被清洗物的超声波清洗方法和超声波清洗装置与流程

本发明涉及一种在效率极高地对特别是大量的小零件等进行毛刺去除清洗时优选的超声波清洗技术。

背景技术：

以往，在对被清洗物进行超声波清洗时，公知有各种如下这样的技术，即，将被清洗物向清洗槽自动输送，之后向漂洗槽等自动移送从而提高清洗效率。(例如，参照专利文献1、专利文献2。)此时，通常将被清洗物沿着水平方向输送到清洗槽等的上方，并在清洗槽等的上方使被清洗物下降而在清洗槽等中进行清洗、漂洗等处理。

专利文献1：日本特开平9－276633号公报

专利文献2：日本特开2003－164816号公报

技术实现要素：

发明要解决的问题

然而，在以往的技术中，采用有以下方式：在一边自动输送被清洗物一边进行清洗时，在将被清洗物输送到清洗槽的上方之后，使被清洗物下降来进行清洗，然后，在向输送路径下游输送时，输送机构在清洗槽的上方待机，直到该清洗槽中的清洗处理完成为止，在完成了清洗处理的被清洗物等上升并返回到上方的时刻，再次将被清洗物沿着水平方向移送并朝向下一个下游侧的槽等自动输送，因此，例如在对大量的小零件等进行清洗处理时，效率不太好。

于是，本发明的目的在于提供一种在利用超声波清洗对特别是大量的小零件等进行毛刺去除清洗时能够效率极高地进行处理的清洗技术。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明的超声波清洗处理方法为一种被清洗物的超声波清洗方法，其包括：多个清洗槽，该多个清洗槽以预定间距的间隔沿直线配置；输送机构，其沿着连结这些清洗槽的直线方向输送被清洗物；多个容器保持升降构件，其配置于各清洗槽的上方；以及升降机构，其用于使这些容器保持升降构件升降，在自输送路径上游侧的清洗槽朝向下游侧的清洗槽以预定间距的间隔输送被清洗物之后，在各个清洗槽中依次进行超声波清洗，重复清洗直至最下游的清洗槽，该被清洗物的超声波清洗方法的特征在于，该被清洗物的超声波清洗方法设有：第一工序，在该第一工序中，将被清洗物收纳于收纳容器之后，将该收纳容器在所述输送路径的最上游的投入部向输送机构投入；第二工序，在该第二工序中，通过利用输送机构的推压构件推压已投入的收纳容器而使该收纳容器朝向输送路径的下游侧前进预定间距，并通过使收纳容器上端的滑动部与容器保持升降构件的轨道部卡合，从而将收纳容器转移到下游侧的容器保持升降构件；第三工序，在该第三工序中，利用所述升降机构使该容器保持升降构件下降预定行程，在清洗槽内对被清洗物进行超声波清洗；第四工序，在该第四工序中，在对被清洗物进行超声波清洗的期间，使输送机构后退预定间距而返回到原位置；第五工序，在该第五工序中，使收纳有已结束清洗的被清洗物的收纳容器上升预定行程；以及第六工序，在该第六工序中，利用所述输送机构的推压构件使该收纳容器进一步朝向下游的清洗槽前进预定间距，在该超声波清洗方法中，向在所述第四工序中返回到最上游的投入部的输送机构投入收纳有新的被清洗物的收纳容器的同时，利用各个推压构件，使在所述第二工序中的利用输送机构使收纳容器前进时由各个位置处的容器保持升降构件保持的收纳容器分别前进预定间距，然后重复进行所述第三工序及其之后的步骤，直到各个被清洗物在最下游的清洗槽中完成处理为止。

利用这样的清洗步骤，即使在需要对大量的小零件等进行毛刺去除清洗的情况下，也能够将被处理物收纳于收纳容器内，并一边朝向下游侧移送一边高效地进行清洗处理。特别是，在第四工序中，在对被清洗物进行清洗处理的期间，由于输送机构后退并返回到原位置，因此，能够谋求新的被清洗物的投入时间的迅速化，从而能够效率极高地进行清洗处理。

