专利名称：洁净室用板式化学过滤器的制作方法
技术领域：
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本实用新型涉及一种净化气体的过滤器，尤其是涉及一种在半导体工业或 医疗用等使用的、除去空气中气态污染物质的化学过滤器。
技术背景
在半导体制造业中，粘在集成电路的粉尘可能造成断路、短路，粉尘直接 影响产品的成品率，故对生产环境空气洁净程度高挑剔，对空气过滤器的要求 也苛刻。当今的过滤技术虽可以将洁净室的粉尘浓度降到近乎为零的程度，但 仍存在产品质量品质不符合要求的情况，分析其主要原因是空气中的化学污 染物成了影响成品率的主要危害。例如在镀银、镀铜的工艺中，S02、 H2S气体 的存在，就是影响产品质量的元凶
实用新型内容
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本发明的目的，是针对现有技术不足之处而提供一种能有效除去空气中气 态污染物质的化学过滤器。
本发明的目的是通过以下措施来实现--种洁净室用板式化学过滤器，具 有外壳、其特殊之处是还有护面网、滤芯、密封胶护面网安装在进、出风 面的滤芯与外壳间滤芯安装在外壳内，四周有密封胶罐注密封；所述滤芯的 基体为多孔聚氨酯，其表面粘合一层浸渍活性炭。
所述的滤芯的基体多孔聚氨酯为平面形层状结构。
所述的滤芯的基体多孔聚氨酯为波浪形层状结构。
所述的滤芯的基体多孔聚氨酯外表粘附的浸渍活性炭为颗粒炭，所述的浸
3渍活性炭为颗粒状活性炭浸渍在氣教化钾水溶液而得。所述的滤芯的基体多孔聚氨酯外表粘附的浸渍活性炭为纤維炭，所述的浸 渍活性炭为纤维状活性炭浸渍在氣氣化钾水溶液而得a与现有技术相比，采用了滤芯基体为多孔聚氣酯，并在其表面粘合一层浸 渍活性炭的化学过滤器，特别是所述的浸渍活性炭为颗粒状活性炭浸渍在氢氣化钾水溶液而得，这样空气中的污染物SOa、 H2S通过滤芯时与滤芯材料上的 化学成分起反应，生成固体成分或无害气体，本实用新型可广泛应用在芯片厂、 核工业、飞机场等场合。
图1是本实用新型提出的一个实施例的结构简图。
具体实施方式
-下面结合附圉对具体实施方式
作详细说明在圉1所示本实用新型的一个实施例中，洁净室用板式化学过滤器，具有外壳l、护面网2、滤芯3、密封胶4:护面网2安H在进、出风面的滤芯3与 外壳1间滤芯3安装在外壳1内，四周有密封胶罐注裙封；所述滤芯3的基 体为多孔聚氣酯，其表面粘合一层浸渍活性炭，本实用新型中采用的多孔聚氛酯为多孔结构，其孔的平均直径为2-4mm 若孔径过小，气体透过时的压力损失加大，孔径过大时，气体与滤芯的接触变 得不充分，效率降低；其次聚氣酯的总细孔容积为0.566cmVg,当该值过小时， 单位载面积的透过气体量变小，过大时聚鲺酯的强度将下降，也是不理想的 再次，聚氨酯的厚度tt^范围为5-30mm,其衡i的指标是气体既可顺利流通， 又具有充分的机械强度。多孔聚氨脂选定后，将水溶性胶喷洒在多孔聚氨脂中，然后再将浸渍活性 炭均匀洒在聚氨脂上，活性炭会渗透到聚氨脂孔隙中，进ff烘千。
本实用新型中采用的浸渍活性炭为颗粒状，颗粒状的活性炭具有广谱性，
特别是浸渍在氢氧化钾溶液后，氢氧化钾依附在活性炭的表面，当S02、 H2S 气体经过表面后，会发生如化学反应-
KOH+H2S=KHS+H20
S02+H20=H2S03
2KOH+H2S04+H20
通过上述化学反应，有效地除去S02、 H2S等有害气体。 装配本实用新型时，滤芯3安装在外壳1内，滤芯四周用密封胶4罐注密
封，这样化学过滤器安装在管道中，密封性好，不会产生漏气。
上述实施例并不构成对本实用新型的限制，无论是多孔聚氨酯制成平面状
还是波形状，活性炭制成颗粒状或纤维状，或其组合，本领域技术人员可以在
所附权利要求的范围内做出各种变形或修改。
权利要求1. 一种洁净室用板式化学过滤器，具有外壳(1)、其特征是还有护面 网(2)、滤芯(3)、密封胶(4);护面网(2)安装在进、出风面的滤芯(3) 与外壳(1)间；滤芯(3)安装在外壳(1)内，四周有密封胶(4)罐注密封; 所述滤芯(3)的基体为多孔聚氨酯，其表面粘合一层浸渍活性炭。
2. 根据权利要求1所述的一种洁净室用板式化学过滤器，其特征是所述 的滤芯(3)的基体多孔聚氨酯为平面形层状结构。
3. 根据权利要求1所述的一种洁净室用板式化学过滤器，其特征是所述 的滤芯(3)的基体多孔聚氨酯为波浪形层状结构。
专利摘要本实用新型涉及一种净化气体的过滤器，尤其是涉及一种在半导体工业或医疗用等使用的、除去空气中气态污染物质的化学过滤器。它具有外壳、护面网、滤芯、密封胶；护面网安装在进、出风面的滤芯与外壳间；滤芯安装在外壳内，四周有密封胶罐注密封；所述滤芯的基体为多孔聚氨酯，其表面粘合一层浸渍活性炭。与现有技术相比，采用了滤芯基体为多孔聚氨酯，并在其表面粘合一层浸渍活性炭的化学过滤器，特别是所述的浸渍活性炭为颗粒状活性炭浸渍在氢氧化钾水溶液而得，这样空气中的污染物SO<sub>2</sub>、H<sub>2</sub>S通过滤芯时与滤芯材料上的化学成分起反应，生成固体成分或无害气体。本实用新型可广泛应用在芯片厂、核工业、飞机场等场合。
文档编号B01D46/10GK201154269SQ20072007382
公开日2008年11月26日 申请日期2007年8月20日 优先权日2007年8月20日
发明者刘志光 申请人:上海金宇泰净化设备有限公司