一种印刷机组油墨废气收集装置的制作方法

本实用新型主要涉及印刷领域，尤其涉及一种印刷机组油墨废气收集装置。

背景技术：

每个印刷机组上方配备墨斗槽，里面储存油墨便于印刷过程中不断传给吃墨辊。此处油墨槽会挥发VOCs废气在生产现场，与绿色印刷相背驰，如生产现场整体空气进行对流更换，势必要加大处理设备等，现针对油墨槽上方做收集罩，既达到效果又经济。

已公开中国实用新型专利，申请号CN201720099865.7，专利名称：一种减少VOCs排放的油墨生产工作间，申请日：20170123，其公开了一种减少VOCs排放的油墨生产工作间，包括由板材制成的工作间，所述的工作间顶部有排风装置，所述的排风装置包括通风管，所述的通风管内设有活性炭吸附装置。与现有技术相比，本实用新型成本低、易于制造，工作间内产生的VOCs气体经过活性炭吸附装置吸附以后再排出，减少环境污染。

技术实现要素：

本实用新型提供一种印刷机组油墨废气收集装置，针对现有技术的上述缺陷，提供一种印刷机组油墨废气收集装置，包括设置在印刷机组上方的收集主管道1，所述收集主管道1通过安装在上方的固定吊杆2与厂房顶部固定，所述收集主管道1下方安装有收集罩3，所述收集主管道1出风口通过气管连通至过滤箱4、等离子装置5和活性炭装置，所述过滤箱4内安装有过滤层，所述过滤层从上至下依次为纤维毡层6和分子筛层7。

优选的，收集罩3设置有多个，多个所述的收集罩3与印刷机组上的油墨槽10相互对应。

优选的，收集罩3与对应的油墨槽10之间的竖直距离为800㎜。

优选的，活性炭装置内设置有活性炭层8和多孔石墨烯层11。

优选的，活性炭装置内通过密封隔板分为上层和下层，所述活性炭层8和多孔石墨烯层11设置在下层，所述活性炭装置的顶端设置有出风口9，所述上层内安装有光电学传感器12并连接安装在活性炭装置外的显示器。

优选的，气管包括直线段13和螺旋段14，所述螺旋段14两端分别连接有直线段13。

优选的，收集罩3顶部设置有斜挡板15，所述斜挡板15的夹角朝向与收集主管道1的风流向一致。

本实用新型的有益效果：油墨挥发的VOCs废气可以最大化被正上方收集罩吸走，保证操作人员健康，而且不影响人员在机组上的操作。

附图说明

图1为本实用新型的结构图；

图2为本实用新型左视图，其中无过滤箱；

图中，

1、收集主管道；2、固定吊杆；3、收集罩；4、过滤箱；5、等离子装置；6、纤维毡层；7、分子筛层；8、活性炭层；9、出风口；10、油墨槽；11、多孔石墨烯层；12、光电学传感器；13、直线段；14、螺旋段；15、斜挡板。

具体实施方式

如图1所示可知，本实用新型包括有：包括设置在印刷机组上方的收集主管道1，所述收集主管道1通过安装在上方的固定吊杆2与厂房顶部固定，所述收集主管道1下方安装有收集罩3，所述收集主管道1出风口通过气管连通至过滤箱4、等离子装置5和活性炭装置，所述过滤箱4内安装有过滤层，所述过滤层从上至下依次为纤维毡层6和分子筛层7。

在本实施中优选的，收集罩3设置有多个，多个所述的收集罩3与印刷机组上的油墨槽10相互对应。

在本实施中优选的，收集罩3与对应的油墨槽10之间的竖直距离为800㎜。

上述设计，收集罩3与油墨槽10一一对应，且距离为800mm，可以最大限度的吸收每个墨槽散发出的VOCs气体。

在本实施中优选的，活性炭装置内设置有活性炭层8和多孔石墨烯层11。

此外,纤维毡层6、分子筛层7、活性炭层8和多孔石墨烯层11为抽取式，在过滤箱4的一侧设置有通槽，且通槽的一端设置有拉环，方便随时增加或更替过滤芯，同时可以方便检修。

为了进一步提高过滤层的的过滤效率，设置了多孔石墨烯层11。

在本实施中优选的，活性炭装置内通过密封隔板分为上层和下层，所述活性炭层8和多孔石墨烯层11设置在下层，所述活性炭装置的顶端设置有出风口9，一般使用中，出风口9设置在离地面15m高的位置，并通过管道伸出室外，所述上层内安装有光电学传感器12并连接安装在活性炭装置外的显示器。

为了显示过滤层的过滤质量，直观的显示排出气体内VOCs是否超标，设置光电学传感器12，在使用中，当VOCs含量超过标准值时，及时调整过滤层内的成分，并提示工人开窗通风，保护工人安全。

在本实施中优选的，气管包括直线段13和螺旋段14，所述螺旋段14两端分别连接有直线段13。

将气管设置成具有螺旋段14的形状，一方面避免VOCs废气的回流，另一方面进一步提高了废气收集的效率。

在本实施中优选的，收集罩3顶部设置有斜挡板15，所述斜挡板15的夹角朝向与收集主管道1的风流向一致。

为了避免收集罩3存在污垢死角，以及保证了VOCs废气的风流向，提高了气体收集的效率。

上述实施例仅例示性说明本专利申请的原理及其功效，而非用于限制本专利申请。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本专利申请的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本专利申请所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本专利请的权利要求所涵盖。