1.一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法，所述的光学元件为无磨料水溶解超精密抛光后的KDP光学晶体元件，以下简称工件，其特征在于：具体方法包括以下步骤：
A、上料
旋动锁紧把手B(45)，打开进料口门(42)，操作人员将盛有待清洗工件的清洗篮放入进料槽(1)，然后关闭进料口门(42)，旋动锁紧把手B(45)将进料口门(42)关闭，打开工作开关启动清洗过程；处于初始位置的提拉气缸(2)伸出气缸缸杆至进料槽(1)，连接在其底部的吊篮架(4)上的挂钩(5)钩住清洗篮，然后提拉气缸(2)缸杆缩回至上极限位置，同时带动整个清洗篮及工件向上移动，并给控制系统发出信号；控制系统检测到信号后使隔门气缸A(15)带动隔门A(13)向沿隔门滑轨A(39)下运动将隔门打开，同时无杆气缸(8)水平移动，带动提拉气缸(2)进入超声清洗工位；
B、超声清洗
清洗开关开启之前，超声清洗槽(9)中已经注满了专用的清洗液；当控制系统检测到无杆气缸(8)运动至超声清洗槽(9)上方时，隔门A(13)在隔门气缸A(15)的带动下关闭，超声清洗槽(9)被单独隔离开来，同时超声清洗槽(9)中的超声波振子(10)开始振动；提拉气缸(2)缸杆缓慢将工件放入超声清洗槽(9)的清洗液中，工件悬浮在超声清洗槽(9)中进行超声波清洗，清洗时间可自行设定；清洗完成后，超声振动停止，提拉气缸(2)将工件向上提至上极限位置，隔门气缸B(16)向下运动将超声清洗槽(9)和喷淋清洗槽(21)之间的隔门B(14)沿隔门滑轨B(40)向下打开，然后无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)和工件移向喷淋清洗工位；
C、喷淋清洗
当控制系统检测到无杆气缸(8)带动工件运动至喷淋清洗槽(21)上方时，隔门B(14)在隔门气缸B(16)的带动下关闭，喷淋清洗槽(21)被单独隔离开来；提拉气缸(2)将工件缓慢放入喷淋清洗槽(21)中，此时位于喷淋清洗槽(21)前后壁上的喷淋清洗头(23)喷射出专用清洗液对工件进行喷淋清洗，喷淋压力和喷淋时间均设置可调，工件在提拉气缸(2)的带动进行上下往复运动实现均匀清洗；清洗完成后，喷淋清洗头(23)停止喷射清洗液，提拉气缸(2)带动工件运动至上极限位置，同时位于喷淋清洗槽(21)和烘干出料槽(26)之间的隔门C(25)打开，无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)和工件移向烘干出料工位；
D、烘干出料
当控制系统检测到无杆气缸(8)带动工件运动至烘干出料槽(26)上方时，隔门C(25)关闭，烘干出料槽(26)被单独隔离开来；提拉气缸(2)将工件缓慢放入烘干出料槽(26)中，此时送风管A(27)和送风管B(28)吹出纯净干燥的氮气将残留在工件表面的易挥发的清洗液带走，风淋的温度、时间和气压大小均设置可调；待工件被烘干后，蜂鸣器发出警报提醒操作人员进行出料；操作人员此时旋动出料口门(29)上的锁紧把手A(32)打开出料口门(29)取出盛有被清洗工件的清洗篮，然后关闭出料口门(29)，锁紧门把手A，并给控制系统发出信号进行复位动作；控制系统接收到复位动作后，提拉气缸(2)开始向上运动至上极限位置，同时隔门A(13)、隔门B(14)、隔门C(25)在各自隔门气缸的带动下打开，从而使主体内所有腔室连通，此时无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)和清洗吊篮架(4)回复至起始位置，然后隔门A(13)、隔门B(14)、隔门C(25)在各自隔门气缸向的带动下关闭，继续保持各个工位隔离密闭；如此完成一个完整的清洗过程；
E、循环回收
清洗准备阶段，储液箱中的清洗液通过液泵经过滤器将干净的专用清洗液注入超声清洗槽(9)；喷淋清洗时，储液箱中的清洗液通过液泵经过滤器将干净的专用清洗液通入喷淋清洗槽(21)前后壁上的喷淋清洗头(23)，喷头喷出具有一定压力的清洗液喷淋被清洗工件；烘干时，气源将干净的氮气通入位于烘干出料槽(26)内壁的吹风管A和吹风管B，加速被清洗工件表面清洗液的挥发，实现烘干过程；清洗过程中，位于超声清洗槽(9)、喷淋清洗槽(21)和烘干出料槽(26)上方的排气管道(46)将挥发出来的废气导流至冷凝室，冷凝室内布置有冷凝铜管，压缩机提供的冷媒经过冷凝管形成低温，废气接触冷凝管被液化经冷凝室底部的排液管流至废液箱；清洗产生的废液分别经超声清洗槽(9)的排液口A(11)和喷淋清洗槽(21)底部的排液口B(24)流入废液箱，以便回收利用。
2.根据权利要求1所述的一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法，其特征在于：步骤B所述的超声清洗的频率为80-120kHz，清洗时间为0-10min；步骤C所述的喷淋压力为0.04-0.4MPa，喷淋时间为0-10min；步骤D所述的风淋的温度为20-50℃，风淋时间为0-10min，风淋气压大小为0.1-0.6MPa。