承载盘检验装置的制作方法

本发明是关于一种承载盘检验装置，尤指一种适用于装载半导体元件的承载盘检验装置。

背景技术：

请参阅图9及图10，是已知厚薄规的检验方式的示意图以及已知通道式检测器的检验方式的示意图。如图9所示，图中检测者手中所握持的承载盘检验装置是为一厚薄规91，其常用于量测二零件间的间隙，也可应用于检测承载盘95的翘曲程度。使用时，若将厚薄规91插入承载盘95与桌面的间隙后，发现两者间仍有空隙且无接触到承载盘95表面，则判定为翘曲异常。再者，如图10所示，图中设置于一斜面920的承载盘检验装置是为一通道式检测器92，检测者是将承载盘95置入通道式检测器92的一具特定高度的通道921后，若承载盘95卡住无法顺利滑入时，则判定为翘曲异常。然而，上述两种承载盘检验装置皆须以人力手动操作，检验过程制式化且耗费人力，缺乏自动化的检验效率。

因此，如图11所示，是已知承载盘检验装置的检验方式的示意图。美国公告号第6453760号专利案已揭示一种承载盘检验装置93，是将承载盘95置于一以输送马达932驱动的输送带930上，并以一夹具931将承载盘95固定于输送带930上，此外，位于输送带930的一侧的一阻挡块933是跟随承载盘95同时移动，且依序对应位于同一侧的三光耦934，用以反射每一光耦934所发射出的led光束，当光耦934接收到反射光时，即可判定已到达承载盘95的检测点。其中，已知技术是采用横向式的光感测方式，利用一激光光发射源935对应一接收该光源的激光光感知器936，其原理是在判定未被承载盘95阻挡的激光光的最高位置与一门坎高 度进行比较，若该最高位置小于该门坎高度，即通过检测；若该最高位置大于该门坎高度，即未通过检测。然而，已知技术无法准确地量测出承载盘95的翘曲量，缺乏使用上的精确性，且仅通过光遮蔽的方式易受到外在环境干扰，量测误差及检测质量仍有改进的空间。

发明人缘因于此，本于积极发明的精神，亟思一种可以解决上述问题的承载盘检验装置，几经研究实验终至完成本发明。

技术实现要素：

本发明的主要目的是在提供一种承载盘检验装置，用以检验承载盘是否已产生翘曲或变形的情况，避免在各机台中误用过度变形的承载盘，造成半导体元件翻覆、弹出或破损，有效减少机台出现问题的机率，保持原有产能。

本发明的另一目的是在提供一种具有气帘清洁效果的承载盘检验装置，除了可自动化检测承载盘翘曲量之外，同时可通过一气帘杆上的多个通气孔喷出压缩气体，一并去除承载盘上的微尘，毋须再依靠人力用气枪清洁承载盘表面。

为达成上述目的，本发明的承载盘检验装置包括有一滑轨单元、二高度计以及一控制单元。滑轨单元包括有一轨道及一经由一皮带带动的横移推杆，该皮带是连接一动力源，其中，多个承载盘是依序放置于轨道上，并受横移推杆的线性推移，用以建构出一可持续推送每一承载盘的输送结构。此外，二高度计分别设置于一支撑架上，是提供一单点式光束对应每一承载盘的两侧端缘的上表面，用以感测承载盘的高度变化量，并通过电连接该动力源及该二高度计的控制单元，控制每一承载盘的启动时序，使得每一承载盘可被照射一特定数量的单点式光束的量测点，以确保承载盘的每一部分皆符合在容许变形量的范围内。

上述支撑架可还固设有一开设多个通气孔的气帘杆，该气帘杆是连通一压缩气体供应装置，用以自动化清洁承载盘，减少微尘污染承载盘及待测半导体元件。

上述滑轨单元可还包括多个升降板及多个挂杆，用以建构出一良品储放区及一不良品储放区。该挂杆可分别承接并堆栈通过检验的承载盘及未 通过检验的承载盘，具有集中放置的特性，直至收集到一定数量后，再经由人力或移行机构搬离承载盘检验装置。

