专利名称：气体供给系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种气体供给系统。
背景技术：
在半导体的制造过程中，使用例如在基板上形成硅等的薄膜的CVD (化学气相沉积)装置。在CVD装置中，为了使用气体(例如，氟气)进行基板的清洗等的处理，在CVD装置上连接产生气体的气体产生装置。例如，在专利文献I所示的半导体制造设备中，多个氟气产生装置、多个CVD装置、 以及储藏容器经由配管而相互连接。具体而言，从多个氟气产生装置的各自延伸的多个配管相互合流而与储藏容器连接。此外，从储藏容器延伸的一个的配管分支为多个配管而分别与多个CVD装置连接。此时，在多个氟气产生装置中产生的氟气通过公共的配管而暂时储藏在储藏容器中。然后，储藏在储藏容器中的氟气通过公共的配管而被供给到各CVD装置。在上述半导体制造设备中，通过设置储藏容器，在一个氟气产生装置产生问题时， 能够令工作的其他的氟气产生装置不停止而进行一个的氟气产生装置的修理。专利文献I日本特开2007- 211261号公报
一般而言，如果氟气产生装置内的部件或者配管老化，则有时在氟气产生装置内或者配管内铁、镍或者铜等的金属会露出。此时，由于在氟气产生装置内或者配管内氟气与铁、 镍以及铜等的金属反应，有时会生成金属氟化物。该金属氟化物作为气体或者颗粒而混入到氟气中。如果将含有超过允许量的量的金属氟化物的氟气送至CVD装置，则在CVD装置内产生基板的金属污染。此时，需要停止氟气产生装置的动作而进行氟气产生装置以及CVD 装置的维护。但是，在上述的半导体制造设备中，在多个氟气产生装置中产生的氟气通过公共的配管而被供给到多个CVD装置。因而，当在某个CVD装置内产生金属污染时，无法确定该金属污染是由多个氟气产生装置中的哪个氟气产生装置引起的金属污染。因而，需要包含成为金属污染的原因的氟气产生装置而将全部的氟气产生装置的动作停止而进行全部的氟气产生装置的维护。其结果，维护的效率大幅地降低。此外，由于令全部的氟气产生装置的动作停止，所以需要令全部的CVD装置中的基板的处理也停止。因而，CVD装置的动作效率也降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种气体供给系统，容易确定不良所产生的部位从而能够提高异常产生时的维护效率并且防止使用气体的处理的效率降低。(I)根据本发明的一方案的气体供给系统，是对进行使用气体的处理的多个处理装置供给气体的气体供给系统，其中，具有产生气体的多个第一气体产生装置；多个第一配管，分别与多个第一气体产生装置连接，用于将由多个第一气体产生装置产生的气体供给至多个处理装置；多个第一开闭部，分别设置于多个第一配管，用于开闭流路；第二配管，连接于各第一配管与其他的第一配管之间；第二开闭部，设置于第二配管，用于开闭流路。在该气体供给系统中，在多个第一开闭部为开放状态且第二开闭部为关闭状态时，在多个第一气体产生装置中产生的气体通过多个第一配管而分别被供给至多个处理装置。在该状态下，在由于多个第一气体产生装置的某个的异常而在某个处理装置中的处理中产生不良时，能够容易地确定在哪个第一气体产生装置中产生了异常。因而，能够容易地确定应该进行维护的第一气体产生装置。此时，令与产生了异常的第一气体产生装置对应的第一开闭部为关闭状态，并且令第二开闭部为开放状态，从而能够停止从产生了异常的第一气体产生装置向产生了不良的处理装置的气体的供给，并且能够从正常的其他的第一气体产生装置通过第二配管而向产生了不良的处理装置供给气体。因而，能够一边进行产生了异常的第一气体产生装置的维护，一边在由于第一气体产生装置的异常而产生了不良的处理装置中继续进行处理。其结果，通过容易地确定产生了不良的部位，能够提高异常产生时的第一气体产生装置的维护效率，并且能够防止多个处理装置中的使用气体的处理的效率降低。(2)气体供给系统也可以进而具有控制多个第一开闭部以及第二开闭部的开闭的控制部，控制部构成为，在令多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令第二开闭部为开放状态，以便从与其他的第一配管连接的第一气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。此时，借助控制部，在令多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令第二开闭部为开放状态，以便从与其他的第一配管连接的第一气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。因而，从产生了异常的第一气体产生装置向处理装置的气体的供给停止，并且从正常的其他的第一气体产生装置向该处理装置供给气体。(3)控制部也可以构成为，在令设置于一个第一配管的第一开闭部为关闭状态时， 在第二开闭部的上游侧的压力高于下游侧的压力时，令第二开闭部为开放状态。此时，能够可靠地防止从产生了由第一气体产生装置的异常而引起的不良的处理装置向正常的第一气体产生装置的气体的逆流。