一种升降式均质设备的制作方法

本实用新型涉及物料混合领域，尤其涉及一种升降式均质设备。

背景技术：

均质机由于运转稳定、噪音小、清洗方便、可连续使用和对物料进行超细分散、乳化等特点，现已广泛应用于生物技术领域的组织分散、医药领域的样品准备、食品工业的酶处理,食品中农药残留以及兽药残留检测以及在制药工业、化妆品工业、油漆工业和石油化工等方面。

申请号为201921259475.7的实用新型专利公开了一种均质机，该均质机采用转子的转子圈齿与定子的定子圈齿精密配合，产生较大的剪切力，在挤压、强冲击和失压膨胀的三重作用下对物料进行超细分散，但是该均质机仍存在以下缺陷：处理过程中无法对盛装物料的容器进行限位，导致容器可能会发生位移，容器与均质机接触后，不仅会对容器和均质机造成损伤，还会出现容器内物料发生泄漏；(2)控制电机升降的过程中，工作人员可能会与均质腔室发生接触，导致容器内的物料发生污染。

技术实现要素：

本实用新型正是针对现有技术存在的不足，提供了一种工作稳定性高，不易污染物料的升降式均质设备。

为解决上述问题，本实用新型所采取的技术方案如下：

一种升降式均质设备，包括底座；支架，竖直地安装在所述底座上；托架，水平地安装在所述支架上；升降机构，安装在所述支架上，并能驱动所述托架相对支架进行升降运动；均质机构，包括控制箱、电机和均质头，所述控制箱和电机均安装在所述托架上，所述控制箱和电机通过信号线通信连接，所述均质头与所述电机的输出轴传动连接；限位机构，包括两块限位板，每块限位板均滑动连接在所述支架上，两块限位板之间配合形成用于对容器进行限位的限位腔。

优选地，所述底座包括两根相互平行的横梁，在两根横梁的底部安装有前滚轮，两根横梁之间连接有纵梁。

优选地，所述支架包括两根相互平行的柱梁，所述柱梁安装在底座的一侧，在柱梁背离底座的一侧还安装有推手。

优选地，升降机构包括液压缸、连接架和脚踏板，所述液压缸的缸体固定安装在纵梁上，所述连接架固定安装在所述液压缸的活塞杆上，所述脚踏板设置在所述液压缸的缸体侧面。

优选地，所述托架包括支撑架和托梁，所述支撑架与连接架固定连接，所述支撑架还滑动连接在柱梁上，并能在柱梁的高度方向上进行升降运动。

优选地，托架包括两根相互平行的托梁，均质机构安装在两根托梁之间的间隙空间内。

优选地，在底座沿其长度方向开设有多个下限位孔，在限位板一侧安装有翼板，所述翼板部分位于限位板外侧，所述翼板上贯穿地开设有上限位孔，所述锁紧件包括限位杆，所述限位杆的一端能在穿过上限位孔后进入底座的下限位孔，以将限位板固定在底座上。

优选地，还包括安装在底座上的刹车机构，所述刹车机构包括安装座、后滚轮和脚刹，所述安装座安装在底座上，并位于支架背离底座一侧，所述后滚轮转动连接在安装座上，所述脚刹包括刹车块，所述刹车块能与后滚轮的表面按压接触。

本实用新型与现有技术相比较，本实用新型的实施效果如下：

通过限位机构能够防止均质过程中容器发生移动，保证了均质处理得以长时间稳定进行；后滚轮上的设置的脚刹能够防止整个均质设备发生移动，提升了均质处理过程的稳定性；通过脚踏板能够实现均质头的升降，纯机械操作也摆脱了对电源插座的依赖，此外过程中工作人员不会与均质头相接触，避免了对容器内物料的污染；电机和控制箱安装在托架上，在平面上不占用空间，能够方便的布置在各个场所。

附图说明

图1、2是本实用新型提出的一种升降式均质设备的结构示意图。

图3是图2中a部分的放大结构示意图。

附图标记说明如下：1、底座；11、横梁；12、纵梁；13、安装座；14、后滚轮；15、前滚轮；2、支架；21、柱梁；22、推手；3、升降机构；31、液压缸；32、连接架；33、脚踏板；托架4；41、支撑架；42、托梁；5、均质机构；51、控制箱；52、电机；53、均质头；6、限位机构；61、限位板；62、翼板；63、锁紧件。

具体实施方式

下面将结合具体的实施例来说明本实用新型的内容。

参照图1，本实用新型提出的一种升降式均质设备，包括底座1、支架2、升降机构3、托架4、均质机构5和限位机构6，支架2竖直安装在所述底座1上，所述托架4水平地安装在所述支架2上，并能由升降机构3驱动相对所述支架2进行升降运动，所述限位机构6安装在底座1上。