其中，根据检验装置所制定的通过标准，当高度计所量测的高度差在一特定阈值以内时，承载盘将被输送至良品储放区；而当高度计所量测的高度差超过特定阈值时，承载盘将被输送至不良品储放区。所述的特定阈值可为0.76毫米。由此，可防止过度变形的承载盘被误用，避免半导体元件翻覆、弹出或破损的现象产生。

此外，滑轨单元可还包括一进料区，设至于储放区的相对侧，可同样利用升降板进行承载盘的进料输送，承接由人力或移行机构所搬运的待检验的承载盘。

上述特定数量的单点式光束的量测点可为8个量测点，亦即，承载盘在滑轨单元输送的过程中，经过二高度计的期间，采用分段推移的方式，让二高度计左右分别照设4个点。由此，可针对承载盘的每一部分进行检验，避免产生未检验到的局部翘曲区域。此外，可依据不同尺寸的承载盘，改变量测点的个数，其并不以8个量测点为限。

再者，本发明的另一承载盘检验装置，包括有一滑轨单元、一高度计及一控制单元。其中，滑轨单元部分如前所述，用以建构出一可持续推送每一承载盘的输送结构。而在高度计部分，是采用设置于一支撑架上的单一高度计，提供一阵列式光束对应该每一承载盘的上表面。控制单元电连接动力源及高度计，以控制每一承载盘的启动时序，使得每一承载盘可被持续照射阵列式光束。通过上述设计，可通过阵列式光束连续性地扫描承载盘的外轮廓，由承载盘的整体外观判断其是否具有高度差，是为另一种运用高度计检测的实施方式。

附图说明

以上概述与接下来的详细说明皆为示范性质是为了进一步说明本发明的申请专利范围。而有关本发明的其他目的与优点，将在后续的说明与附图中加以阐述，其中：

图1是本发明第一实施例的承载盘检验装置的立体图。

图2是本发明第一实施例的承载盘检验装置的局部立体图。

图3是本发明第一实施例的承载盘检验装置的侧视图。

图4是本发明第一实施例的承载盘检验装置的俯视图。

图5是本发明第一实施例的承载盘量测点的示意图。

图6是本发明第一实施例的气帘杆的局部放大图。

图7是本发明第二实施例的承载盘检验装置的侧视图。

图8是本发明第二实施例的承载盘量测点的示意图。

图9是已知厚薄规的检验方式的示意图。

图10是已知通道式检测器的检验方式的示意图。

图11是已知承载盘检验装置的检验方式的示意图。

具体实施方式

请参阅图1，是本发明第一实施例的承载盘检验装置的立体图。图中出示一种承载盘检验装置1，设置于一工作桌81上，该承载盘检验装置1链接一人机界面82，可供用户设定参数及使用操作。此外，在本实施例中，另设有一紧急开关83及一异常警示灯84，可供监控承载盘检验装置1的使用状态，一旦出现异常状况，使用者可通过紧急开关83关闭本机台。

接着，请参阅图2至图4，是本发明第一实施例的承载盘检验装置的局部立体图、侧视图以及俯视图。如图所示，本发明的承载盘检验装置1主要包括有一滑轨单元2、二高度计3、一控制单元4、一气帘杆6、三升降板71及二组挂杆72。滑轨单元2包括有一轨道21及一经由一皮带22带动的横移推杆23，该皮带22是连接一动力源24，而本实施例所使用的动力源24是为一马达。此外，多个承载盘5是依序放置于轨道21上，并受横移推杆23的线性推移，用以建构出一可持续推送每一承载盘5的输送结构。

关于轨道中各区域的细部结构，请一并参阅图1。三升降板71是设置于轨道21两侧的容置空间内，用以提供一上升或下降的顶推力，顺利抬升或卸下承载盘5。其中，每一升降板71是对应一特定区域，包括有：一进料区700、一良品储放区701及一不良品储放区702。而良品储放区701及不良品储放区702分别在轨道21上设有一组挂杆72，其用以承接并堆栈通过检验的承载盘5及未通过检验的承载盘5。此外，在本实施例中， 每一挂杆72接近顶端的部分设有一满料检知器721(参阅图1)，当集中收集至一定数量后，满料检知器721将提供一信息，提醒用户须将检测后的承载盘5搬离承载盘检验装置1。