(4)根据本发明的其他方案的气体供给系统是对进行使用气体的处理的多个处理装置供给气体的气体产生系统，其中，具有产生气体的多个第一气体产生装置；多个第一配管，分别与多个第一气体产生装置连接，用于将由多个第一气体产生装置产生的气体供给至多个处理装置；多个第一开闭部，分别设置于多个第一配管，用于开闭流路；第二气体产生装置，公共地设置于多个处理装置，产生气体；多个第三配管，用于将由第二气体产生装置产生的气体分别供给至多个处理装置；多个第三开闭部，分别设置于多个第三配管，用于开闭流路。在该气体供给系统中，在多个第一开闭部为开放状态且第三开放部为关闭状态时，在多个第一气体产生装置中产生的气体通过多个第一配管而分别被供给至多个处理装置。在该状态下，在由于多个第一气体产生装置的某个的异常而在某个处理装置的处理中产生不良时，能够容易地确定是在哪个第一气体产生装置中产生了异常。
此时，通过令与产生了异常的第一气体产生装置对应的第一开闭部为关闭状态且令第三开闭部为开放状态，能够停止从产生了异常的第一气体产生装置向产生了不良的处理装置的气体的供给，并且，能够从第二气体产生装置通过第三配管向产生了不良的处理装置供给气体。因而，能够一边进行产生了异常的第一气体产生装置的维护，一边在产生由该第一气体产生装置的异常引起的不良的处理装置中继续进行处理。其结果，通过令产生了不良的部位的确定变得容易，能够提高异常产生时的第一气体产生装置的维护效率，并且能够防止在多个处理装置中的使用气体的处理的效率降低。(5)气体供给系统也可以进而具有控制多个第一开闭部以及多个第三开闭部的开闭动作的控制部，控制部构成为，在令多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令与一个第一配管对应的第三开闭部为开放状态，以便从第二气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。此时，借助控制部，在令多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令与一个第一配管对应的第三开闭部为开放状态，以便从第二气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。因而，能够停止从产生了异常的第一气体产生装置向处理装置的气体的供给，并且从第二气体产生装置向该处理装置供给气体。(6)根据本发明另一方案的气体供给系统，是向进行使用气体的处理的多个处理装置供给气体的气体产生系统，其中，具有多个第一气体产生装置，产生气体；多个第一配管，分别与多个第一气体产生装置连接，用于将由多个第一气体产生装置产生的气体供给至多个处理装置；多个第一开闭部，分别设置于多个第一配管，用于开闭流路；第三气体产生装置，公共地设置于多个处理装置，产生气体；第四配管，与第三气体产生装置连接； 多个第五配管，分别连接在第四配管与多个第一开闭部的下游侧的多个第一配管的部分之间；多个第四开闭部，分别设置于多个第五配管，用于开闭流路。在该气体供给系统中，在多个第一开闭部为开放状态且第四开闭部为关闭状态时，在多个第一气体产生装置中产生的气体通过多个第一配管而分别被供给至多个处理装置。在该状态下，在由于多个第一气体产生装置的某个的异常而在某个处理装置的处理中产生不良时，能够容易地确定在哪个第一气体产生装置中产生了异常。因而，能够容易地确定应该进行维护的第一气体产生装置。此时，通过令与产生了异常的第一气体产生装置对应的第一开闭部为关闭状态并且令第四开闭部为开放状态，能够停止从产生了异常的第一气体产生装置向产生了不良的处理装置的气体的供给，并且能够从第三气体产生装置通过第四以及第五配管向产生了不良的处理装置供给气体。因而，能够一边进行产生了异常的第一气体产生装置的维护，一边在产生了由该第一气体产生装置的异常引起的不良的处理装置中继续进行处理。其结果，能够容易地确定产生了不良的部位，从而能够提高异常产生时的第一气体产生装置的维护效率，并且能够防止在多个处理装置中的使用气体的处理的效率降低。(7)气体供给系统也可以进而具有控制多个第一开放部以及多个第四开放部的开闭动作的控制部，控制部构成为，在令多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令与一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态，以便从第三气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。
