期间，制动器200对接触辊130基本没有施加额外阻 力。然而要注意，制动器200即使在未致动时也可提供某种形式的最小阻力。可以致动制 动器200，以在变化的持续时间内对接触辊130施加变化的量的阻力，并且这些量和持续时 间可以根据涉及接触辊130的应用的要求来进行改变。可以控制制动器200，以在沿着接触 辊130滚动所沿的路径的各个位置处对接触辊130选择性地施加不同量的阻力。在片剥离过程期间，接触辊130和卷取辊132两者的同时旋转以及平移还防止了 “透印”效应。当在平移辊以从底层基板剥离施主元件时围绕辊缠绕施主元件时，可能出现 透印效应(即参见图1Α)。由于介质边缘可能具有不可忽略的厚度，所以最初固定到辊上 的介质的边缘可能使一部分未剥离的施主元件在所固定的边缘滚动到其上时呈现间断。由 于卷取辊132与基板110隔开，所以当被卷绕到卷取辊132上的施主片112的部分与边缘 部115Β重叠时，赋予到基板110上的图像不受影响。由施主元件112的边缘部115Β所引 起的厚度变化不影响赋予到基板110上的图像。当接触辊130接近施主元件112的边缘部115Α时，控制器108可使用信号137以 使机架位置致动器131移动机架136远离施主元件112，并且可使用信号141以使卷取辊 旋转致动器139旋转卷取辊132，以便卷取施主元件112的“尾部”。在这部分施主元件112 移除过程期间，控制器108可以位置模式操作卷取辊旋转致动器139。一旦从基板110移除了施主元件112，第二施主元件112 (例如不同颜色的施主元 件112)可以被定位在基板110上，并且可以采用与本发明所教导的类似方法来进一步对第 二施主元件112进行成像，并且在其已被成像时移除第二施主元件112。在这个所示的实 施例中，在步骤340中从支撑物101移除基板110。施主元件移除设备129不需要从支撑 物101移除基板110，因为可以采用本领域内已知的其它机构。在本发明的这个所示实施例 中，在为使接触辊在前面步骤中在成像区域112Β上滚动多次而实现的、接触辊130的旋转 轴130Α与所成像施主元件112之间的多个相对运动中的任一个期间，不从支撑物101移除 基板110。在从基板110移除所成像施主元件112之前，“预先滚动”所成像施主元件112可以用来减少当从基板110移除施主元件112时可能出现的伪影。具体而言，可以通过在移除所成像施主元件112之前在所成像施主元件112上预先滚动接触辊130，来调节当从基板剥离所成像施主元件112时保持转移到基板110表面的施主材料的量。可以通过对保持 转移到基板表面的施主材料的量的该调节，来减少诸如边缘间断之类的伪影。就这一点而 言，本发明人发现尤其是当特定区域在形成在基板110上的特征的边缘部附近时，可以通 过在从基板110移除施主元件112之前使接触辊130在施主元件112上滚动，来减小预计 转移到基板110的该特定区域的施主材料的数量和分布的变化。尽管在这个所示的实施例中，在预先滚动步骤和剥离步骤两者中使用相同的接触 辊130，但是本领域技术人员将会很快确定在这些步骤的每一个中可以使用不同的滚动构 件。接触辊130可以包括其功能仅专用于本发明的预先滚动方面的辊。本发明的各个实施例已就制造用于各种显示器的滤色器进行了描述。在本发明的 一些示例实施例中，显示器可以是IXD显示器。在本发明的其它示例实施例中，显示器可以 是有机发光二极管(OLED)显示器。OLED显示器可以包括不同的配置。例如，以与IXD显 示器类似的方式，不同颜色特征可以被形成到与白色OLED源结合使用的滤色器中。可选 地，在本发明的各个实施例中可以用不同OLED材料来形成显示器中的不同颜色的照明源。 在这些实施例中，基于OLED的照明源它们本身控制彩色光的发射而不必要求无源滤色器。 OLED材料可以被转移到合适的介质上。可以用激光诱导热转移技术将OLED材料转移到受 体元件。虽然已将显示器和电子装置制造中的应用用作示例描述了本发明，但是本文所描 述的方法可直接应用于其它应用，包括那些用于芯片实验室(LOC)制造的生物医学成像的 应用。该发明可以应用于其它技术，诸如医学、印刷以及电子制造技术。具体参照本发明的特定优选实施例来详细地描述了该发明，但是要理解可以在本 发明的精神和范围内实现变型和修改。部件列表10 基板12 施主元件12A 边缘14 激光器16 激光束18 辊18A 圆周表面19 箭头20 抽吸部件22 箭头24 箭头25 成像区域25A 成像边缘25B 边缘27 非成像区域42 主扫描轴