另外，本发明的二高度计3是滑设于一支撑架31的一滑杆32上，在检测前可对位微调其水平位置并锁附固定后，才会进行后续的检验过程，以利精准量测承载盘5两侧端缘的高度值。其中，本实施例的二高度计3是采用单点式光束p，并依尺寸或精度需求分段推移承载盘5，使其两侧端缘分别对应高度计3所照射出的光束。

请参阅图5，是本发明第一实施例的承载盘量测点的示意图。在本实施例中，二高度计3对应每一承载盘5是设定有8个量测点，其依尺寸或精度需可任意调整量测点的多寡，而不以8个量测点为限。图中箭头表示承载盘5在滑轨单元2的输送方向，而承载盘5是以分段推移的方式由下方经过二高度计3的单点式光束p，并于左右两端缘分别检测4个量测点完成单一承载盘5的高度检验作业。

请回到图2至图4，本发明的控制单元4是电连接动力源24、二高度计3以及升降板71，且前述承载盘5的滑动方式、高度计3的量测点控制以及升降板71的位置皆由控制单元4来进行控制调整，有效掌握每一承载盘5的启动时序。此外，请一并参阅图6，是本发明第一实施例的气帘杆的局部放大图，当承载盘5完成变形量检验后，会经过一开设多个通气孔61的气帘杆6，该气帘杆6固设于一支撑架31上并连通一压缩气体供应装置(图未示)。由此，通过上述通气孔61喷出压缩气体，用以除去承载盘5上的微尘，以便能让操作者毋须再依靠人力使用气枪清洁承载盘5。再者，当承载盘5完成清洁作业后，控制单元4会依据高度计3所量测的高度差(高度计所量测的高度扣除承载盘的原厚度)是否在一特定阈值内作为判断基准，在本实施例中，所述特定阈值是为0.76毫米。若是，则该承载盘5通过检验，将被输送至良品储放区701；若否，则该承载盘5未通过检验，将被输送至不良品储放区702。

通过上述设计，通过自动化装置检验承载盘是否已产生翘曲或变形的情况，大幅减少人力的耗费并提升工作效率，同时避免在各机台中误用过度变形的承载盘，造成半导体元件翻覆、弹出或破损，有效减少机台出现 问题的机率，保持原有产能。

请参阅图7及图8，是本发明第二实施例的承载盘检验装置的侧视图及承载盘量测点的示意图。如图7所示，在本实施例中，承载盘检验装置10包括有一滑轨单元2、一高度计30及一控制单元4。其中，滑轨单元2部分如前所述，用以建构出一可持续推送每一承载盘5的输送结构。而在高度计30部分，是仅采用单一高度计，滑设于一支撑架31的一滑杆32上，在检测前可对位微调其水平位置并锁附固定后，才会进行后续的检验过程，以利精准量测承载盘5外轮廓的高度值。此外，本实施例的高度计30是采用阵列式光束r，使得横移推杆23可在定速下推移承载盘5，让阵列式光束r可连续地扫描承载盘5的外轮廓，并由整体外观判断其是否具有高度差。如图8所示，在本实施例中，高度计30的阵列式光束r是由承载盘5的端缘处开始进行检验，涵盖整体承载盘5的外轮廓，而量测精度则由横移推杆23的推移速度来决定。其中，图中箭头表示承载盘5在滑轨单元2的输送方向。

同样地，本实施例的控制单元4会依据高度计30所量测的各点的高度差(高度计30所量测的高度扣除承载盘5的原厚度)是否每一点皆在一特定闽值内作为判断基准，在本实施例中，所述特定闽值是为0.76毫米。若是，则该承载盘5通过检验，将被输送至良品储放区701；若否，则该承载盘5未通过检验，将被输送至不良品储放区702。

上述实施例仅是为了方便说明而举例而已，本发明所主张的权利范围自应以权利要求范围所述为准，而非仅限于上述实施例。