此时，借助控制部，在令多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令与一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态，以便从第三气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。因而，能够停止从产生了异常的第一气体产生装置向处理装置的气体的供给，并且能够从第三气体产生装置向该处理装置供给气体。(8)控制部也可以构成为，在令设置于一个第一配管的第一开闭部为关闭状态时， 在与一个第一配管对应的第四开闭部的上游侧的压力高于下游侧的压力时，令与一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态。此时，能够可靠地防止从产生了由第一气体产生装置的异常引起的不良的处理装置向第三气体产生装置的气体的逆流。(9)控制部也可以构成为，在令与一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态时， 在第四配管内的压力低于预先设定的值时，令与其他的第一配管对应的第四开闭部为开放状态，以便从与其他的第一配管连接的第一气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。此时，借助控制部，在令与多个第一配管中的一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态时，在第四配管内的压力低于预先设定的值时，令与其他的第一配管对应的第四开闭部为开放状态，以便从与其他的第一配管连接的第一气体产生装置向与一个第一配管连接的处理装置供给气体。由此，在从第三气体产生装置向产生了不良的处理装置的气体的供给能力不足时，能够从其他的第一气体产生装置向该处理装置自动地供给气体。其结果，能够借助其他的第一气体产生装置对第三气体产生装置的供给能力进行补充。(10)控制部也可以构成为，在令与一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态时，在与其他的第一配管对应的第四开闭部的上游侧的压力高于下游侧的压力时，令与其他的第一配管对应第四开闭部为开放状态。此时，能够可靠地防止从产生了由第一气体产生装置的异常引起的不良的处理装置向正常的第一气体产生装置的气体的逆流。根据本发明，能够容易地确定应该进行维护的第一气体产生装置。此外，能够一边进行产生了异常的第一气体产生装置的维护，一边在产生了由该第一气体产生装置的异常引起的不良的处理装置中继续进行处理。其结果，能够容易地确定产生了不良的部位，从而能够提高异常产生时的第一气体产生装置的维护效率，并且能够防止多个处理装置中的使用气体的处理的效率降低。
图I是表示第一实施方式的氟气供给系统构成的示意图。图2是表示第一实施方式的氟气供给系统的控制系统的一部分的框图。图3是基于第一实施方式的控制装置的供给路径切换处理的流程图。图4是表示第二实施方式的氟气供给系统的构成的示意图。图5是表示第二实施方式的氟气供给系统的控制系统的一部分的框图。图6是基于第二实施方式的控制装置的供给路径切换处理的流程图。图7是表示第三实施方式的氟气供给系统的构成的示意图。图8是表示第三实施方式的氟气供给系统的控制系统的一部分的框图。
图9是基于第三实施方式的控制装置的供给路径切换处理的流程图。
具体实施例方式以下，参照
本发明的一实施方式的气体供给系统。在以下的实施方式中， 作为气体供给系统的一例说明产生氟气的氟气供给系统。(I)第一实施方式
(I — O氟气供给系统的构成
图I是表示第一实施方式的氟气供给系统100的构成的示意图。如图I所示，氟气供给系统100具有多个氟气供给系统IOOa以及控制装置90。各氟气供给系统IOOa与含有多个(本例中8个)CVD (化学气相沉积)装置的CVD装置组IOOb连接。各氟气供给系统IOOa含有氟气产生装置50。氟气产生装置50具有氟气产生部I 以及缓冲容器2。氟气产生部I和缓冲容器2经由配管3连接。各氟气产生部I具有形成有由例如KF-HF类混合熔盐构成的电解浴的电解槽。通过在电解槽内进行HF (氟化氢)的电解而产生氟气。在氟气产生部I中产生的氟气通过配管3而被送至缓冲容器2而被储藏。另外，也可以在配管3中夹设开闭阀。此时，能够控制从氟气产生部I向缓冲容器2的氟气的供给时机，并且能够防止从缓冲容器2向氟气产生部I的氟气的逆流。在各氟气产生装置50中安装有异常检测传感器11。异常检测传感器11检测氟气产生装置50的异常。作为氟气产生装置50的异常有例如向外部的氟气的泄露或者电气系统的异常等。各氟气产生装置50的缓冲容器2与配管4的一端部连接。在配管4上夹设开闭阀 3b。此外，在开闭阀3b的一方侧以及另一方侧的配管4的部分分别安装有压力计5a、5b。配管4的另一端部分支为多个(本例中8个)配管7。各配管7与CVD装置组IOOb 的CVD装置8连接。相邻的氟气供给系统IOOa的配管4利用配管4a而相互连接。由此，多个氟气供给系统IOOa经由配管4、4a而相互连接。在各配管4a上夹设开闭阀3c。此外，在开闭阀 3c的一方侧以及另一方侧的配管4a的部分分别安装压力计5c、5d。在各CVD装置8中，使用氟气而进行基板的处理。在各CVD装置8中，安装有异常检测传感器10。异常检测传感器10检测CVD装置8内的基板的金属污染的产生。控制装置90含有CPU (中央运算处理装置)以及存储器或者微型计算机，控制氟气供给系统100的各构成要素的动作。在本实施方式中，在产生金属污染时，利用控制装置 90切换氟气的供给路径。控制装置90的控制动作的详情在之后描述。在此，说明CVD装置8中的金属污染的产生原因。由于氟气产生装置50内的部件或者配管4、4a的老化等，有时在氟气产生装置50内或者配管4、4a内金属会露出。在氟气产生装置50内或者各配管4、4a内，氟气与金属反应,从而生成金属氟化物。此时，金属氟化物与氟气一起被供给至CVD装置8。由此，在CVD装置8中，含有金属氟化物的氟气被供给至基板，产生基板的金属污染。这样一来，由于氟气供给系统IOOa的异常而在CVD装置 8中产生金属污染。因而，在产生金属污染时，需要进行氟气产生装置50内以及各配管4、 4a的维护。在此，维护包含清扫或者部件更换等。
