本实用新型涉及面粉加工技术领域，尤其涉及一种粗细分离研磨磨盘。
背景技术：
石磨面粉加工是面粉加工领域的常见技术，作为传统工具，石磨在保留面粉口感方面的优势难以取代。石磨面粉加工过程中，研磨细度和加工效率，与石磨的磨面有很大关系。
技术实现要素：
基于背景技术存在的技术问题，本实用新型提出了一种粗细分离研磨磨盘。
本实用新型提出的一种粗细分离研磨磨盘，上磨盘的下端面由内向外依次分割为中心区、第一环形区、第二环形区和第三环形区；中心区为与上磨盘中心轴重合的圆形区域，第一环形区的中心轴、第二环形区的中心轴和第三环形区的中心轴均与中心区的中心轴重合；
中心区的中心位置用于安装转动轴，进料口位于中心区并偏离中心位置；中心区的齿槽由进料口向四周辐射；第二环形区上的齿槽旋转对称；第一环形区和第三环形区上的齿槽均为与中心区同轴的环形结构，且第三环形区上的齿槽间距大于第一环形区上的齿槽间距；
下磨盘的上端面由内向外依次分割为圆心区、第一圆环区、第二圆环区和第三圆环区，圆心区为与下磨盘中心轴重合的圆形区域，第一圆环区、第二圆环区和第三圆环区依次包覆在圆心区外周；
圆心区的中心位置用于安装转动轴，圆心区上的齿槽由转动轴位置向四周辐射；第二圆环区上的齿槽由其内周向外周周向辐射；第一圆环区和第三圆环区上的齿槽均为与圆心区同轴设置的环形结构，且第一圆环区上的齿槽与第一环形区上的齿槽相啮合，第二圆环区上的齿槽与第二环形区上的齿槽相啮合。
优选地，中心区上围绕出料口外周设有一圈环形出料区域，环形出料区域内的齿槽数量为环形出料区域外周齿槽数量的一半，且均匀分布。
优选地，中心区的所有齿槽的长度方向相交于进料口内的一点，且齿槽交点偏离进料口的中心位置。
优选地，第二环形区上的齿槽长短间隔分布，长齿槽的两端分别抵靠第二环形区的外圈和内圈，短齿槽的一端抵靠第二环形区的外圈，短齿槽的长度为长齿槽长度的2/3到1/4。
优选地，第二环形区的所有齿槽的长度方向相交于第一环形区或者中心区内的一点，且齿槽交点偏离中心区的中心位置。
优选地，第三环形区上的齿槽间距和第一环形区上的齿槽间距，由内向外均呈递减趋势。
优选地，圆心区上的齿槽和第二圆环区上的齿槽均长短间隔分布；圆心区上短齿槽分布在抵靠其外周的环形区域上，各长齿槽的两端分别抵靠转动轴和圆心区的外周；第二圆环区上的短齿槽分布在抵靠其外周的环形区域上，各长齿槽的两端分别抵靠第二圆环区的内圈和外圈。
本实用新型提出的一种粗细分离研磨磨盘，上磨盘和下磨盘相合后，圆心区和第二圆环区分别对应中心区和第二环形区，圆心区和中心区用于对物料进行初步碾磨，第二圆环区和第二环形区用于对物料进行进一步碾磨。第一环形区和第一圆环区的设置，有利于阻挡较体积较大的研磨颗粒的通过，从而使得待研磨物料在圆心区由中心区和圆心区的相对转动得到充分研磨。第一环形区和第一圆环区还可以对进入两者缝隙的研磨颗粒进一步碾磨，保证进入第二圆环区的研磨颗粒的细度。同理，第三环形区而后第三圆环区的设置，可阻止较大的颗粒通过，并对进入的细微颗粒进一步研磨后出料，保证了最终下料的细度。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种粗细分离研磨磨盘的上磨盘下端面示意图；
图2为本实用新型提出的一种粗细分离研磨磨盘的下磨盘上端面示意图。
具体实施方式
参照图1、图2，本实用新型提出的一种粗细分离研磨磨盘，包括上磨盘和下磨盘。
上磨盘1的下端面由内向外依次分割为中心区、第一环形区12、第二环形区13和第三环形区14。即，第一环形区12、第二环形区13和第三环形区14由内向外依次包覆在中心区11的外周。中心区11为与上磨盘1中心轴重合的圆形区域，第一环形区12的中心轴、第二环形区的中心轴和第三环形区14的中心轴均与中心区11的中心轴重合。
