一种新型发酵类制药废水综合处理系统及方法_2

文档序号:8374110阅读:来源:国知局
相邻两导流盘之间叠装碟片式膜袋,碟片式膜袋与上下的导流盘之间不接触,形成过滤通道。在叠片式膜袋内部安装电极板。
[0034]如图3所示,电极板制有接线柱安装孔35,与接线柱安装孔相对一侧制有接线柱避让孔34,形成叉指电极的两电极板为对称放置,两相邻电极板形成叉指电极。进水端盖制有与原水通道连通的原水进口 26,进水端盖还制有与过滤通道连通的浓水出口 23,及与产水通道连通的产水出口 24。产水出口制于下护套侧壁。
[0035]超临界水氧化单元,包含氧气供应系统12、启动燃料系统10、超临界水氧化(SCffO)反应器11、气固分离系统13、热交换系统15、压力能回收系统16、气液分离系统17、富氧回用系统18 ;氧气供应系统与超临界水氧化反应器的氧气入口连接,启动燃料系统与超临界水氧化(SCWO)反应器的燃料入口连通,超临界水氧化(SCWO)反应器、气固分离系统、热交换系统、压力能回收系统、气液分离系统、富氧回用系统依次连通,热交换系统的蒸汽出口连接蒸汽利用设备19,气固分离系统的固体出口连接至固体盐类收集设备14。气液分离系统同时与清水池连通。
[0036]如图4所示,超临界水氧化(SCWO)反应器,其包括筒体36、燃烧器41、蒸发壁42 ;所述筒体内部同心设置蒸发壁,所述蒸发壁与筒体之间形成沿筒体轴向分布的多级环状的封闭的狭隙38,每个所述狭隙在筒体上开有入水口 37,经由入水口通入的液体能够通过所述蒸发壁渗入,在蒸发壁内表面形成水膜;燃烧器自筒体顶部伸入,所述燃烧器的燃烧嘴位于筒体内,蒸发壁由多孔材料制成,所述液体为亚临界水,筒体上部制有污水入口及氧气入口 39,燃烧器制有燃料入口及氧气入口 40,筒体底部制有液体排出口 43。
[0037]一种新型发酵类制药废水综合处理方法,包括如下步骤:
[0038]本实施例中,设计进水COD为14400mg/L,PH为6.3 ;
[0039](I)均质:发酵类制药废水进入调节池,进行均质均量调节。
[0040](2)混凝沉淀:经过均质调节后的废水由调节池进入混凝沉淀池中,加药系统向该池中加入PAC药剂,去除大部分悬浮物和胶体物质。
[0041](3)膜过滤:经过混凝沉淀后的废水由混凝沉淀池进入膜过滤池,去除废水中残留的悬浮物以及浊度,经过膜过滤后的水存储于中间水池。
[0042](4)膜浓缩:中间水池中的出水进入第一碟管式膜分离装置(DTNFl)进行过滤浓缩,其浓水进入第二碟管式膜分离装置(DTNF2)进行二次过滤浓缩,经过二次过滤浓缩后的浓水进入超临界水氧化(SCWO)反应器;从第一碟管式膜分离装置(DTNFl)产水口出来的水进入第三碟管式膜分离装置(DTNF3)进行再次过滤浓缩,第三碟管式膜分离装置(DTNF3)的产水进入清水池回用;经过第三碟管式膜分离装置(DTNF3)的浓水和经过第二碟管式膜分离装置(DTNF2)的产水循环回到中间水池。
[0043](5)超临界水氧化(SCWO):经过膜浓缩后的浓水、氧气制备系统制备的氧气、启动燃料系统的燃料分别进入超临界水氧化反应器进行氧化反应,工作压力在25-28MPa,工作温度在400-500°C,通过超临界水氧化,生成超临界流体和无机盐。
[0044](6)气固分离:在超临界水氧化反应器内氧化反应后的超临界流体和无机盐通过气固分离系统进行分离,无机盐以固体的形式脱除由固体盐类收集设备收集。
[0045](7)气液分离:脱盐后的超临界流体进入热交换系统多级换热,热能转换为蒸汽进入蒸汽利用设备进行发电或供暖等;超临界流体经多极换热后,其温度在100?200°C、压力在22?35MPa,进入到压力能回收系统,释放压力并输出动能后进入气液分离系统;气液分离系统通过背压阀控制压力到5?lOMPa,进行气相和液相分离,气体部分为二氧化碳和多余氧气,液体部分为水,气液分离得到的清水直接进入清水池予以利用,气体部分进入富氧回用系统。
[0046](8)富氧回用:气液分离后的含二氧化碳、多余氧气的气体在富氧回用系统经过脱水、换热降温、精馏,得到液态CO2和富氧气体,液态CO 2有收集设备收集,富
[0047]氧气体收集在气体储罐内,可直接进入本系统的氧气制备系统予以利用。
【主权项】
1.一种新型发酵类制药废水综合处理系统,其特征在于:它包括预处理单元、污水富集单元和超临界水氧化单元;其中,所述污水富集单元的入口连接所述预处理单元,污水在所述污水富集单元中进行膜过滤和膜浓缩,污水富集单元的清水出口连接一清水池;所述超临界水氧化单元包含氧气供应系统、启动燃料系统、超临界水氧化反应器、气固分离系统、气液分离系统,其中,启动燃料系统、超临界水氧化反应器、气固分离系统、气液分离系统依次连接,所述超临界水氧化反应器的污水入口连接所述污水富集单元的浓水出口,超临界水氧化反应器的氧气入口连接所述氧气供应系统,所述气液分离系统的出口连接所述清水池。