(1 — 2)氟气供给系统的控制系统
图2是表示图I的氟气供给系统100的控制系统的一部分的框图。如图2所示，向控制装置90提供压力计5a 5d以及异常检测传感器10、11的输出信号。控制装置90基于从压力计5a 5d以及异常检测传感器10、11提供的输出信号而控制开闭阀3b、3c。(I — 3)开闭阀的控制
本实施方式中在氟气供给系统100的动作时，利用控制装置90进行以下的供给路径切换处理。由此，在氟气供给系统IOOa正常时和氟气供给系统IOOa中产生了异常时对氟气的供给路径进行切换。全部的氟气供给系统IOOa正常地动作时，全部的开闭阀3b打开并且，全部的开闭阀3c关闭。由此，由全部的氟气供给系统IOOa的氟气产生装置50产生的氟气通过配管4、 7而被供给至多个CVD装置8。另外，在各氟气供给系统IOOa中，在开始从氟气产生装置50向多个CVD装置8的氟气的供给时，在压力计5a的测量值高于压力计5b的测量值的状态下，开闭阀3b打开。由此，能够防止氟气向氟气产生装置50逆流。另一方面，当在某个氟气供给系统IOOa中产生了异常时，将对应的开闭阀3b选择性地关闭，并且将对应的开闭阀3c选择性地打开。由此，能够将由正常的氟气供给系统 IOOa的氟气产生装置50产生的氟气通过配管4a而向与异常的氟气供给系统IOOa连接的多个CVD装置8进行供给。以下，详细说明基于控制装置90的供给路径切换处理。图3是基于第一实施方式的氟气供给系统100的控制装置90的供给路径切换处理的流程图。在本例中，作为初始状态而全部的氟气供给系统IOOa正常地动作。即，全部的开闭阀3b打开并且全部的开闭阀 3c关闭。此外，在以下的说明中，将正常的氟气供给系统IOOa称为正常供给系统100a，将产生了异常的氟气供给系统IOOa称为异常供给系统100a。如图3所示，首先，控制装置90判定是否由某个异常检测传感器10在CVD装置8 内检测到金属污染(步骤SI)。在没有检测到金属污染时，控制装置90判定是否由某个异常检测传感器11检测到了氟气产生装置50的异常(步骤S2)。在没有检测到氟气产生装置50的异常时，控制装置90返回到步骤SI的处理。当在步骤SI中检测到金属污染时，或者在步骤S2中检测到氟气产生装置50的异常时，控制装置90关闭产生了异常的氟气供给系统IOOa(异常供给系统100a)的开闭阀3b (步骤S3)。由此，停止从异常供给系统IOOa氟气产生装置50向CVD装置8的氟气的供给。接着，控制装置90选择与异常供给系统IOOa相邻的两个氟气供给系统IOOa中的一方(步骤S4)。在与异常供给系统IOOa相邻的两个氟气供给系统IOOa都正常地动作时， 控制装置90例如基于预先存储的优先顺序而选择一方的氟气供给系统100a。在仅一方的氟气供给系统IOOa正常地动作时，控制装置90选择正常地动作的氟气供给系统IOOa (正常供给系统100a)。接着，控制装置90对在异常供给系统IOOa和步骤S4中选择的正常供给系统IOOa 之间的配管4a上设置的压力计5c、5d的测量值进行比较。而且，控制装置90判定压力计 5c、5d中配置在正常供给系统IOOa侧的压力计的测量值(以下称为正常侧压力值P3)是
9否高于配置于异常供给系统IOOa侧的压力计的测量值(以下称为异常侧压力值P4)(步骤 S5)。例如，图I中，在上方所示的氟气供给系统IOOa中产生异常并且下方所示的氟气供给系统IOOa正常地动作时，控制装置90判定压力计5d的测量值是否高于压力计5c的
测量值。此时，如上所述，在异常供给系统IOOa中，停止从氟气产生装置50的氟气的供给。 因此，异常侧压力值P4慢慢地降低，正常侧压力值P3变得高于异常侧压力值P4。正常侧压力值P3为异常侧压力值P4以下时，控制装置90待机直到正常侧压力值 P3变得高于异常侧压力值P4。如果正常侧压力值P3变得高于异常侧压力值P4，则控制装置90将在异常供给系统IOOa与步骤S4中选择的正常供给系统IOOb之间的配管4a上设置的开闭阀3c打开(步骤S6)。此时，从正常供给系统IOOa通过配管4a向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD 装置8供给氟气。此外，在正常侧压力值P3高于异常侧压力值P4的状态下开闭阀3c被打开，所以能够防止从异常供给系统IOOa向正常供给系统IOOa的氟气的逆流。由此，能够防止含有金属氟化物的氟气进入正常供给系统100a。此后，控制装置90返回到步骤SI的处理。