一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备的制作方法

文档序号:21243031发布日期:2020-06-26 20:45阅读:765来源:国知局
一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备的制作方法

本实用新型涉及多晶硅生产装置技术领域,具体是一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备。



背景技术:

多晶硅,是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就结晶成多晶硅。多晶硅生产是一个庞大而复杂的系统,该系统的每一个部位都要运转正常,多晶硅的质量才会有保障,有一处出现问题,还原炉里的多晶硅棒质量就会发生变化,多晶硅的生长就会受影响,就可能长出不合格的多晶硅。在合格的多晶硅表面上生长一层不合格的多晶硅,这层不合格的多晶硅就是夹层。在多晶硅还原过程中,如果遇到氢气含水或氧过高时,沉积在硅棒上的就不是高纯硅,硅棒表面就会失去光泽而发污,出现夹层。这种由于氧化造成的夹层就是氧化夹层。为得到高纯度的多晶硅成品,必须将硅锭表面的氧化夹层清理掉。目前通常采用酸洗的方式清洗掉氧化夹层。

目前市场上存在多种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备,但是这些氧化夹层清理设备普遍存在硅锭经酸溶液清洗后不能将硅锭上残留的酸溶液清洗掉,且不能方笔的将清洗硅锭的废水中的残渣收集处理。因此,本领域技术人员提供了一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备,以解决上述背景技术中提出的问题。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备,包括清洗池主体,所述清洗池主体的前侧安装有控制器,且清洗池主体的顶端的中间位置安装有电机,所述清洗池主体的顶端设置有硅锭进管,所述清洗池主体的一侧连接有第一水管,所述清洗池主体的另一侧连接有排水管,所述清洗池主体的底端的四角均连接有支撑脚,所述清洗池主体的底端的两边均开设有硅锭排口,所述清洗池主体的底端靠近硅锭排口的位置连接有硅锭排口封板,所述清洗池主体的内侧的顶部连接有第二水管,所述清洗池主体的内侧连接有搅拌杆,所述搅拌杆的外侧等距离设置有若干个搅拌叶,所述第二水管的外侧等距离安装有若干个喷头,所述第一水管远离清洗池主体的一端连接有水箱,所述水箱的内壁的底端安装有潜水泵,所述排水管远离清洗池主体的一端连接有杂质收集装置,所述硅锭进管的顶端设置有入料斗。

作为本实用新型再进一步的方案:所述杂质收集装置包括第一连接板,所述第一连接板的底端连接有第二连接板,所述第一连接板的顶端的两边均开设有第一限位螺孔,所述第一连接板的顶端靠近第一限位螺孔的位置连接有限位螺杆,所述第二连接板的底端安装有杂质收集筒,所述第二连接板的顶端的两边均开设有第二限位螺孔。

作为本实用新型再进一步的方案:所述限位螺杆依次贯穿在第一限位螺孔和第二限位螺孔的内侧,所述第一连接板和第二连接板通过限位螺杆、第一限位螺孔和第二限位螺孔紧固连接。

作为本实用新型再进一步的方案:所述潜水泵和电机均与控制器电性相连。

作为本实用新型再进一步的方案:所述电机的输出轴与搅拌杆相连接,所述搅拌杆与清洗池主体的连接处设置有滚轴。

作为本实用新型再进一步的方案:所述硅锭排口封板与清洗池主体的连接处的一侧设置有阻尼铰链,所述硅锭排口封板与清洗池主体的连接处的另一侧设置有锁扣结构,所述硅锭排口封板和清洗池主体的连接处设置有密封橡胶圈。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、通过电机、搅拌叶、搅拌杆、第一水管、第二水管、潜水泵、喷头和水箱,在酸溶液对硅锭清洗完毕后,可以方便的将残留在硅锭上的酸溶液清洗掉,省去了工作人员将硅锭从清洗池取出来清洗的步骤,提高了该清理设备的清理效率,方便了人们的使用。

2、通过限位螺杆、第一限位螺孔、第二限位螺孔、第一连接板、第二连接板和杂质收集筒,在将清洗池内的废水排出时,可以方便的将废水中的杂质收集起来。从而提高了该清理装置的实用性。

附图说明

图1为一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备的结构示意图;

图2为一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备中的清洗池主体的的正面局部剖视图;

图3为一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备中的清洗池主体的局部剖视图;

图4为一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备中的水箱的局部剖视图;

图5为一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备中的杂质收集装置的局部爆炸图。

图中:1、水箱;2、第一水管;3、硅锭进管;4、入料斗;5、电机;6、清洗池主体;7、控制器;8、排水管;9、杂质收集装置;10、支撑脚;11、潜水泵;12、硅锭排口封板;13、喷头;14、搅拌杆;15、搅拌叶;16、第二水管;17、硅锭排口;91、第一连接板;92、第二连接板;93、限位螺杆;94、第一限位螺孔;95、第二限位螺孔;96、杂质收集筒。

