1.用于陶瓷膜生产的覆膜装置,其特征在于,包括下输送装置(1)和处于所述下输送装置(1)上部的上输送装置(2),所述下输送装置(1)上输送陶瓷基板(3),所述上输送装置(2)上输送覆膜(4)。
2.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置,其特征在于,所述下输送装置(1)和上输送装置(2)的输送速度使陶瓷基板(3)和覆膜(4)对应贴合。
3.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置,其特征在于,所述上输送装置(2)为倾斜设置,包括前部设置的前输送带(21)和处于前输送带(21)后部的后输送辊(22);所述下输送装置(1)平面设置,为一输送带结构形式。
4.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置,其特征在于,所述下输送装置(1)上还设置有处于所述上输送装置(2)后部的切割装置。
5.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置,其特征在于,所述下输送装置(1)上设置有处于所述上输送装置(2)后部的喷气装置(5),所述喷气装置(5)倾斜设置,倾斜方向为上输送装置(2)、下输送装置(1)的运动方向。
6.根据权利要求5所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置,其特征在于,所述喷气装置(5)包括长条形的气箱(51),以及位于所述气箱(51)下部的若干均匀设置的喷嘴(52)。
7.根据权利要求6所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置,其特征在于,所述喷气装置(5)还包括向下延伸的挡板(53),所述挡板(53)将所述喷嘴(52)喷出的气体限制在下输送装置(1)所处的区域之内。