另外，作为此时的清洗装置，如技术方案所示，为一种超声波清洗装置，其包括：多个清洗槽，该多个清洗槽以预定间距的间隔沿直线配置；输送机构，其沿着连结这些清洗槽的直线方向输送被清洗物；多个容器保持升降构件，其配置于各清洗槽的上方且利用升降机构升降自如；以及收纳容器，其能够自所述输送机构的上游侧向输送机构投入，并且能够收纳被清洗物，在该超声波清洗装置中，作为所述输送机构而设有多个推压构件，该多个推压构件能够将由所述多个容器保持升降构件保持的多个收纳容器朝向下游侧以预定间距的间隔推出，这些推压构件利用伸缩机构相对于输送路径的内外侧伸缩自如。

这样，在输送机构设置多个推压构件，利用这些推压构件推出各个收纳容器并使各个收纳容器在输送路径上分别前进预定间距，由此，能够始终以恒定的行程将收纳容器输送到准确的位置，而且，由于推压构件伸缩自如，因此，在输送机构后退时，推压构件不会与容器保持升降构件等干涉，而能够自由后退。

另外，此时，在容器保持升降构件的下端部形成有沿着水平方向延伸的轨道部，在收纳容器的上端部形成有能够与该容器保持升降构件的轨道部卡合的滑动部，由此，在使收纳容器的下端侧浸渍于清洗槽内来对被清洗物进行超声波清洗的期间，超声波的冲击效果不会对被清洗物产生不良影响。即，若将收纳容器的滑动部等形成于收纳容器的下端部，则由于该滑动部也被浸渍于清洗槽内，因此，因滑动部的存在而导致超声波的冲击难以向内部的被清洗物传递，而有可能对清洗效果产生不良影响，但若将滑动部形成于收纳容器的上端侧，则该部分不会被浸渍于清洗槽内，超声波的冲击被高效地向清洗物传递。

发明的效果

通过采用如下方式，即，利用推压构件以推压的方式输送收纳有被清洗物的收纳容器，并使该收纳容器下降预定行程而依次在清洗槽中进行清洗，从而能够进行准确的输送和高效的清洗，此时，在清洗过程中，通过使输送机构后退并返回到原来的位置，能够使收纳容器的投入时间增加并谋求处理的迅速化，能够进一步提高清洗效率。而且，通过将收纳容器的滑动输送机构形成于收纳容器的上端侧，在超声波清洗时不会成为阻碍，从而提高清洗效果。

附图说明

图1是从输送路径方向的侧方观察本发明所涉及的超声波清洗装置的一部分的侧视图。

图2是本发明所涉及的超声波清洗装置的俯视图。

图3是表示本发明所涉及的超声波清洗装置的输送机构的输送框架的俯视图。

图4表示容器保持升降构件，图4的(a)是容器保持升降构件的俯视图，图4的(b)是从输送路径方向观察容器保持升降构件的主视图，图4的(c)是容器保持升降构件的侧视图。

图5表示收纳容器，图5的(a)是收纳容器的俯视图，图5的(b)是收纳容器的主视图。

图6是表示保持于容器保持升降构件的收纳容器与推压构件之间的关系的说明图。

附图标记说明

1、超声波清洗装置；3、超声波清洗槽；4、输送机构；5、容器保持升降构件；6、升降驱动源；8、收纳容器；10、输送框架；11、输送驱动源；12、推压构件；13、伸缩驱动源；15r、轨道部；16、滑动部；t、投入部。