42A正向42B反向44副扫描轴44A离开方向44B回归方向100设备101支撑物102成像头103成像电子装置104图像数据105支撑物108控制器109运动系统110基板IlOA非成像区域IlOB成像区域112施主元件112A非成像区域112B成像区域113部114通道115A施主元件边缘部115B施主元件边缘部116辐射束118支架120抽吸部件122空间129片移除设备130接触辊130A旋转轴131机架位置致动器132A旋转轴132卷取辊133卷取辊轴位置致动器134抽吸部件135信号136机架137信号
138接触辊耦合器
139 卷取辊旋转致动器140 卷取辊耦合器141 信号143 抽吸源144 箭头145 信号146箭头147箭头148A箭头148B箭头170区171点200制动器201信号300步骤310步骤320步骤330步骤340步骤W负荷P力M力偶b滚动阻力系数R反作用力Π摩擦力f界面力r半径θ剥离角
权利要求
一种用于对介质进行成像的方法，包括提供被适配为以层状配置支撑基板和该介质的支撑物；操作成像头，以在实现成像头和该支撑物之间的相对运动时，通过朝所成像介质的表面引导辐射束来对该介质进行成像；使辊与所成像介质相接触，其中该辊能够绕旋转轴旋转；实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动，以使辊在由辐射束照射的所成像介质的表面的区域上滚动；以及在使辊在由辐射束照射的所成像介质的表面的区域上滚动之后，从基板移除所成像介质。
2.根据权利要求1的方法，其中，在从基板移除所成像介质后，该方法还包括在所述 支撑物上支撑附加介质和该基板；在实现成像头和该支撑物之间的相对运动时，对该附加 介质进行成像；以及在实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动时，从基板移除所成像的 附加介质。
3.根据权利要求1的方法，其中，使辊与所成像介质的表面的非成像区域相接触，该非 成像区域对应于未被辐射束照射的所成像介质的表面的区域。
4.根据权利要求3的方法，其中，该非成像区域包括介质的边缘部，且其中，实现辊的 旋转轴和支撑物之间的相对运动使得辊沿远离该边缘部的方向在所成像介质的表面上滚动。
5.根据权利要求1的方法，其中该辊是惰辊。
6.根据权利要求1的方法，其中，从基板移除所成像介质包括从基板剥离所成像介质。
7.根据权利要求6的方法，包括在从基板剥离所成像介质时，实现辊的旋转轴和支撑 物之间的附加相对运动，以使辊在所成像介质的表面的一部分上滚动。
8.根据权利要求6的方法，包括在从基板剥离所成像介质时，将所成像介质的一部分 缠绕到辊的圆柱面的一部分上。
9.根据权利要求6的方法，包括提供被适配为在所成像介质的表面上滚动的接触辊， 该方法还包括在从基板剥离所成像介质时，将所成像介质的一部分缠绕到接触辊的圆柱 面的一部分上。
10.根据权利要求1的方法，包括提供卷取辊，该卷取辊被适配为在卷取辊不在介质 的表面上滚动时卷绕所成像介质的一部分，该方法还包括在从基板移除所成像介质时，将 所成像介质的所述部分卷绕到卷取辊上。
11.根据权利要求9的方法，包括实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动，以使辊 在由辐射束照射的所成像介质的表面的区域上沿滚动方向滚动，以及实现接触辊和支撑物 之间的相对运动，以在从基板剥离所成像介质时，使得接触辊在所成像介质的表面的一部 分上沿剥离方向滚动，其中该剥离方向基本上与滚动方向平行。
12.根据权利要求11的方法，其中，滚动方向和剥离方向是相反的方向。
13.根据权利要求1的方法，其中，操作成像头，以通过沿扫描方向在所成像介质的表 面上扫描该辐射束来对该介质进行成像，且该方法还包括实现辊的旋转轴和支撑物之间 的相对运动，以使辊在由辐射束照射的所成像介质的表面的区域上、沿基本上与该扫描方 向平行的滚动方向滚动。
14.根据权利要求1的方法，包括在对该介质进行成像时，沿传送方向移动支撑物和 成像头之一，其中，实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动使得辊在由辐射束照射的介 质的表面的区域上、沿基本上与该传送方向平行的滚动方向滚动。
15.根据权利要求1的方法，包括在使辊在所成像介质的表面的一部分上滚动时，对 该辊选择性地施加阻力。
16.根据权利要求1的方法，包括提供制动器，该制动器被适配为在使辊在所成像介 质的表面的一部分上滚动时对该辊选择性地施加阻力。
17.根据权利要求16的方法，其中，该制动器是磁粉制动器和磁滞制动器中之一。
18.根据权利要求1的方法，其中，该介质是施主元件，且该方法还包括操作成像头以 朝施主元件引导辐射束，从而将施主材料从施主元件转移到基板，以在基板上形成条纹特 征，其中，该条纹特征沿基本上与在实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动以使辊在由 辐射束照射的介质的表面的区域上滚动时、辊在所成像介质的表面上滚动所沿的方向平行 的方向延伸。
