技术总结
本实用新型涉及一种不同高度微纳米柱衬底制备装置，属于微纳加工技术领域。包括盒体、设置于盒体内的水浴锅、间隔设置于水浴锅内的电镀材料和电镀样品，与所述水浴锅中电镀材料和电镀样品分别通过电源正负极连接的恒定电流源模块盒，还包括提升机构和电镀距离调节机构，所述提升机构与电镀样品连接，所述电镀距离调节机构与电镀材料连接。本实用新型可以准确的控制镍板在电镀液中的上升下降速度、电镀时候电镀材料与样品间的距离，方便的调节水浴锅的温度和水浴锅中的电流密度，从而精确的控制模板上面微纳米结构的电镀层尺寸，完成不同高度微米柱衬底的制备。
技术研发人员：张正涛;何荣祥;陈勇;曹一平;张玮莹;文丹
受保护的技术使用者：江汉大学
文档号码：201620472731
技术研发日：2016.05.23
技术公布日：2016.12.07