参照图2，所述底座1用于对整个均质设备提供有效支撑，其可采用框架式的结构，本申请的底座1包括两根相互平行的横梁11，在两根横梁11的底部安装有前滚轮15，通过前滚轮15能够更加方便的转运该均质设备。

支架2具有供托架4安装其上的工位，本申请的支架2包括两根相互平行的柱梁21，所述柱梁21安装在底座1的一侧，在柱梁21背离底座1的一侧还安装有推手22，通过推手22方便工作人员抓取该均质设备，从有助于提升该均质设备转运的便利性。

升降机构3用于驱动托架4相对支架2进行升降运动，其可用液压缸31、丝杆滑块等传动形式，作为一种优选的实施方式，本申请中的升降机构3包括液压缸31、连接架32和脚踏板33，所述液压缸31的缸体固定安装在底座1或支架2上，为了方便安装，作为一种优选方式，在两块横梁11之间连接有纵梁12，液压缸31的缸体固定安装在该纵梁12上。所述连接架32固定安装在所述液压缸31的活塞杆上，所述脚踏板33设置在所述液压缸31的缸体侧面，通过脚踩脚踏板33能够实现液压缸31的活塞杆伸缩运动，进而带动连接架32进行升降。脚踏板33控制液压缸31的活塞杆伸缩的方式为现有技术，为节省篇幅，本申请不再进行详细介绍。

所述托架4用于承载均质机构5，并带动均质机构5进行升降运动。本申请中的托架4包括支撑架41和托梁42。所述支撑架41与连接架32固定连接，所述支撑架41还滑动连接在柱梁21上，并能在柱梁21的高度方向上进行升降运动，所述托梁42安装在支撑架41上，并与底座1位于支撑架41的同一侧。为了方便将均质设备安装在托梁42上，托架4包括两根相互平行的托梁42，均质机构5安装在两根托梁42之间的间隙空间内。

所述均质机构5用于对容器内的介质进行均质处理，本申请中的均质机构5包括控制箱51、电机52和均质头53，控制箱51、电机52固定安装在托架4上，均质头53与电机52的输出轴传动连接，以由电机52驱动绕其轴线进行转动，所述控制箱51和电机52通过信号线连接，通过控制箱51能够控制电机52的转速。

所述限位机构6用于对盛装待均质介质的容器进行限位，防止在均质过程中容器在水平方向上的发生位移，导致均质机构5与容器之间发生摩擦，进而防止因容器发生倾倒而导致容器内的介质发生泄漏现象的发生。本申请中的限位机构6包括两块限位板61，每块限位板61均滑动连接在所述支架2上，所述限位板61的长度方向与底座1的宽度方向相平行，两块限位板61之间配合形成用于对容器进行限位的限位腔。在均质前，可将容器放置在两块限位板61之间形成的限位腔内，再将两块限位板61抵靠在容器上，通过锁紧件63将限位板61锁紧在底板上即可。在具体的实施方式中，参照图3，在底座1沿其长度方向开设有多个下限位孔，在限位板61一侧安装有翼板62，所述翼板62部分位于限位板61外侧，所述翼板62上贯穿地开设有上限位孔，所述锁紧件63包括限位杆，所述限位杆的一端能在穿过上限位孔后进入底座1的下限位孔，从而将限位板61固定在底座1上。

下面将结合说明书附图和本申请的实施例，对本申请的工作原理进行如下说明：

首先，根据容器外径大小调整好两块限位板61的距离，将容器放置在两块限位板61形成的限位腔内，并使容器的开口正对均质机构5的均质头53，再将两块限位板61抵靠在容器上，其后通过锁紧件63将限位板61固定在底座1上；然后，脚踩脚踏板33，通过脚踏板33控制均质机构5进行升降运动，直至均质机构5的均质头53进入容器内；最后，打开控制箱51上的启动开关，使电机52驱动带动均质头53进行转动，以对容器内的介质进行均质处理。

更优的，在本申请的一个实施例中，该均质设备还包括安装在底座1上的刹车机构，所述刹车机构能够对整个均质设备起到刹车效果。所述刹车机构包括安装座13、后滚轮14和脚刹，所述安装座13安装在底座1上，并位于支架2背离底座1一侧，所述后滚轮14转动连接在安装座13上，所述脚刹包括刹车块，所述刹车块能与后滚轮的表面按压接触，产生巨大的摩擦力，从而使后滚轮14静止，进而达到刹车目的。本申请的脚刹和后滚轮14的配合方式为现有技术，非本申请的创新之处所在，具体可参考申请号为201820751016x的相关记载，为节省篇幅，本申请不再进行详细描述。在均质过程中，可通过脚刹将整个均质设备固定住，从而防止均质机构5和容器之间发生相对位移，进而保证了均质处理的稳定性。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。