19.根据权利要求1的方法，包括在从基板移除所成像介质后从支撑物移除基板。
20.一种用于对介质进行成像的方法，包括提供被适配为以层状配置支撑基板和该介质的支撑物；在介质和基板处于层状配置时操作成像头，以朝介质发射辐射束来对该介质进行成像；使辊与所成像介质的表面相接触；在使辊在所成像介质的表面上滚动时，对辊选择性地施加阻力；以及 从基板移除所成像介质。
21.根据权利要求20的方法，包括在使辊在所成像介质的表面上滚动时，对辊选择性 地施加旋转阻力。
22.根据权利要求20的方法，包括提供在工作中连接到辊的制动器，其中，该制动器 被适配为在使辊在所成像介质的表面上滚动时对辊选择性地施加阻力。
23.根据权利要求20的方法，包括选择性地激活致动器，以使得在使辊在所成像介质 的表面上滚动时对辊选择性地施加该阻力。
24.根据权利要求20的方法，其中，从基板移除所成像介质包括从基板剥离所成像介质。
25.根据权利要求20的方法，包括在从基板移除所成像介质时，使辊在所成像介质的 表面上滚动。
26.根据权利要求24的方法，包括在使辊在所成像介质的表面上滚动后从基板剥离 所成像介质。
27.根据权利要求20的方法，包括在所成像介质的表面上沿多个不同方向滚动辊，以 及当辊在该表面上滚动时，对辊选择性地施加不同量的阻力。
28.根据权利要求24的方法，包括在使所成像介质和基板维持层状配置时，在所成像 介质的表面上滚动辊，以及在从基板剥离介质时，在所成像介质的表面上滚动辊。
29.根据权利要求28的方法，其中，在辊在所成像介质的表面上滚动时对辊选择性地 施加阻力包括与在从基板剥离所成像介质时、当辊在所成像介质的表面上滚动时相比，在使所成像介质和基板维持层状配置时、当辊在所成像介质的表面上滚动时，对辊施加不同 量的阻力。
30.根据权利要求28的方法，其中，在辊在所成像介质的表面上滚动时对辊选择性地 施加阻力包括与在从基板剥离所成像介质时、当辊在所成像介质的表面上滚动时相比，在 使所成像介质和基板维持层状配置时、当辊在所成像介质的表面上滚动时，对辊施加更大 的量的阻力。
31.根据权利要求24的方法，包括提供被适配为在所成像介质的表面上滚动的接触 辊，该方法还包括在从基板剥离所成像介质时，将所成像介质的一部分缠绕到接触辊的表 面的一部分上。
32.根据权利要求24的方法，包括提供卷取辊，该卷取辊被适配为在卷取辊不在所成 像介质的表面上滚动时卷绕所成像介质的一部分，该方法还包括在从基板剥离所成像介 质时，将所成像介质的该部分卷绕到卷取辊上。
33.根据权利要求20的方法，包括用热转移过程来对该介质进行成像。
34.根据权利要求20的方法，其中该辊是惰辊。
35.根据权利要求20的方法，包括在从基板移除所成像介质后从支撑物移除基板。
36.一种用于对施主元件进行成像的方法，包括在支撑物上支撑基板；在支撑物上支撑基板后将该施主元件定位在基板上；操作成像头，以通过朝施主元件引导辐射束来对该施主元件进行成像；使辊与所成像施主元件的表面相接触，其中该辊能够绕旋转轴旋转；实现辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相对运动，以使辊在所成像施主元件的 一个或多个成像区域上滚动多次；在辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相对运动中的一个相对运动期间，从基板 移除所成像施主元件；以及在从基板移除所成像施主元件后从支撑物移除基板，其中，在辊的旋转轴和所成像施 主元件之间的多个相对运动中的任一相对运动期间，不从支撑物移除基板。
37.根据权利要求36的方法，其中，实现辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相 对运动包括实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动。
38.根据权利要求36的方法，其中，在从基板移除所成像施主元件后，该方法包括将 第二施主元件定位在基板上；用成像头对该第二施主元件进行成像；以及在实现辊的旋转 轴和所成像的第二施主元件之间的相对运动时，从基板移除第二施主元件。
39.根据权利要求36的方法，其中，辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相对运 动中的两个相对运动使得辊在所成像施主元件的一个或多个成像区域上沿不同方向滚动。
