反应罐的冷却装置的制作方法

本发明涉及钕铁硼领域，特别涉及一种反应罐的冷却装置。

背景技术：

氢破工序为钕铁硼磁性材料生产的关键工序，氢破反应罐为氢破设备中的主要部件。钕铁硼磁性材料在整个氢破工序都被置于反应罐中，在脱氢环节需要对反应罐进行高温加热并保持一段时间，所以在脱氢结束后，需要对反应罐进行冷却至常温，一般厂家采取风冷方式，即用大功率风机正对着反应罐吹风进行冷却，这种冷却方式使反应罐的温度降低比较慢，即耗费时间长，且耗电量大，成本高。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种反应罐的冷却装置，降低冷却时间，缩短生产周期。

为实现上述目的，本发明提供了一种反应罐的冷却装置，包括：反应罐支架，其包括前支架和后支架，前支架高于后支架设置，反应罐旋转的设置在前支架和后支架上；冷却水槽，其倾斜的设置在前支架和后支架之间，反应罐的罐体处于冷却水槽的上方，冷却水槽的低端设有回水管；以及进水管，其沿冷却水槽的槽底铺设，进水管上设有喷头，喷头用来向反应罐的表面喷射冷却水。

优选地，冷却水槽的横截面为梯形。

优选地，进水管通过支架设置在冷却水槽的槽底。

优选地，进水管绕过冷却水槽的底侧壁后铺设在冷却水槽的槽底。

优选地，冷却水槽由水槽支架支撑。

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：通过设置冷却水槽以及进水管，利用冷却水直接喷到反应罐的表面进行冷却，经反应罐反射回来的水被冷却水槽收集，并从冷却水槽的底部回水管流出，整个冷却过程中反应罐处于旋转状态，以实现均匀冷却，比风冷的速度快很多，据统计同一种反应罐用风冷的方式需要24小时，而用该装置进行冷却只需要3个小时，降低冷却时间，缩短生产周期，减少生产现场的在制品，从而有效的降低生产成本。

附图说明

图1是根据本发明的反应罐的冷却装置的结构示意图；

图2是根据本发明的反应罐的冷却装置中冷却水槽和进水管的示意图；

图3是根据本发明的反应罐的冷却装置的使用示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本发明的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本发明的保护范围并不受具体实施方式的限制。

除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。

如图1至图3所示，根据本发明具体实施方式的一种反应罐的冷却装置，包括反应罐支架1、冷却水槽3以及进水管4，其中反应罐支架1包括前支架和后支架，前支架高于后支架设置，使得反应罐倾斜的支撑在前支架和后支架上，而且反应罐旋转设置。冷却水槽3倾斜的设置在前支架和后支架之间，反应罐7的罐体处于冷却水槽3的上方，冷却水槽3的低端设有回水管6，进水管4沿冷却水槽3的槽底铺设，进水管4上设有喷头5，喷头5用来向反应罐7的表面喷射冷却水。

作为一种优选实施例，冷却水槽3的横截面为梯形。

作为一种优选实施例，进水管4通过支架设置在冷却水槽3的槽底。

作为一种优选实施例，进水管4绕过冷却水槽3的底侧壁后铺设在冷却水槽3的槽底。

作为一种优选实施例，冷却水槽3由水槽支架2支撑。

上述方案中，反应罐支架1的作用是对反应罐起支撑作用，前支架支撑着反应罐7的罐口，后支架支撑着反应罐的罐尾，前支架比后支架略高一节，进水管4主要作用是提供冷却水，并通过喷头5将冷却水直接喷到反应罐7的表面进行冷却，从而使反应罐实现快速降温的效果，缩短冷却时间，降低生产成本。经反应罐7反射回来的水被冷却水槽3收集，并从冷却水槽3的底部回水管6流出，整个冷却过程中反应罐7处于旋转状态，以实现均匀冷却。

综上，本实施例的反应罐的冷却装置，通过设置冷却水槽3以及进水管4，利用冷却水直接喷到反应罐7的表面进行冷却，经反应罐7反射回来的水被冷却水槽3收集，并从冷却水槽3的底部回水管6流出，整个冷却过程中反应罐7处于旋转状态，以实现均匀冷却，比风冷的速度快很多，据统计同一种反应罐用风冷的方式需要24小时，而用该装置进行冷却只需要3个小时，降低冷却时间，缩短生产周期，减少生产现场的在制品，从而有效的降低生产成本。

前述对本发明的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本发明限定为所公开的精确形式，并且很显然，根据上述教导，可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本发明的特定原理及其实际应用，从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本发明的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本发明的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。