具体实施方式

基于附图对本发明的实施方式进行说明。

本发明例如在利用超声波清洗对大量的小零件等进行毛刺去除清洗时能够效率极高地进行处理，特别是在输送被清洗物的技术上具有特征。

即，如图1、图2所示，本超声波清洗装置1包括：外框架2，其以围绕装置的外侧的方式配置；多个超声波清洗槽3，其配置于该外框架2的高度方向上的中间部，并以预定间距的间隔沿直线配置；输送机构4，其沿着连结这些清洗槽3的直线方向输送被清洗物；以及多个容器保持升降构件5，其配置于各清洗槽3的上方，这些容器保持升降构件5安装于利用固定于外框架2的升降驱动源6进行升降的升降板7，并设为能够同时自如地升降。

而且，在输送被清洗物时，将许多被清洗物收纳于后述的收纳容器8，所述输送机构4被设为能够输送该收纳容器8，且所述容器保持升降构件5被设为能够保持从上游输送来的收纳容器8并在下方的清洗槽3中进行了清洗处理之后依次朝向下游侧的清洗槽3输送该收纳容器8。

而且，在输送机构4的输送方向上的靠输送路径上游侧的位置，容器保持升降构件5以与清洗槽3的间距的间隔相同的间隔配置于比最上游的清洗槽3更靠上游侧的位置，该容器保持升降构件5也一体地安装于所述升降板7，并且该位置被设为被清洗物相对于输送机构4投入的投入部t。

所述超声波清洗槽3用于储存例如利用清洗槽3的未图示的循环脱气单元等进行循环脱气的清洗水，并能够利用例如自清洗槽3底面侧的超声波振荡部朝向清洗水振荡的超声波的气蚀的冲击效果来进行被清洗物的毛刺去除清洗。

也如图3所示，所述输送机构4包括水平的输送框架10，该输送框架10成为水平地围绕各清洗槽3的上部附近的形态，该输送框架10利用固定于外框架2的输送驱动源11自如地沿着连结各清洗槽3的直线方向水平地往复运动。

而且，在该输送框架10以与各清洗槽3的间隔相同的间隔隔着输送路径成对地设有多个推压构件12，这些推压构件12利用隔着输送路径成对设置的伸缩驱动源13相对于输送路径伸缩自如，并能够从图3的突出状态(实线)向缩回状态(虚线)摆动。此时，一侧的伸缩驱动源13能够同时驱动控制相同侧的全部推压构件12，另一侧的伸缩驱动源13能够同时驱动控制另一侧的全部推压构件12，但在本实施例中，左右的伸缩驱动源13被控制为与输送机构4的输送驱动源11的驱动同步地同时进行驱动。

如图4所示，所述容器保持升降构件5包括固定于所述升降板7的支承构件14和安装于该支承构件14的下方且以预定间隔相对的一对轨道构件15，将该轨道构件15的下端部朝向内侧地设置为轨道部15r，该轨道部15r呈上表面开放的日文假名“コ”字形，以下所述的收纳容器8的滑动部16能够与该轨道部15r卡合。

也如图5所示，所述收纳容器8为冲孔金属制的容器，相对于输送路径在宽度方向上的两端侧的上部，以向外侧伸出的方式形成有一对滑动部16，该滑动部16呈下表面开放的日文假名“コ”字形，如上所述，该一对滑动部16与容器保持升降构件5的一对轨道部15r卡合并能够沿着输送路径方向滑动。

另外，基于图6说明输送机构4对收纳容器8进行的输送。

在利用输送机构4输送收纳容器8时，若将输送框架10的推压构件12设成朝向输送路径内侧突出的状态，则推压构件12成为突出到收纳容器8的靠输送路径上游侧的容器附近的状态。此时，推压构件12位于与收纳容器8抵接但不与容器保持升降构件5干涉的高度位置。

