1.一种硅料自动超声清洗设备，包括转动轮（1），其特征在于：所述转动轮（1）前侧和后侧均设有支架（2），所述支架（2）上设有驱动装置（3），所述转动轮（1）两侧壁上设有支撑杆（4），所述支撑杆（4）一端设有链条（5），所述链条（5）底部设有挂板（6），所述转动轮（1）底部设有超声波清洗池（7），所述转动轮（1）一侧设有进料台（8）以及另一侧设有出料台（9），所述进料台（8）和出料台（9）底部均设有升降台（10），所述进料台（8）和出料台（9）顶部设有液压杆（11），所述液压杆（11）一端设有滑板（12），所述滑板（12）顶部设有输送架（13）以及底部设有滚轮（14），所述进料台（8）和出料台（9）上设有导轨（15）。
2.根据权利要求1所述的一种硅料自动超声清洗设备，其特征在于：所述支撑杆（4）设置为多个且呈环形阵列分布于转动轮（1）两侧壁。
3.根据权利要求1所述的一种硅料自动超声清洗设备，其特征在于：所述驱动装置（3）包括电机（31）、减速机（32）、主动轮（33）、从动轮（34）和皮带，所述转动轮（1）上设有转轴（16），所述转轴（16）两端设有轴承，所述轴承与支架（2）固定连接，所述从动轮（34）设置于转轴（16）上，所述从动轮（34）通过皮带与主动轮（33）传动连接，所述主动轮（33）设置于减速机（32）一侧，所述减速机（32）设置于电机（31）一侧，所述电机（31）与支架（2）固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种硅料自动超声清洗设备，其特征在于：所述输送架（13）底部设有网板（17）以及顶部设有放置板（18），所述输送架（13）内部设有硅料（19）。
5.根据权利要求4所述的一种硅料自动超声清洗设备，其特征在于：所述挂板（6）底部设有第一凹槽（61）和第二凹槽（62），所述第二凹槽（62）设置于第一凹槽（61）底部，所述放置板（18）与第一凹槽（61）活动卡接，所述第一凹槽（61）宽度大于放置板（18）宽度，所述第一凹槽（61）厚度大于放置板（18）厚度，所述输送架（13）宽度小于第二凹槽（62）宽度。
6.根据权利要求1所述的一种硅料自动超声清洗设备，其特征在于：所述导轨（15）截面设置为T型，所述滚轮（14）与导轨（15）相配合，所述滚轮（14）与导轨（15）活动卡接。
7.根据权利要求1所述的一种硅料自动超声清洗设备，其特征在于：所述升降台（10）包括X形升降板和气压杆。