本发明属于工业润滑油技术领域，涉及一种回转窑高温轮带剂及其制备方法。
背景技术：
回转窑是水泥厂生产的关键设备。回转窑通过齿轮转动，中间有三组托轮和轮带构成的支撑，做回转运动。垫板是位于回转窑体和轮带之间的弧形的间隙排列的条状支撑，它起着冷却筒体和轮带、传递扭矩和便于安装轮带的作用。
回转窑轮带起支撑窑体的作用，轮带与窑体之间存在一定的间隙，在回转窑运转过程中轮带与窑体发生相对运动，形成滑动摩擦副。因此轮带内表面与其相对应位置的窑体垫板之间的润滑就成为必须给于足够的关注。如果该区域润滑不足或是润滑不当会造成垫板的加速磨损，影响窑体运行的平稳性，从而导致窑砖的稳固性减小甚至脱落而造成停窑，减产。
回转窑轮带在270℃-370℃高温和数十吨重负荷下长期连续工作，工况条件十分苛刻。普通润滑剂无法满足窑轮带内表面与垫铁之间的润滑要求。
技术实现要素：
针对现有技术存在的问题，本发明提供一种回转窑高温轮带剂及其制备方法，以石墨为固体添加剂，通过合理的基础油、添加剂、分散剂配比及制备工艺，得到适合在270℃-370℃苛刻工况条件下使用的回转窑高温轮带剂。
本发明回转窑高温轮带剂按照重量百分比，包括0.5％-45％固体添加剂、70％～90％基础油、3％～5％清净分散剂、0.1％～4％粘度指数改进剂、0.5％～1.5％抗氧剂和2％～3％极压抗磨剂。
其中所述的固体添加剂是鳞片状石墨粉，99.5％以上的石墨粒径小于10um，其余小于15um。
所述的基础油为合成基础油，选用偏苯三酸酯、多元醇酯及pao中的一种或者几种混合物。
所述的清净分散剂选用低碱值合成磺酸钙、中碱值合成磺酸钙、高碱值合成磺酸钙、烷基水杨酸钙、聚异丁烯双儿酰亚胺、硼化聚异丁烯双儿酰亚胺、span80、油酸中的一种或者几种的混合物。
所述的粘度指数改进剂选用聚异丁烯、高粘度复酯及ocpa(聚乙丙胶)中的一种或者几种混合物。
所述的抗氧剂选用胺类抗氧剂l57、t531及酚类抗氧剂t501中的一种或者几种的混合物。
所述的极压抗磨剂选用aw316、t321中的一种或者几种的混合物。
本发明的回转窑高温轮带剂得制备方法按照以下步骤进行：
1)将基础油与清净分散剂、粘度指数改进剂、抗氧剂和极压抗磨剂加入带有搅拌的反应釜中，在70-80℃条件下将添加剂充分溶解在基础油中；
2)将石墨粉加入到反应釜中，将石墨与基础油充分搅拌均匀；
3)将充分搅拌均匀的胶质混合物，加入到30-100mpa的高压均质机中进行均质化处理两次，得到回转窑高温轮带剂产品。
与现有技术相比，本发明的特点和有益效果是：
由于回转窑轮带的运行工况是在270℃-370℃的苛刻条件下，普通的润滑油脂无法在此高温工况下长期起到润滑作用，因此必须要选择合适的固体添加剂进行润滑。
由于石墨具有六方晶体结构，在层状结构内部，相邻的碳原子以共价键牢固结合，不易破坏；层与层之间靠微弱的范德华力结合，在遭受剪切力作用时，层与层之间易于滑动，起到润滑作用；同时由于石墨具有非常稳定的性质，在600℃高温以上仍能起到良好的润滑作用，因此非常适合作为轮带剂的高温润滑剂。
但由于石墨与润滑油的比重相差较大，因此本发明采用合理的基础油、添加剂、分散剂及选择合理的制备工艺最为关键，得到了储存稳定性及极压性能都优异的回转窑高温轮带剂产品。
具体实施方式
为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明进行描述，这些描述只是为了进一步说明本发明的特征和优点，而不是对本发明权利要求的限制。
实施例1
本发明回转窑高温轮带剂按照重量百分比，包括10％固体添加剂、80％基础油、4％清净分散剂、2％粘度指数改进剂、1％抗氧剂和3％极压抗磨剂。
其中所述的固体添加剂是鳞片状石墨粉，99.5％以上的石墨粒径小于10um，其余小于15um。
所述的基础油为合成基础油，选用偏苯三酸酯。
所述的清净分散剂是清净分散剂t106及分散剂span80。
所述的粘度指数改进剂选用聚异丁烯。
所述的抗氧剂选用胺类抗氧剂l57。
所述的极压抗磨剂选用aw316、t321。
本发明的回转窑高温轮带剂的制备方法按照以下步骤进行：
将基础油与清净分散剂、粘度指数改进剂、抗氧剂和挤压抗磨剂加入带有搅拌的反应釜中，在70℃条件下将添加剂充分溶解在基础油中；
将石墨粉加入到反应釜中，将石墨与基础油充分搅拌均匀；
将充分搅拌均匀的胶质混合物，加入到30mpa的高压均质机中进行均质化处理两次，得到回转窑高温轮带剂产品。
实施例2
将实例1中制备的高温轮带剂与市场中应用较为广泛某轮带剂产品进行性能测试，主要对比其四球烧结负荷pd及其储存稳定性，测的两者的数值如表1所示。
表1两种材料的性能对比
由表1数据可以看出，本发明实施例1的储存稳定性及极压性能均明显优于市场中同类产品。
以上描述了本发明的实施方式，但是专利所有者可以在所附权利要求的范围之内做出各种变形或修改，只要不超过本发明的权利要求所描述的保护范围，都应当在本发明的保护范围之内。