这样一来，在产生由某个氟气供给系统IOOa引起的金属污染时，以及在某个氟气供给系统IOOa中产生氟气产生装置50的异常时，该异常供给系统IOOa的开闭阀3b被关闭并且与该异常供给系统IOOa连接配管4a的开闭阀3c被打开。由此，停止由异常供给系统IOOa产生的氟气的供给，并且，由正常供给系统IOOa 的氟气产生装置50产生的氟气被供给至与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8。在该状态下进行异常供给系统IOOa的氟气产生装置50的维护。异常供给系统 IOOa如果恢复到了正常的状态，则在步骤S5中被打开的的开闭阀3c被关闭，在步骤S3中被关闭的开闭阀3b被打开。此时，在压力计5a的测量值高于压力计5b的测量值的状态下， 开闭阀3b被打开。由此，能够防止氟气向氟气产生装置50逆流。(I —4)效果
在第一实施方式的氟气供给系统100中，在全部的氟气供给系统IOOa正常时，从一个氟气产生装置50向多个CVD装置8分别供给氟气。此时，当在某个CVD装置8中产生了金属污染时，能够容易地确定应该进行维护的异常供给系统100a。因而，能够在令正常供给系统IOOa的氟气产生装置50进行动作的状态下高效地进行异常供给系统IOOa的氟气产生装置50的维护。此外，当在某个氟气供给系统IOOa中产生了异常时，停止从该异常供给系统IOOa 的氟气产生装置50向CVD装置8的氟气的供给，并且将由正常供给系统IOOa的氟气产生装置50产生的氟气供给至与异常供给系统IOOa连接的CVD装置8。因此，能够一边向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8持续地供给氟气， 一边进行异常供给系统IOOa的维护。其结果，能够不中断与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8中的基板的处理而令异常供给系统IOOa恢复为正常的状态。此外，即便在由于异常的产生而氟气的供给路径被切换的状态下，也能够向各CVD 装置8从一个氟气产生装置50供给氟气。由此，该状态下进而即便某个CVD装置8中产生了金属污染时，也能够容易地确定应该进行维护的异常供给系统100a。因而，能够高效地进行异常供给系统IOOa的维护。(1 — 5)其他的控制例
在图3的例中，当在某个氟气供给系统IOOa中产生了异常时，从与该异常供给系统 IOOa相邻的两个氟气供给系统IOOa中一方的氟气供给系统IOOa向异常供给系统IOOa供给氟气。此时，如果与异常供给系统IOOa相邻的两个氟气供给系统IOOa都正常，则也可以从该两方的正常供给系统IOOa向异常供给系统IOOa供给氟气。由此，能够向与异常供给系统IOOa连接的CVD装置8供给足够的氟气。(2)第二实施方式
对于本发明的第二实施方式的氟气供给系统100，说明与上述第一实施方式的氟气供给系统100不同之处。(2 - I)氟气供给系统的构成
图4是表示第二实施方式的氟气供给系统100的构成的示意图。如图4所示，第二实施方式的氟气供给系统100具有备用的氟气产生装置40。氟气产生装置40具有与氟气产生装置50相同的构成。另外，氟气产生装置40也可以不具有缓冲容器2。氟气产生装置40与配管41连接。配管41分支为分别与多个氟气供给系统IOOa 对应的多个配管42。在配管42上夹设开闭阀42a。各配管42与分别与各氟气供给系统 IOOa的多个CVD装置8对应的多个配管7连接。(2 - 2)氟气供给系统的控制系统
图5是表示图4的氟气供给系统100的控制系统的一部分的框图。如图5所示，向控制装置90提供来自压力计5a 5d以及异常检测传感器10、11的输出信号。控制装置90 基于从压力计5a 5d以及异常检测传感器10、11提供的输出信号而控制开闭阀3b、3c、 42a。(2 — 3)开闭阀的控制
在第二实施方式中，在全部的氟供给系统IOOa正常地动作时，全部的开闭阀3b打开并且全部的开闭阀3c、42a关闭。由此，由全部的氟气供给系统IOOa的氟气产生装置50产生的氟气通过配管4、7而供给至多个CVD装置8。另一方面，当在某个氟气供给系统IOOa中产生了异常时，对应的开闭阀3b选择性地被关闭，并且对应的开闭阀42a选择性地被打开。由此，由备用的氟气产生装置40产生的氟气通过配管41、42、7而被供给至与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8。图6是基于第二实施方式的氟气供给系统100的控制装置90的供给路径切换处理的流程图。另外，在本实施方式中中，作为初始状态而全部的氟气供给系统IOOa都正常地动作，全部的开闭阀3b被打开并且全部的开闭阀3c、42a被关闭。图6的步骤SI S3的处理与图3的步骤SI S3的处理相同。控制装置90在步骤S3中关闭异常供给系统IOOa的开闭阀3b后，打开与异常供给系统IOOa对应的开闭阀42a (步骤S4a)。此时，从氟气产生装置40通过配管41、42、7向与异常供给系统IOOa连接的多个 CVD装置8供给氟气。此后，控制装置90返回到步骤I的处理。