一种首饰清洗机的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种清洗机，更确切地说，是一种首饰清洗机。
【背景技术】
[0002]人们佩戴的首饰多以贵金属或者玉石为主，在佩戴时间长了以后在首饰上会留下一些污渍，一般的清洗装置对首饰会造成一定的损伤，并且不易清洗干净。
【发明内容】
[0003]本发明主要是解决现有技术所存在的技术问题，从而提供一种不伤首饰并且清洗彻底的首饰清洗机。
[0004]本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种首饰清洗机，包含一底座，在所述的底座上设有一固定组件，在所述的固定组件上固定连接一超声波发生器，在所述的超声波发生器的顶部设有一超声波输出头，在所述的超声波输出头上固定连接一声波放大装置，所述的底座的上表面还设有一清洗槽，所述的声波放大装置的末端深入所述的清洗槽内。
[0005]作为本发明较佳的实施例，所述的清洗槽为圆形。
[0006]作为本发明较佳的实施例，所述的超声波输出头与所述的声波放大装置一体成型。
[0007]由于本发明的首饰清洗机在本体上设置了一个超声波发生器并在超声波发生器上加装了个声波放大装置，通过超声波对首饰上的污渍进行深度清洗，不用直接接触首饰表面即可完成清洗，不伤首饰本身并且清洗深层且彻底。
[0008]
【附图说明】
[0009]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0010]图1为本发明的首饰清洗机的立体结构示意图；
图2为图1中的首饰清洗机的立体结构示意图，此时为另一视角。
[0011]
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0013]本发明提供了一种不伤首饰并且清洗彻底的首饰清洗机。
[0014]如图1、图2所示，一种首饰清洗机I，包含一底座2，在所述的底座2上设有一固定组件3，在所述的固定组件3上固定连接一超声波发生器4，在所述的超声波发生器4的顶部设有一超声波输出头51，在所述的超声波输出头51上固定连接一声波放大装置52，所述的底座2的上表面还设有一清洗槽6，所述的声波放大装置52的末端深入所述的清洗槽6内。
[0015]如图1、图2所示，所述的清洗槽6为圆形。
[0016]如图1、图2所示，所述的超声波输出头51与所述的声波放大装置52 —体成型。
[0017]该发明的首饰清洗机在本体上设置了一个超声波发生器并在超声波发生器上加装了个声波放大装置，通过超声波对首饰上的污渍进行深度清洗，不用直接接触首饰表面即可完成清洗，不伤首饰本身并且清洗深层且彻底。
[0018]以上仅仅以一个实施方式来说明本发明的设计思路，在系统允许的情况下，本发明可以扩展为同时外接更多的功能模块，从而最大限度扩展其功能。
[0019]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
【主权项】
1.一种首饰清洗机(1)，包含一底座(2)，其特征在于，在所述的底座(2)上设有一固定组件(3)，在所述的固定组件(3)上固定连接一超声波发生器(4)，在所述的超声波发生器(4)的顶部设有一超声波输出头(51)，在所述的超声波输出头(51)上固定连接一声波放大装置(52)，所述的底座(2)的上表面还设有一清洗槽(6)，所述的声波放大装置(52)的末端深入所述的清洗槽(6)内。
2.根据权利要求1所述的首饰清洗机，其特征在于，所述的清洗槽(6)为圆形。
3.根据权利要求2所述的首饰清洗机，其特征在于，所述的超声波输出头(51)与所述的声波放大装置(52) —体成型。
【专利摘要】本发明公开了一种首饰清洗机，包含一底座，在所述的底座上设有一固定组件，在所述的固定组件上固定连接一超声波发生器，在所述的超声波发生器的顶部设有一超声波输出头，在所述的超声波输出头上固定连接一声波放大装置，所述的底座的上表面还设有一清洗槽，所述的声波放大装置的末端深入所述的清洗槽内，所述的清洗槽为圆形,所述的超声波输出头与所述的声波放大装置一体成型。由于本发明的首饰清洗机在本体上设置了一个超声波发生器并在超声波发生器上加装了个声波放大装置，通过超声波对首饰上的污渍进行深度清洗，不用直接接触首饰表面即可完成清洗，不伤首饰本身并且清洗深层且彻底。
【IPC分类】B08B3-12
【公开号】CN104588364
【申请号】CN201510061744
【发明人】徐存然
【申请人】徐存然
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2015年2月6日