具体实施方式

请参阅图1~5,本实用新型实施例中,一种用于多晶硅生产的氧化夹层清理设备,包括清洗池主体6,清洗池主体6的前侧安装有控制器7,且清洗池主体6的顶端的中间位置安装有电机5,清洗池主体6的顶端设置有硅锭进管3,清洗池主体6的一侧连接有第一水管2,清洗池主体6的另一侧连接有排水管8,清洗池主体6的底端的四角均连接有支撑脚10,清洗池主体6的底端的两边均开设有硅锭排口17,清洗池主体6的底端靠近硅锭排口17的位置连接有硅锭排口封板12,清洗池主体6的内侧的顶部连接有第二水管16,清洗池主体6的内侧连接有搅拌杆14,搅拌杆14的外侧等距离设置有若干个搅拌叶15,第二水管16的外侧等距离安装有若干个喷头13,第一水管2远离清洗池主体6的一端连接有水箱1,水箱1的内壁的底端安装有潜水泵11,排水管8远离清洗池主体6的一端连接有杂质收集装置9,硅锭进管3的顶端设置有入料斗4。

在图5中:杂质收集装置9包括第一连接板91,第一连接板91的底端连接有第二连接板92,第一连接板91的顶端的两边均开设有第一限位螺孔94,第一连接板91的顶端靠近第一限位螺孔94的位置连接有限位螺杆93,第二连接板92的底端安装有杂质收集筒96,第二连接板92的顶端的两边均开设有第二限位螺孔95,从而在废水从排水管8上排出时,废水会流入杂质收集筒96内,使得废水中的杂质留在杂质收集筒96内,在杂质收集筒96内的杂质较多时,将限位螺杆93依次转出第二限位螺孔95和第一限位螺孔94,使得第二连接板92从第一连接板91上卸下以将杂质收集筒96内的杂质收集处理。

在图5中:限位螺杆93依次贯穿在第一限位螺孔94和第二限位螺孔95的内侧,第一连接板91和第二连接板92通过限位螺杆93、第一限位螺孔94和第二限位螺孔95紧固连接,从而在杂质收集筒96内的杂质较多时,可以将限位螺杆93依次转出第二限位螺孔95和第一限位螺孔94,使得第二连接板92从第一连接板91上卸下以将杂质收集筒96内的杂质收集处理。

在图1和4中:潜水泵11和电机5均与控制器7电性相连,从而控制器7可以控制潜水泵11和电机5工作。

在图2中:电机5的输出轴与搅拌杆14相连接,搅拌杆14与清洗池主体6的连接处设置有滚轴,从而电机5的输出轴可以带动搅拌杆14和搅拌叶15在清洗池主体6内转动,使得搅拌叶15不停的拨弄清洗池主体6内的硅锭。

在图2中:硅锭排口封板12与清洗池主体6的连接处的一侧设置有阻尼铰链,硅锭排口封板12与清洗池主体6的连接处的另一侧设置有锁扣结构,硅锭排口封板12和清洗池主体6的连接处设置有密封橡胶圈,从而可以打开硅锭排口封板12与清洗池主体6之间设置的锁扣结构,并通过阻尼铰链将硅锭排口封板12硅锭排口17处打开,以将硅锭从清洗池主体6取出。

本实用新型的工作原理是:当需要使用该氧化夹层清理设备清洗硅锭时,首先将表面含有氧化夹层的硅锭通过入料斗4和硅锭进管3倒入清洗池主体6内,然后将清洗用的酸溶液也通过入料斗4和硅锭进管3倒入清洗池主体6内,打开电机5,电机5的输出轴带动搅拌杆14和搅拌叶15在清洗池主体6内转动,使得搅拌叶15不停的拨弄清洗池主体6内的硅锭,以使酸溶液对硅锭清洗,通过清洗池主体6前侧的观察窗观察硅锭清洗情况,若清洗完毕,打开排水管8上设置的阀门以将清洗池主体6内的废水排出,在废水从排水管8上排出时,废水会流入杂质收集筒96内,使得废水中的杂质留在杂质收集筒96内,在杂质收集筒96内的杂质较多时,将限位螺杆93依次转出第二限位螺孔95和第一限位螺孔94,使得第二连接板92从第一连接板91上卸下以将杂质收集筒96内的杂质收集处理,在将清洗池主体6内的废水排完后,在搅拌叶15不断拨弄硅锭的情况下,打开潜水泵11,潜水泵11将水箱1内的水通过第一水管2注入第二水管16内并从喷头13喷洒在清洗池主体6内以将硅锭上的酸溶液清洗掉,清洗完毕后,打开硅锭排口封板12与清洗池主体6之间设置的锁扣结构,并通过阻尼铰链将硅锭排口封板12硅锭排口17处打开,以将硅锭从清洗池主体6取出。

以上所述的,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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