2.如权利要求1所述的一种新型发酵类制药废水综合处理系统,其特征在于:所述污水富集单元包括中间水池、第一过滤器、第二过滤器、第三过滤器;所述中间水池的入口连接所述预处理单元,所述第二过滤器的产水出口、所述第三过滤器的浓水出口与中间水池相连,所述中间水池的出口连接所述第一过滤器的入口用以进行膜过滤;所述第一过滤器的浓水出口连接所述第二过滤器的入口,所述第一过滤器的产水出口连接所述第三过滤器的入口,所述第三过滤器的清水出口连接所述清水池,所述第二过滤器的浓水出口连接所述超临界水氧化反应器的物料入口,实现膜浓缩。
3.如权利要求2所述的一种新型发酵类制药废水综合处理系统,其特征在于:所述第一过滤器、第二过滤器和第三过滤器均为碟管式膜分离装置,碟管式膜分离装置由耐压外壳、电源端盖、进水端盖、导流盘,碟片式膜袋、电极板及中心拉杆构成,电源端盖、多个导流盘及进水端盖依次叠放,并在其中部采用中心拉杆穿装固定;耐压外壳密封固装于电源端盖及进水端盖外,所述导流盘外周与耐压外壳之间形成原水通道;导流盘中部制有槽口,以形成过滤通道;导流盘中心与中心拉杆之间形成产水通道,在相邻两导流盘之间叠装碟片式膜袋,碟片式膜袋与上下的导流盘之间不接触,形成过滤通道;在叠片式膜袋内部安装电极板。
4.如权利要求1所述的一种新型发酵类制药废水综合处理系统,其特征在于:所述预处理单元包含依次连通的调节池、混凝沉淀池、膜过滤池。
5.根据权利要求1所述的新型发酵类制药废水综合处理系统,其特征在于:所述的超临界水氧化反应器包括筒体、燃烧器、蒸发壁;所述筒体内部同心设置蒸发壁,所述蒸发壁与筒体之间形成沿筒体轴向分布的多级环状的封闭的狭隙,每个所述狭隙在筒体上开有入水口,经由入水口通入的液体能够通过所述蒸发壁渗入,在蒸发壁内表面形成水膜;燃烧器自筒体顶部伸入,所述燃烧器的燃烧嘴位于筒体内,蒸发壁由多孔材料制成,所述液体为亚临界水,筒体上部制有污水入口及氧气入口,燃烧器制有燃料入口及氧气入口,筒体底部制有液体排出口。
6.根据权利要求1-5之一所述的一种新型发酵类制药废水综合处理系统,其特征在于:所述气固分离系统后设置热交换系统,所述热交换系统的蒸汽出口连接蒸汽利用设备。
7.根据权利要求1-5之一所述的一种新型发酵类制药废水综合处理系统,其特征在于:所述的热交换系统后设置压力能回收系统,降压后连接气液分离系统。
8.一种新型发酵类制药废水综合处理方法,步骤包括: 1)均质:对发酵类制药废水进行均质均量调节; 2)混凝沉淀:即经过均质均量调节后的废水进入混凝沉淀池中,去除大部分悬浮物和胶体物质; 3)过滤、浓缩:即经过混凝沉淀后的废水进行膜过滤,去除废水中残留的悬浮物以及浊度,并对膜过滤后的水进行膜浓缩,输出浓水; 4)超临界水氧化:将所述浓水输入超临界水氧化反应器,同时氧气供应系统输出的氧气、启动燃料设备输出的燃料分别进入超临界水氧化反应器进行氧化反应,去除所述浓水中的有机物,生成超临界流体和无机盐; 5)气固分离:在超临界水氧化反应器内氧化反应后的超临界流体和无机盐通过旋风分离器进行脱盐; 6)气液分离:进行气相和液相分离,气体部分为二氧化碳和多余氧气,液体部分为水。
9.如权利要求8所述的一种新型发酵类制药废水综合处理方法,其特征在于:所述步骤3)中的浓缩过程包括:将经过膜过滤后的水依次经第一过滤器和第二过滤器的两次浓缩,将最终产生的浓水进行超临界水氧化,第二过滤器的产水返回中间水池;将所述第一过滤器的产水在第三过滤器中再次浓缩,产水返回中间水池;所述第三过滤器产生的清水回收。
10.如权利要求8或9所述的一种新型发酵类制药废水综合处理方法,其特征在于:所述步骤6)进入气液分离系统之前,需过压力能回收系统降压,气体产生的气体进入富氧回用系统,经过脱水、换热降温、精馏,得到液态CO2和富氧气体,所述富氧气体输入所述氧气供应系统。
【专利摘要】本发明涉及一种新型发酵类制药废水综合处理系统,它包括预处理单元、污水富集单元和超临界水氧化单元;污水富集单元的入口连接所述预处理单元,污水在所述污水富集单元中进行膜过滤和膜浓缩,污水富集单元的清水出口连接一清水池;所述超临界水氧化单元的启动燃料系统、超临界水氧化反应器、气固分离系统、气液分离系统依次连接,超临界水氧化反应器的污水入口连接所述污水富集单元的浓水出口,超临界水氧化反应器的氧气入口连接所述氧气供应系统,气液分离系统的出口连接所述清水池。本发明将膜富集与超临界水氧化结合运用,使更大范围COD值的发酵类制药废水能进行超临界水氧化处理,有机物去除率百分之九十九以上,治理彻底,成本较低。
【IPC分类】C02F9-10
【公开号】CN104692580
【申请号】CN201510126594
【发明人】王冰, 马英霞, 郑贵堃
【申请人】内蒙古天一环境技术有限公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2015年3月23日
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