这样一来，在由于某个氟气供给系统IOOa而产生了金属污染时，以及在某个氟气供给系统IOOa中产生了氟气产生装置50的异常时，该异常供给系统IOOa的开闭阀3b被关闭并且连接于与该异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8的配管42的开闭阀42a被打开。由此，停止由异常供给系统IOOa的氟气产生装置50产生的氟气的供给，并且将由备用的氟气产生装置40产生的氟气供给至与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8。在该状态下进行异常供给系统IOOa的维护。如果异常供给系统IOOa恢复了正常的状态，则在步骤S4a被打开的开闭阀42a被关闭，在步骤S3中被关闭的开闭阀3b被打开。(2 —4)效果
在第二实施方式的氟气供给系统100中，当在某个氟气供给系统IOOa中产生异常时， 停止从该异常供给系统IOOa的氟气产生装置50向多个CVD装置8的氟气的供给，并且从备用的氟气产生装置40向与该异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给氟气。因此， 能够一边向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8继续供给氟气，一边进行异常供给系统IOOa的维护。其结果，能够不中断与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8中的基板的处理而令异常供给系统IOOa恢复为正常的状态。(2 — 5)其他的控制例
与上述第一实施方式相同，当在某个氟气供给系统IOOa中产生了异常时，也可以通过令对应的开闭阀3c选择性地打开而从正常供给系统IOOa向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给氟气。此时，能够向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给充分的量的氟气。(3)第三实施方式
对于第三实施方式的氟气供给系统100,说明与上述第一实施方式的氟气供给系统 100的不同之处。(3 - I)氟气供给系统的构成
图7是表示第三实施方式的氟气供给系统100的构成的示意图。如图7所示，第三实施方式的氟气供给系统100具有备用的氟气产生装置60。氟气产生装置60具有与氟气产生装置50相同的构成。另外，氟气产生装置60也可以不具有缓冲容器2。氟气产生装置 60与配管65连接。此外，各氟气供给系统IOOa的配管4在压力计5b的下游侧的位置处经由配管61而与配管65连接。在各配管61上夹设开闭阀63。在比与配管61的连接点还靠下游侧的配管4的位置处夹设开闭阀64。在开闭阀64与配管7之间的配管4的部分安装有压力计5j。开闭阀63和配管65之间的配管61的部分处安装有压力计5i。(3 - 2)氟气供给系统的控制系统
图8是表示图7的氟气供给系统100的控制系统的一部分的框图。如图8所示，向控制装置90提供压力计5a、5b、5i、5j以及异常检测传感器10、11的输出信号。控制装置90 基于从压力计5a、5b、5i、5j以及异常检测传感器10、11提供的输出信号而控制开闭阀3b、 63,64ο(3 — 3)开闭阀的控制
在第三实施方式中，在全部的氟气供给系统IOOa正常地动作时，全部的开闭阀3b、64 被打开并且全部的开闭阀63被关闭。由此，由全部的氟气供给系统IOOa的氟气产生装置 50产生的氟气通过配管4、7而被供给至多个CVD装置8。
另一方面，当在某个氟气供给系统IOOa中产生了异常时，对应的开闭阀3b被选择性地关闭并且对应的开闭阀63被选择性地打开。由此，由氟气产生装置60产生的氟气通过配管65、61、4、7而被供给至与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8。图9是基于第三实施方式的氟气供给系统100的控制装置90的供给路径切换处理的流程图。在本实施方式中，作为初始状态而全部的氟气供给系统IOOa都正常地动作， 全部的开闭阀3b、64被打开并且全部的开闭阀63被关闭。图9的步骤SI、S2的处理与图3的步骤SI、S2的处理相同。当在步骤SI中利用某个异常检测传感器10在CVD装置8内检测到金属污染时，或者在步骤S2中由某个异常检测传感器11检测到氟气产生装置50的异常时，控制装置90关闭异常供给系统IOOa的开闭阀3b(步骤S3b)。由此，停止从异常供给系统IOOa的氟气产生装置50的氟气的供给。接着，控制装置90对设置于异常供给系统IOOa的配管61的压力计5i的测量值 (以下称为备份侧压力值P5)以及设置于异常供给系统IOOa的配管4的压力计5b的测量值(以下称为异常侧压力值P6)进行比较。然后，控制装置90判定备份侧压力值P5是否高于异常侧压力值P6 (步骤S4b)。此时，如上所述，在异常供给系统IOOa中，停止自氟气产生装置50的氟气的供给。 因此，异常侧压力值P6慢慢地降低。因而，备份侧压力值P5变得高于异常侧压力值P6。