40.根据权利要求36的方法，其中，辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相对运 动中的两个相对运动使得辊在所成像施主元件的一个或多个成像区域上沿相反方向滚动。
41.根据权利要求36的方法，包括与在辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相 对运动中的另一个相对运动期间相比，在辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相对运 动中的一个相对运动期间，当辊在所成像施主元件的一个或多个成像区域上滚动时，对辊 施加不同量的阻力。
42.根据权利要求36的方法，包括与在辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相 对运动中的另一个相对运动期间相比，在辊的旋转轴和所成像施主元件之间的多个相对运 动中的一个相对运动期间，当辊在所成像施主元件的一个或多个成像区域上滚动时，对辊 施加更大量的阻力。
43.根据权利要求36的方法，包括提供制动器，该制动器被适配为在实现辊的旋转 轴和所成像施主元件之间的多个相对运动时，对辊选择性地施加阻力。
44.根据权利要求36的方法，其中该辊是惰辊。
45.用于对介质进行成像的设备，包括 支撑物，其被适配为以层状配置支撑基板和介质；成像头，其被适配为朝介质发射辐射束以对该介质进行成像；辊；制动器，其被适配为对该辊选择性地施加阻力；机架，其被适配为支撑该辊，以使得该辊能够相对于该机架旋转；控制器，被配置成操作该成像头以朝介质发射辐射束；实现机架和支撑物之间的相对运动，以在所成像介质和基板处于层状配置时，使辊位 于所成像介质的附近；实现机架和支撑物之间的多个相对运动，以使辊在所成像介质的表面上滚动多次；以及控制该制动器，以在机架和支撑物之间的多个相对运动中的一个相对运动与机架和支 撑物之间的多个相对运动中的另一个相对运动之间选择性地改变施加到辊的阻力。
46.根据权利要求45的设备，其中，在机架和支撑物之间的多个相对运动中的一个相 对运动期间，从基板剥离所成像介质。
47.根据权利要求46的设备，包括提供卷取辊，其中该卷取辊被适配为在卷取辊不在 所成像介质的表面上滚动时，卷绕所成像介质的一部分，且该控制器还被配置成操作卷取 辊，以在从基板剥离所成像介质时，使所成像介质的一部分被卷绕到卷取辊上。
48.一种成像方法，包括以层状配置定位施主元件和基板；提供成像头，该成像头被适配为通过朝施主元件引导辐射束来对施主元件进行成像， 以将施主材料从施主元件转移到基板表面，从而在基板上形成特征； 使辊位于所成像施主元件的表面附近； 从基板剥离所成像施主元件；以及在从基板剥离所成像施主元件之前，实现辊和所成像施主元件之间的相对运动，以使 辊在所成像施主元件的区域上滚动，从而调节当从基板剥离所成像施主元件时保持被转移 到基板表面的施主材料的量。
49.根据权利要求48的成像方法，其中，实现辊和所成像施主元件之间的相对运动以 使辊在所成像施主元件的区域上滚动减少了当从基板剥离施主元件时沿特征边缘的边缘 间断。
50.根据权利要求48的成像方法，包括提供制动器，该制动器被适配为增加当辊在所 成像施主元件的区域上滚动时施加到辊的阻力量，从而调节当从基板剥离所成像施主元件时保持被转移到基板表面的施主材料的量。
51. 一种成像方法，包括 以层状配置定位施主元件和基板；提供成像头，该成像头被适配为通过朝施主元件引导辐射束来对该施主元件进行成像；将施主材料从施主元件转移到基板表面以在基板上形成特征； 使辊位于所成像施主元件的表面附近；从基板剥离所成像施主元件；以及在从基板剥离所成像施主元件之前，实现辊和所成像施主元件之间的相对运动，以使 辊在所成像施主元件的区域上滚动，从而调节当从基板剥离所成像施主元件时被转移到基 板表面的施主材料的量。
全文摘要
提供一种用于对介质进行成像的方法，该方法包括以层状配置支撑基板和介质。操作成像头，以在实现成像头和该支撑物之间的相对运动时，通过朝所成像介质的表面引导辐射束来对该介质进行成像。使辊与所成像介质相接触。可以使辊与所成像介质的表面的非成像区域相接触，该非成像区域对应于未被辐射束照射的所成像介质的表面的区域。该非成像区域可以是介质的边缘部。实现辊的旋转轴和支撑物之间的相对运动，以使得辊在由辐射束照射的所成像介质的表面的区域上滚动。
文档编号B29C63/00GK101827700SQ200880112103
公开日2010年9月8日 申请日期2008年10月2日 优先权日2007年10月17日
发明者C·L·斯派尔斯, E·F·希菲尔, F·S·普林西普, I·M·加本, P·霍尔特, S·M·费希尔 申请人:加拿大柯达图形通信公司