专利名称:一种hdi板制造过程废液中铜离子高效脱除的装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种HDI板制造过程废液中铜离子高效脱除的装置，其包括废液池、酸液储槽、碱液储槽、硫化钠溶液贮槽、中和槽、硫化沉淀槽、硫化氢气体吸收器、循环风机、板框压滤机、循环泵、阀门、管道、流量计，所述中和槽、硫化沉淀槽内部均安装有搅拌浆，酸液储槽、碱液储槽、硫化钠溶液贮槽均安装于中和槽、硫化沉淀槽的高位处。酸液储槽、碱液储槽均通过耐腐蚀管道、阀门与中和槽相连。废液池通过泵、阀门、管道与中和槽相连，酸、碱液输送管道进入中和槽内部连接有喷雾加液器。本实用新型可有效控制二次污染，提高了反应效率，降低生产成本。
【专利说明】一种HDI板制造过程废液中铜离子高效脱除的装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及HDI印制线路板制造，具体涉及一种HDI板制造过程废液中铜离子高效脱除的装置。
【背景技术】
[0002]HDI板(High Density Interconnect)即高密度互连板，是PCB行业在20世纪末发展起来的一门较新的技术。随着智能手机、平板电脑等消费类电子产品不断向轻便化、小型化的趋势发展，推动PCB不断向更高、更密集化布局方向发展。
[0003]印制电路板制造过程中产生的废液主要来源于铜箔表面清洗、除油、棕化、蚀刻等过程，废液中主要含有铜离子、无机酸(或有机酸)、有机添加剂等污染物。随着社会关注环境污染，倡导清洁生产，从源头上实现节能减排的理念已经成为工业废液处理的共识。尤其是近些年来，随着金属铜的价格的提高，人们对废液中铜离子资源利用的想法也越来越受到重视。
[0004]印制电路板制造过程中产生的废液中铜离子的有效脱除是行业中长期存在的技术难题，传统的铜离子脱除工艺及装置主要包括化学沉淀法、电解法、萃取法等，其存在的缺陷主要是:普通沉淀法铜离子脱除不彻底，传统硫化沉淀法产生硫化氢二次污染物，影响作业环境；电解法设备复杂，当铜离子浓度较低时电流效率低，需后续再处理，综合处理成本较高，经济性较差。
实用新型内容
[0005]为了克服上述缺陷，本实用新型提出一种新型HDI印制线路板制造过程中所产生废液中铜离子高效脱除的装置，能有效解决HDI板产品在生产过程中出现的铜离子重金属污染问题，提高铜资源的回收利用率，同时消除硫化沉淀工艺中硫化氢所带来的二次污染。
[0006]本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种HDI印制线路板制造过程中所产生的含铜离子废液的高效脱除装置，其包括废液池、酸液储槽、碱液储槽、硫化钠溶液贮槽、中和槽、硫化沉淀槽、硫化氢气体吸收器、循环风机、板框压滤机、循环泵、阀门、管道、流量计，所述中和槽、硫化沉淀槽内部均安装有搅拌浆，酸液储槽、碱液储槽、硫化钠溶液贮槽均安装于中和槽、硫化沉淀槽的高位处。酸液储槽、碱液储槽均通过耐腐蚀管道、阀门与中和槽相连。废液池通过泵、阀门、管道与中和槽相连，酸、碱液输送管道进入中和槽内部连接有喷雾加液器。
[0007]在本实用新型中，硫化钠溶液贮槽通过耐腐蚀管道、阀门与硫化沉淀槽相连，硫化钠溶液液输送管道进入硫化沉淀槽内部连接有喷雾加液器，使硫化钠溶液在中和槽中以微细液滴形式与处理料液接触，反应至铜离子完全脱除。处理液经板框压滤后，所得硫化铜沉淀供铜资源提取，获得回收利用，清液经脱硫后循环回用。
[0008]本实用新型的效果还包括:
[0009](I)HDI印制线路板制造过程废液中铜离子得到有效脱除和资源化利用，有效控制了铜离子重金属污染以及硫化氢气体带来的二次污染。
[0010](2)酸碱中和、硫化沉淀中设置喷雾加液器，增大了反应接触面积，缩短了反应时间，提高了反应效率。
[0011](3)提高了 HDI板生产过程的运行可靠性，设备易于维护，生产操作简便，有利于降低生产成本。
【附图说明】
[0012]图1所示是本实用新型的结构示意图；
[0013]其中，1、硫化氢气体吸收器；2、酸液储槽；3、碱液储槽；4、循环风机；5、硫化钠溶液贮槽；6、废液池；7、中和槽；8、硫化沉淀槽；9、阀门；10、流量计；11、管道；12、循环泵；13、板框压滤机；14、喷雾加液器。
【具体实施方式】
[0014]如图1所示，一种HDI板制造过程废液中铜离子高效脱除的装置，其包括废液池6、酸液储槽2、碱液储槽3、硫化钠溶液贮槽5、中和槽7、硫化沉淀槽8、硫化氢气体吸收器1、循环泵12、阀门9、管道11、流量计10 ;中和槽7、硫化沉淀槽8内部均安装有搅拌浆；酸液储槽2、碱液储槽3、硫化钠溶液贮槽5均安装于中和槽7、硫化沉淀槽8的高位处；酸液储槽2、碱液储槽3均通过耐腐蚀管道、阀门与中和槽相连。废液池6通过泵、阀门、管道与中和槽7相连，通过泵将废液输送至中和槽7中。
[0015]酸、碱液输送管道进入中和槽7内部连接有喷雾加液器14，使酸、碱液在中和槽7中以微细液滴形式与废液接触；硫化钠溶液贮槽5通过耐腐蚀管道、阀门与硫化沉淀槽8相连，硫化钠溶液通过输送管道进入硫化沉淀槽，内部连接有喷雾加液器使硫化钠溶液在硫化沉淀槽中以微细液滴形式与处理料液接触，反应至铜离子完全脱除；硫化沉淀处理后的料液经板框压滤后，所得硫化铜沉淀供铜资源提取，获得回收利用，清液经脱硫后循环回用。
【权利要求】
1.一种HDI板制造过程废液中铜离子高效脱除的装置，其包括废液池、酸液储槽、碱液储槽、硫化钠溶液贮槽、中和槽、硫化沉淀槽、硫化氢气体吸收器、循环风机、板框压滤机、循环泵、阀门、管道、流量计，所述中和槽、硫化沉淀槽内部均安装有搅拌浆，酸液储槽、碱液储槽、硫化钠溶液贮槽均安装于中和槽、硫化沉淀槽的高位处，酸液储槽、碱液储槽均通过耐腐蚀管道、阀门与中和槽相连，其特征在于，所述废液池通过泵、阀门、管道与中和槽相连，酸、碱液输送管道进入中和槽内部连接有喷雾加液器。
【文档编号】C02F9-04GK204298169SQ201420651513
【发明者】詹有根, 徐军洪, 蔡明曙 [申请人]临安振有电子有限公司