一种逆流圆塔的制作方法

文档序号:11499055阅读:421来源:国知局
一种逆流圆塔的制造方法与工艺

本实用新型涉及冷却塔技术领域,尤其涉及一种逆流圆塔。



背景技术:

在目前工业生产过程中,有很多的加工工艺都需要应用到冷却步骤,当出现大批量的冷却时,一般会采用冷却塔对冷却水进行冷却,使得其重复利用;目前的冷却塔一般采用喷淋系统将吸收热量的冷却水喷洒到填料层上,通过在填料层上与进入冷却塔的冷空气进行热交换,带走热量;而目前喷淋系统的喷头一般具有方向性,或者说不能360度的喷洒,导致填料层的利用率不高。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于解决现有技术的不足,提供一种逆流圆塔,该逆流圆塔可360度的喷洒,填料层利用率高。

为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案为:

一种逆流圆塔,包括塔体,塔体的上端设有风机和出风口,塔体的中部设有填料层,塔体的下端开设有进风孔,塔体的内侧面设有用于对进入空气过滤的回风网,塔体的底部设有集水盆,且集水盆连接有水缸;塔体在填料层的上方设有喷淋系统,所述喷淋系统设有旋转式喷水结构。

进一步地,所述旋转式喷水结构包括设置于塔体中部且呈竖直设置的主管道,主管道的上端开口且活动连接有中空的活动座,活动座的两侧分别连接有洒水管;两个洒水管上均设有喷口或喷头;活动座连接有旋转机构,旋转机构驱动活动座相对主管道旋转。

进一步地,活动座的上端连接有转轴,转轴与两侧的洒水管之间分别设有加强筋。

进一步地,旋转式喷水结构还可以为:包括主管道,主管道上设有多个活动喷头,喷头可相对主管道连接,所述喷头的管道中部设有叶轮。

进一步地,塔体的顶部还设有电机和减速器,电机通过皮带传动机构与减速器连接,减速器与风机连接。

进一步地,塔体的下端还设有补水管道,补水管道连接有水阀。

进一步地,塔体的侧面设有爬梯。

本实用新型的有益效果为:本实用新型通过设置旋转式喷水结构,使得热水可均匀的落在在填料层上,使得布水均匀,提高调料层的利用率加快热交换。

附图说明

图1为本实用新型的一种结构示意图。

图2为本实用新型的顶部的局部结构示意图。

附图标记:

1——电机;2——减速器;3——转轴;4——活动座;5——爬梯;6——风机;7——主管道;8——洒水管;9——填料层;10——回风网;11——补水管道;12——水阀;13——集水盆;14——水缸。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步地说明。

实施例:参见图1、图2。

一种逆流圆塔,包括塔体,塔体的上端设有风机6和出风口,塔体的中部设有填料层9,塔体的下端开设有进风孔,塔体的内侧面设有用于对进入空气过滤的回风网10,塔体的底部设有集水盆13,且集水盆13连接有水缸14;塔体在填料层9的上方设有喷淋系统,所述喷淋系统设有旋转式喷水结构。

本技术方案采用旋转式喷水结构,使得喷头可以旋转进行喷水,达到360的喷洒,使得水分布更加均匀,提高填料层9的利用率。其次,在塔体的底部设置水缸14可以增加水的存储量,同时也便于收集。

进一步地,所述旋转式喷水结构包括设置于塔体中部且呈竖直设置的主管道7,主管道7的上端开口且活动连接有中空的活动座4,活动座4的两侧分别连接有洒水管8;两个洒水管8上均设有喷口或喷头;活动座4连接有旋转机构,旋转机构驱动活动座4相对主管道7旋转。

在进行喷洒时,热水从主管道7进入并通过活动座4进入到洒水管8;旋转机构驱动活动座4旋转,从而达到旋转喷洒的目的;优选地,两个洒水管8上的喷口或喷头呈交错设置;即左侧的洒水管8旋转至右侧时,其上面的喷头或喷口与原右侧洒水管8上的喷头或喷口呈交错设置。这样可以使得喷洒的面积更大,提高均匀化。

进一步地,活动座4的上端连接有转轴3,转轴3与两侧的洒水管8之间分别设有加强筋。

设置加强筋提高其结构强度。且可通过转轴3与旋转机构连接。旋转机构可以为电机等。旋转机构可以为:设置在活动座4内的叶轮,叶轮的端部与活动座4的侧面连接。叶轮受到水流冲击时,带动活动座4转动。

进一步地,旋转式喷水结构还可以为:包括主管道7,主管道7上设有多个活动喷头,喷头可相对主管道7连接,所述喷头的管道中部设有叶轮。

当水流经过喷头的管道时,水流对叶轮有冲击力,叶轮旋转时带动喷头相对主管道7旋转,从而实现旋转式喷水结构。

进一步地,塔体的顶部还设有电机1和减速器2,电机1通过皮带传动机构与减速器2连接,减速器2与风机6连接。

在塔体的顶部设置减速器2作为中间机构,用以调整风机6的转速。

进一步地,塔体的下端还设有补水管道11,补水管道11连接有水阀12。

在进行热交换时,有部分水蒸发掉,从而造成水量减少,影响到循环使用;因此设置了补水管道11,当缸体内的水分减少时,对缸体进行补水。

进一步地,塔体的侧面设有爬梯5。以方便检修和安装。

以上仅是本申请的较佳实施例,在此基础上的等同技术方案仍落入申请保护范围。

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