镂空镭射电镀的制作方法

技术特征：

1.镂空镭射电镀，包括本体（1），其特征在于：所述本体（1）的正面设置有第一内容区（2），所述本体（1）的正面且位于第一内容区（2）的右侧设置有第二内容区（3），所述本体（1）的正面且位于第一内容区（2）的左侧固定连接有第一隔断凸起（4），所述本体（1）的正面且位于第一内容区（2）与第二内容区（3）之间固定连接有第二隔断凸起（5），所述第一内容区（2）的正面固定连接有第一文字凸起（6），所述第二内容区（3）的正面固定连接有第二文字凸起（7），所述本体（1）的背面且对应第一内容区（2）的位置开设有第一凹槽（8），所述本体（1）的背面且对应第二内容区（3）的位置开设有第二凹槽（9），所述本体（1）的背面且对应第一隔断凸起（4）的位置开设有第一隔断凹槽（10），所述本体（1）的背面且对应第二隔断凸起（5）的位置开设有第二隔断凹槽（11），所述本体（1）的背面且对应第一文字凸起（6）的位置开设有第一文字凹槽（12），所述本体（1）的背面且对应第二文字凸起（7）的位置开设有第二文字凹槽（13），所述第一凹槽（8）、第二凹槽（9）、第一隔断凹槽（10）、第二隔断凹槽（11）、第一文字凹槽（12）和第二文字凹槽（13）的内部均设置有电镀层（14）。

2.根据权利要求1所述的镂空镭射电镀，其特征在于：所述本体（1）的背面固定连接有边缘凸起（15）。

3.根据权利要求1所述的镂空镭射电镀，其特征在于：所述本体（1）的顶部固定连接有固定挂件（16）。

4.根据权利要求3所述的镂空镭射电镀，其特征在于：所述固定挂件（16）的背面开设有挂件槽（17）。

5.根据权利要求1或4所述的镂空镭射电镀，其特征在于：所述挂件槽（17）的内部设置有电镀层（14）。