在该状态下，若输送框架10朝向输送路径下游侧移动，则推压构件12一边推出收纳容器8一边前进，收纳容器8也随之前进。

另外，若在输送框架10前进了预定间距之后使推压构件12缩回到输送路径外侧，则即使使输送框架10后退，推压构件12也不会与其他的构件干涉。

对以上这样的超声波清洗装置的清洗方法进行说明。

首先，在图1、图2中的输送路径上游侧(图中的左方)的投入部t，将收纳有需要进行毛刺去除清洗的被清洗物的收纳容器8投入并安装于投入部t的容器保持升降构件5。

即，如图6所示，收纳容器8的两端的滑动部16钩挂于该位置处的容器保持升降构件5的轨道部15r的上部，并相对于行进方向定位于轨道部15r的中央部。

接着，通过在全部的推压构件12已突出的状态下驱动输送驱动源11，从而使输送机构4的输送框架10前进预定间距，一边利用推压构件12推压收纳容器8一边使收纳容器8前进。并且，将收纳容器8向在下游侧的相邻的清洗槽3的上方位置待机的容器保持升降构件5移送。此时，收纳容器8的滑动部16通过轨道部15r在水平方向上滑动，并转移到相邻的容器保持升降构件5的轨道部15r，通过利用推压构件12按压而使该收纳容器8前进，并能够使其前进与间距相对应的准确的量。

接着，在该状态下，升降驱动源6工作，使全部的容器保持升降构件5下降预定行程，而使收纳容器8浸渍于下方的清洗槽3，来进行超声波清洗。

此时，收纳容器8成为上端的滑动部16悬吊于容器保持升降构件5的轨道部15r的状态，收纳容器8的下方的一部分浸渍于清洗槽3中的清洗液中，在清洗液中振荡而产生的气蚀的冲击效果穿过收纳容器8的冲孔向被清洗物传递，而对被清洗物进行毛刺去除清洗，但由于收纳容器8的滑动部16处于未浸渍于清洗槽3中的状态，因此，不存在妨碍气蚀波的冲击向被清洗物传递这样的问题。

而且，根据上述要点，在容器保持升降构件5下降预定行程并实施超声波清洗的过程中，利用输送驱动源11的控制使输送框架10后退。即，在输送驱动源11工作而使输送框架10后退之前，首先利用伸缩驱动源13的控制使推压构件12全部缩回到输送路径外侧，然后，输送框架10后退预定间距而返回到原位置。然后，向返回到投入部t的容器保持升降构件5安装收纳有新的被清洗物的下一个收纳容器8。而且，在输送框架10后退并返回到原位置时，利用伸缩驱动源13的驱动控制使推压构件12全部向输送路径内突出。

另一方面，在各清洗槽3中完成了预定时间的清洗时，利用升降驱动源6的控制使容器保持升降构件5全部上升并返回到原位置，开始下一次的由输送机构4进行的输送工序，所有位置处的收纳容器8前进并转移到下游侧的容器保持升降构件5。而且，之后，容器保持升降构件5下降预定行程并进行清洗。

然后，重复以上这样的操作。

利用以上这样的方法，收纳于收纳容器8内的被清洗物一边自上游向下游的清洗槽3移送一边依次进行超声波清洗，并在最下游的清洗槽3中清洗之后，完成至极干净的状态，特别是，在清洗过程中，输送机构4的输送框架10后退而能够迅速地投入接下来应投入的收纳容器8，因此，能够使清洗效率大幅提高。因此，特别是，在对大量的部件等进行毛刺去除清洗这样的情况下，应用本清洗技术是极为有效的。

另外，在本实施例中，设置四个清洗槽3，并在下游侧沿着直线配置用于在清洗结束后进行漂洗、干燥的槽，按照与清洗相同的要点，利用容器保持升降构件重复进行前进和升降的动作直到进行完漂洗、干燥为止，但这样的下游侧的结构是任意的。

另外，本发明并不限定于以上这样的实施方式。与本发明的权利要求所记载的事项基本上相同且起到相同的作用效果的技术也属于本发明的技术范围。例如，被清洗物的种类等为举例说明，清洗槽3的数量等也是任意的。

产业上的可利用性

利用超声波清洗能够效率极高地进行特别是大量的小零件等的毛刺去除清洗，因此，特别期待今后在毛刺去除清洗领域等中广泛普及。