污水处理设备的制作方法

文档序号:15450528发布日期:2018-09-14 23:56阅读:193来源:国知局

本实用新型涉及污水处理技术领域,特别是涉及污水处理设备。



背景技术:

传统污泥处理方法有焚烧和填埋;国外多采用焚烧工艺,但没有经过干化的污泥直接进行焚烧不仅十分困难,而且在能耗上也是极不经济的,以焚烧为核心的污泥处理方法是最彻底的污泥处理方法之一,它能使有机物全部碳化,杀死病原体,可最大限度地减少污泥体积,但是其缺点在于处理设施投资大,处理费用高,设备维护成本高,而且产生强致癌物质二恶英;国内多采用填埋,但需要占用大量的土地,同时污泥填埋也存在一些问题,尤指填埋渗滤液和气体的形成,渗滤液是一种被严重污染的液体,如果填埋场选址或运行不当会污染地下水环境,填埋场产生的气体主要是甲烷,若不采取适当措施会引起爆炸和燃烧;另外随着土地再生资源减少,难以长期采用此方式;同时国内大中城市每年产生污泥几十到几百万吨,数量巨大,难以处理。



技术实现要素:

本实用新型主要解决的技术问题是提供污水处理设备,其设计合理,结构简单,解决了现有技术中污水中的污泥不易处理,或处理不彻底,并且处理机器结构复杂成本较高的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是提供污水处理设备,其包括:沉淀池、挡板、溢水口、污水进水口、出水口、出渣口、一号过滤板、二号过滤板、过水管、氧化池、净化池和清水池;在所述沉淀池的底端中心竖直设置挡板,且挡板与顶壁之间设有溢水口;在所述沉淀池的左右两端的上部分别设置有污水进水口和出水口;在所述沉淀池的左右两端的底部分别设置一出渣口;在所述溢水口和出水口的前侧分别设置一号过滤板和二号过滤板;在所述沉淀池的右端设置氧化池;在所述出水口上设置过水管,且过水管的另一端设置在氧化池上;在所述氧化池的右端设置净化池;在所述净化池的右端设置清水池。

优选的是,在所述氧化池的底端设置一号水泵;在所述一号水泵上设置一号泵管,且一号泵管的另一端设置在净化池上。

优选的是,在所述净化池的底端设置二号水泵;在所述二号水泵上设置二号泵管,且二号泵管的另一端设置在清水池上。

优选的是,在所述清水池的顶端设置加药消毒装置;在所述清水池的右端上侧设置排水口。

优选的是,所述二号过滤板比一号过滤板细密。

本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,设计合理,通过沉淀池内双层沉淀设置,把污水中的污泥留在了沉淀池的底部,并且在溢水口和出水口的前侧分别设置过滤板,进一步的阻塞了污泥的流出;接着通过氧化池、净化池和清水池把污水处理到可排放的标准,最后把水排出本装置。

附图说明

图1是本实用新型污水处理设备的示意图;

附图中各部件的标记如下:1、沉淀池;2、挡板;3、溢水口;4、污水进水口;5、出水口;6、出渣口;7、一号过滤板;8、二号过滤板;9、过水管;10、氧化池;11、净化池;12、清水池;13、一号水泵;14、一号泵管;15、二号水泵;16、二号泵管;17、加药消毒装置;18、排水口。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅附图1,本实用新型实施例包括:沉淀池1、挡板2、溢水口3、污水进水口4、出水口5、出渣口6、一号过滤板7、二号过滤板8、过水管9、氧化池10、净化池11和清水池12。在沉淀池1的底端中心竖直设置挡板2,且挡板2与沉淀池1的顶壁之间设有溢水口3。在沉淀池1的左右两端的上部分别设置有污水进水口4和出水口5,在沉淀池1的左右两端的底部分别设置一出渣口6,在溢水口3和出水口5的前侧分别设置一号过滤板7和二号过滤板8,且二号过滤板8比一号过滤板7细密,便于过滤水中细小的杂质。在沉淀池1的右端设置氧化池10,在出水口5上设置过水管9,且过水管9的另一端设置在氧化池10上。在氧化池10的右端设置净化池11,在氧化池10的底端设置一号水泵13,在一号水泵13上设置一号泵管14,且一号泵管14的另一端设置在净化池11上。在净化池11的右端设置清水池12,在净化池11的底端设置二号水泵15,在二号水泵15上设置二号泵管16,且二号泵管16的另一端设置在清水池12上。在清水池12的顶端设置加药消毒装置17,在清水池12的右端上侧设置排水口18。

本装置通过沉淀池1内双层沉淀的设置,把污水中的污泥留在了沉淀池1的底部,并且在溢水口3和出水口5的前侧分别设置过滤板,进一步的阻塞了污泥的流出;接着通过氧化池10、净化池11和清水池12把污水处理到可排放的标准,最后把水排出本装置,并且残留在沉淀池1底端的污泥等杂质也通过出渣口6排出。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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