技术总结
本发明公开了一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法，包括上料、超声清洗、喷淋清洗、烘干出料和循环回收步骤。本发明能够有效解决对无磨料水溶解超精密抛光后的诸如KDP类的光学晶体元件的清洗问题。由于本发明清洗过程中没有固体颗粒物质，使用高频超声的冲刷作用和风淋等非接触式的清洗措施，防止了外力对软脆光学元件造成损害，保证了清洗元件的表面质量。本发明实现了对光学元件的多工位自动化清洗，并且将清洗过程中易挥发清洗液产生的挥发废气和清洗废液引导入循环回收系统，进行冷凝液化后回收再利用，实现环保无排放清洗，减少了浪费，防止了环境污染，提高了经济性。本发明的清洗参数实时可调，使清洗过程易于控制。
技术研发人员：高航;陈玉川;王旭;郭东明
受保护的技术使用者：大连理工大学
文档号码：201710146670
技术研发日：2017.03.13
技术公布日：2017.06.30