含铬废水的处理系统的制作方法

本实用新型涉及一种含铬废水的处理系统。

背景技术：

随着工业化进程的推进，为满足对金属的防腐、导电、耐磨及美观等需求，国内电镀行业蓬勃发展，但是国内治理电镀废水，尤其是对毒性较大的含铬废水的处理能力严重不足，加上对环境的保护意识不够，电镀含铬废水渗入土壤、水流，对环境造成了严重危害；同时大量的含铬废水的排放，还导致铬资源的浪费，造成一定的经济损失。

在镀铬工艺中，清洗水量、所带出铬酸的损耗量，一般镀Cr⁶⁺的真正利用率不到40％，氧化部分的损耗只占1-2％左右，绝大部分水洗而带走，不仅浪费巨大，处理过程还有消耗大量的药剂(还原剂、碱、沉降剂等)，同时产生大量的污泥也是再处理的难题。由于铬主要以Cr⁶⁺的形式存在于废水中，且具有很强的强氧化性，通常还原法和电解法对含铬废水进行处理。当前Cr⁶⁺铬废水处理的工艺很成熟，废水处理设备一般由化学反应容器、搅拌机、加药装置等组成，绝大多数的企业采用化学还原法将Cr⁶⁺还原成Cr³⁺，然后调节pH到弱碱性，使溶解性的Cr³⁺转化为不溶性的氢氧化铬沉淀物，废水得到清除净化。该方法虽然可以清除Cr⁶⁺，却产生大量的Cr³⁺，并且单独采用化学还原法需要消耗大量的试剂，且容易对环境造成二次污染。

技术实现要素：

为克服上述问题，本实用新型提供一种含铬废水的处理系统，其解决了传统系统处理成本高、易造成二次污染的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种含铬废水的处理系统，其包括通过管道依次相连的调节池、酸化池、一级反应池、二级反应池、中和池、膜分离池。

其中，调节池中设置有活性炭柱，一方面调节水质水量，另一方面通过吸附去除废水中的有机物杂质。

酸化池上设有用于投加硫酸的第一在线pH控制装置，控制酸化池内的pH值在2.5～3.0之间。

一级反应池、二级反应池用于将废水中的六价铬还原成三价铬，具体的，将酸化池中的废水输送到一级反应池中，将还原剂氯化亚铁加到一级反应池中进行一级还原，将六价铬离子还原为三价铬离子；接着，将一级还原后的废水引到二级反应池中，将还原剂氯化亚铁加到二级反应池中进行二级还原，氯化亚铁与二级反应池中的废水生成硫酸铁，将剩余未完全还原的六价铬离子还原为三价铬离子。

所述中和池上设有用于投加石灰的第二在线pH控制装置，控制中和池内的pH值在7～8之间。

将中和后的废水经提升泵引入膜分离池中，通过膜的过滤作用实现泥水分离，出水效果稳定，且不易受到水质波动、药剂反应不佳等因素的影响。

进一步的，为了促进铬的去除，调节池中还设有搅拌装置。

进一步的，在中和池和膜分离池之间还设有絮凝池，将中和反应后的废水送入絮凝池，在絮凝池中加入高分子絮凝剂，高分子絮凝剂的投加量按2～5mg/L计，并搅拌充分，反应10～12min，最后将絮凝处理后的废水流送入膜分离池。

更进一步的，还包括与膜分离池通过管道相连的污泥脱水机。

本实用新型与现有技术相比，其优点在于：

本实用新型通过在调节池中设置活性炭柱，利用活性炭柱的吸附作用去除部分的六价铬离子，减少了试剂的使用量，此外通过二级还原将六价铬离子充分还原为三价铬离子，另外，通过膜分离池取代沉淀池，使得出水效果非常稳定，且不易受到水质波动、药剂反应不佳等因素的影响。本实用新型具有结构简单实用、安全可靠的优点。

以下将结合附图和实施例，对本实用新型进行较为详细的说明。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

实施例，

请参阅图1，一种含铬废水的处理系统，其包括通过管道依次相连的调节池1、酸化池2、一级反应池3、二级反应池4、中和池5、絮凝池6和膜分离池7。

其中，调节池1中设置有活性炭柱8，一方面调节水质水量，另一方面通过吸附去除废水中的有机物杂质。为了促进铬的去除，调节池中还设有搅拌装置9。

酸化池2上设有用于投加硫酸的第一在线pH控制装置10，控制酸化池内的pH值在2.5～3.0之间。

一级反应池3、二级反应池4用于将废水中的六价铬还原成三价铬。具体的，将酸化池2中的废水输送到一级反应池3中，将还原剂氯化亚铁加到一级反应池3中进行一级还原，将六价铬离子还原为三价铬离子；接着，将一级还原后的废水引到二级反应池4中，将还原剂氯化亚铁加到二级反应池4中进行二级还原，氯化亚铁与二级反应池4中的废水生成硫酸铁，将剩余未完全还原的六价铬离子还原为三价铬离子。

所述中和池5上设有用于投加石灰的第二在线pH控制装置11，控制中和池内的pH值在7～8之间。

将中和反应后的废水送入絮凝池6，在絮凝池6中加入高分子絮凝剂，高分子絮凝剂的投加量按2～5mg/L计，并搅拌充分，反应10～12min，最后将絮凝处理后的废水流送入膜分离池7，通过膜的过滤作用实现泥水分离。

在膜分离池7的污泥出料口处还设有通过管道相连的污泥脱水机12，污泥脱水机12通过管道将脱出水排到调节池1中。

以上所述仅是对实用新型的较佳实施例，并非对实用新型的范围进行限定，故在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本实用新型所述的构造、特征及原理所做的等效变化或装饰，均应落入本实用新型的保护范围内。