中心区11的中心位置用于安装转动轴，进料口位于中心区11并偏离中心位置，以保证进料口填入的待研磨料在研磨过程中需在石磨中运行一端距离才能从石磨边缘下料，从而保证研磨效果。中心区11的齿槽由进料口2向四周辐射，第二环形区13上的齿槽旋转对称，且，第二环形区13的所有齿槽的长度方向相交于第一环形区12或者中心区11内的一点，且齿槽交点偏离中心区11的中心位置。
第一环形区12和第三环形区14上的齿槽均为与中心区11同轴的环形结构，且第三环形区14上的齿槽间距大于第一环形区12上的齿槽间距。下磨盘3的上端面由内向外依次分割为圆心区31、第一圆环区32、第二圆环区33和第三圆环区34，圆心区31为与下磨盘3中心轴重合的圆形区域，第一圆环区32、第二圆环区33和第三圆环区34由内向外依次包覆在圆心区31外周。
圆心区31的中心位置用于安装转动轴，即上磨盘1和下磨盘3通过转动轴4转动连接，以便上磨盘1相对于下磨盘3转动，进行碾磨。
圆心区31上的齿槽由转动轴位置向四周辐射。第二圆环区33上的齿槽由其内周向外周周向辐射。本实施方式中，上磨盘1和下磨盘3相合后，圆心区31和第二圆环区33分别对应中心区11和第二环形区13。本实施方式中，圆心区31上的齿槽的延伸方向与中心区11上的齿槽的延伸方向不同，第二圆环区33上的齿槽的延伸方向与第二环形区13上的齿槽的延伸方向不同，上磨盘1转动过程中，圆心区31上的齿槽的延伸方向始终与中心区11上的齿槽的延伸方向相交，第二圆环区33上的齿槽的延伸方向始终与第二环形区13上的齿槽的延伸方向相交，有利于保证颗粒在圆心区31和第二圆环区33的碾磨效果。
第一圆环区32和第三圆环区34上的齿槽均为与圆心区31同轴设置的环形结构，且第一圆环区32上的齿槽与第一环形区12上的齿槽相啮合，第二圆环区33上的齿槽与第二环形区13上的齿槽相啮合。
第一环形区12和第一圆环区32的设置，有利于阻挡较体积较大的研磨颗粒的通过，从而使得待研磨物料在圆心区31由中心区11和圆心区31的相对转动得到充分研磨。第一环形区12和第一圆环区32还可以对进入两者缝隙的研磨颗粒进一步碾磨，保证进入第二圆环区33的研磨颗粒的细度。同理，第三环形区14而后第三圆环区34的设置，可阻止较大的颗粒通过，并对进入的细微颗粒进一步研磨后出料，保证了最终下料的细度。
本实施方式中，中心区11上的所有齿槽的长度方向相交于进料口2内的一点，且齿槽交点偏离进料口的中心位置，以方便进料口填入的物料随着中心区11的齿槽由进料口向四周扩散，提高研磨效率。
本实施方式中，中心区11上围绕出料口外周设有一圈环形出料区域，环形出料区域内的齿槽数量为环形出料区域外周齿槽数量的一半，且均匀分布。如此，即解决了根据辐射规律，中心区11上的齿槽随着距离进料口越远密度越小，不利于研磨细度的问题；还降低了出料口附近的齿槽密度，有利于进料口下料。同理，第二环形区13上的齿槽长短间隔分布，长齿槽的两端分别抵靠第二环形区13的外圈和内圈，短齿槽的一端抵靠第二环形区13的外圈，短齿槽的长度为长齿槽长度的2/3到1/4。即，短齿槽分布在外周与第二环形区13的外周重合且内周大于第二环形区13内周的环形带上。短齿槽的设置，有利于提高第二环形区13靠近外周位置的齿槽密度，提高研磨效果。
圆心区31上的齿槽和第二圆环区33上的齿槽均长短间隔分布。圆心区31上短齿槽分布在抵靠其外周的环形区域上，各长齿槽的两端分别抵靠转动轴和圆心区31的外周。第二圆环区33上的短齿槽分布在抵靠其外周的环形区域上，各长齿槽的两端分别抵靠第二圆环区33的内圈和外圈。如此，方便圆心区31与中心区11、第二圆环区33和第二环形区13的配合。
本实施方式中，第三环形区14上的齿槽间距和第一环形区12上的齿槽间距，由内向外均呈递减趋势，以便提高磨盘边缘出粉的细度。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。