备份侧压力值P5为异常侧压力值P6以下时，控制装置90待机直到备份侧压力值 P5变得高于异常侧压力值P6。如果备份侧压力值P5变得高于异常侧压力值P6，则控制装置90将异常供给系统IOOa的开闭阀63打开(步骤S5b)。此时，从氟气产生装置60通过配管65、61、4、7向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给氟气。此外，在备份侧压力值P5变得高于异常侧压力值P6的状态下，开闭阀63被打开，所以能够防止从异常供给系统IOOa向配管65的氟气的逆流。由此，能够防止含有金属氟化物的氟气进入氟气产生装置60。接着，控制装置90判定配管65内的压力(以下称为供给压力值P7)是否高于预先设定的阈值Tl (步骤S6b)。作为配管65内的压力，可以使用异常供给系统IOOa的压力计 5 j的测量值，也可以使用异常供给系统IOOa的压力计5b的测量值，也可以使用异常供给系统IOOa的压力计5i的测量值。此时，判定是否向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给充分的氟气。在供给压力值P7高于阈值Tl时，控制装置90返回到步骤SI的处理。在供给压力值P7为阈值Tl以下时，控制装置90基于例如预先存储的优先顺序而选择某个正常供给系统IOOa (步骤S7b)。接着，控制装置90对选择的正常供给系统IOOa 的压力计5b的测量值(以下称为正常侧压力值P8)和选择的正常供给系统IOOa的压力计 5i的压力值(以下称为备份侧压力值P9)进行比较。然后，控制装置90判定正常侧压力值 P8是否高于备份侧压力值P9 (步骤S8b)。在正常侧压力值P8为备份侧压力值P9以下时，控制装置90待机直到正常侧压力值P8变得高于备份侧压力值P9。如果正常侧压力值P8变得高于备份侧压力值P9，则控制装置90将在步骤S7b中选择的正常供给系统IOOa的配管61上设置的开闭阀63打开(步骤S9b)。然后，控制装置90返回到步骤I的处理。此时，从正常供给系统IOOa的氟气产生装置50通过配管4、61、65、4、7向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给氟气。此外，在正常侧压力值P8高于备份侧压力值P9的状态下开闭阀63被打开，所以能够防止氟气向正常供给系统IOOa逆流。(3 —4)效果
在第三实施方式的氟气供给系统100中，在某个氟气供给系统IOOa中产生了异常时， 停止从异常供给系统IOOa的氟气产生装置50的氟气的供给，并且从备用的氟气产生装置 60向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给氟气。因此，能够一边向与异常供给系统IOOa连接多个CVD装置8持续地供给氟气，一边进行异常供给系统IOOa的维护。其结果，能够不中断与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8中的基板的处理，令异常供给系统IOOa恢复为正常的状态。另外，当在多个氟气供给系统IOOa中产生异常时，从氟气产生装置60向与多个异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给氟气。由于氟气产生装置60的氟气的产生量一定，所以在从氟气产生装置60向与多个异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给氟气时，有时供给的氟气不足。因此，在本实施方式中，在向CVD装置8供给的氟气不足时，从正常供给系统IOOa 向与异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8进一步供给氟气。由此，即便在多个氟气供给系统IOOa中产生了异常时，也能够向与各异常供给系统IOOa连接的多个CVD装置8供给充分量的氟气。在与一个或者多个氟气供给系统IOOa连接的CVD装置组IOOb中，在不进行使用氟气的处理时，也可以关闭该氟气供给系统IOOa的开闭阀64并且打开该氟气供给系统 IOOa的开闭阀63以及其他的氟气供给系统IOOa的开闭阀63。此时，能够从不需要向CVD装置组IOOb供给氟气的氟气供给系统IOOa通过配管 61、65、61向其他的氟气供给系统IOOa供给氟气。由此，能够从其他的氟气供给系统IOOa 向CVD装置组IOOb供给充分量的氟气。(4)权利要求的各构成要素与实施方式的各部的对应关系
以下，说明权利要求的各构成要素与实施方式的各部的对应关系的例，但是本发明不限定于下述例子。在上述实施方式中，CVD装置8是处理装置的例子，氟气供给系统100是气体供给系统的例子，氟气产生装置50是第一气体产生装置的例子，配管4、7是第一配管的例子，开闭阀3b是第一开闭部的例子，配管4a是第二配管的例子，开闭阀3c是第二开闭部的例子， 控制装置90是控制部的例子，氟气产生装置40是第二气体产生装置的例子，配管41、42是第三配管的例子，开闭阀42a是第三开闭部的例子，氟气产生装置60是第三气体产生装置的例子，配管65是第四配管的例子，配管61是第五配管的例子，开闭阀63是第四开闭部的例子。作为权利要求的各构成要素，也可以使用具有权利要求所记载的构成或者功能的其他的各种要素。本发明能够用于向各种处理装置的气体的供给。
权利要求
1.一种气体供给系统，对进行使用气体的处理的多个处理装置供给气体，具有产生气体的多个第一气体产生装置；多个第一配管，分别与上述多个第一气体产生装置连接，用于将由上述多个第一气体产生装置产生的气体供给至上述多个处理装置；多个第一开闭部，分别设置于上述多个第一配管，用于开闭流路；第二配管，连接于各第一配管与其他的第一配管之间；第二开闭部，设置于上述第二配管，用于开闭流路。
2.根据权利要求I所述的气体供给系统，其特征在于，进而具有控制上述多个第一开闭部以及第二开闭部的开闭的控制部，上述控制部构成为，在令上述多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令上述第二开闭部为开放状态，以便从与其他的第一配管连接的第一气体产生装置向与上述一个第一配管连接的处理装置供给气体。
3.根据权利要求2所述的气体供给系统，其特征在于，上述控制部构成为，在令设置于上述一个第一配管的第一开闭部为关闭状态时，在上述第二开闭部的上游侧的压力高于下游侧的压力时，令上述第二开闭部为开放状态。
4.一种气体供给系统，对进行使用气体的处理的多个处理装置供给气体，具有产生气体的多个第一气体产生装置；多个第一配管，分别与上述多个第一气体产生装置连接，用于将由上述多个第一气体产生装置产生的气体供给至上述多个处理装置；多个第一开闭部，分别设置于上述多个第一配管，用于开闭流路；第二气体产生装置，公共地设置于上述多个处理装置，产生气体；多个第三配管，用于将由上述第二气体产生装置产生的气体分别供给至上述多个处理装置；多个第三开闭部，分别设置于上述多个第三配管，用于开闭流路。
5.根据权利要求4所述的气体供给系统，其特征在于，进而具有控制上述多个第一开闭部以及上述多个第三开闭部的开闭动作的控制部， 上述控制部构成为，在令上述多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令与上述一个第一配管对应的第三开闭部为开放状态，以便从上述第二气体产生装置向与上述一个第一配管连接的处理装置供给气体。
6.一种气体供给系统，对进行使用气体的处理的多个处理装置供给气体，具有多个第一气体产生装置，产生气体；多个第一配管，分别与上述多个第一气体产生装置连接，用于将由上述多个第一气体产生装置产生的气体供给至上述多个处理装置；多个第一开闭部，分别设置于上述多个第一配管，用于开闭流路；第三气体产生装置，公共地设置于上述多个处理装置，产生气体；第四配管，与上述第三气体产生装置连接；多个第五配管，分别连接在上述第四配管与上述多个第一开闭部的下游侧的上述多个第一配管的部分之间；多个第四开闭部，分别设置于上述多个第五配管，用于开闭流路。
7.根据权利要求6所述的气体供给系统，其特征在于，进而具有控制上述多个第一开放部以及上述多个第四开放部的开闭动作的控制部，上述控制部构成为，在令上述多个第一配管中的一个第一配管上设置的第一开闭部为关闭状态时，令与上述一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态，以便从上述第三气体产生装置向与上述一个第一配管连接的处理装置供给气体。
8.根据权利要求7所述的气体供给系统，其特征在于，上述控制部构成为，在令设置于上述一个第一配管的第一开闭部为关闭状态时，在与上述一个第一配管对应的第四开闭部的上游侧的压力高于下游侧的压力时，令与上述一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态。
9.根据权利要求7所述的气体供给系统，其特征在于，上述控制部构成为，在令与上述一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态时，在上述第四配管内的压力低于预先设定的值时，令与其他的第一配管对应的第四开闭部为开放状态，以便从与上述其他的第一配管连接的第一气体产生装置向与上述一个第一配管连接处理装置供给气体。
10.根据权利要求9所述的气体供给系统，其特征在于，上述控制部构成为，在令与上述一个第一配管对应的第四开闭部为开放状态时，在与上述其他的第一配管对应的第四开闭部的上游侧的压力高于下游侧的压力时，令与上述其他的第一配管对应第四开闭部为开放状态。
全文摘要
氟气发生系统具有多个氟气供给系统以及控制装置。各氟气供给系统含有氟气产生装置。各氟气供给系统与CVD装置组连接。氟气产生装置包含氟气产生部以及缓冲容器。配管上夹设开闭阀。配管的另一端部分支为多个配管。各配管与CVD装置连接。相邻氟气供给系统的配管借助配管相互连接。各配管上夹设有开闭阀。
文档编号C25B15/08GK102597311SQ201080039189
公开日2012年7月18日 申请日期2010年9月2日 优先权日2009年9月4日
发明者吉本修 申请人:东洋炭素株式会社