一种纳米银层滚镀装置的制作方法

文档序号:26665469发布日期:2021-09-15 09:10阅读:56来源:国知局
一种纳米银层滚镀装置的制作方法

1.本实用新型涉及滚镀技术领域,具体为一种纳米银层滚镀装置。


背景技术:

2.滚镀严格意义上讲叫滚筒电镀,它是将一定数量的小零件置于专用滚筒内、在滚动状态下以间接导电的方式使零件表面沉积上各种金属或合金镀层、以达到表面防护装饰及各种功能性目的一种电镀加工方式。
3.现有技术如中国专利cn202020855099.4就涉及一种新型电镀滚镀装置,同样可以作为纳米银层滚镀,但是,上述专利在中的滚镀桶在镀液池中滚动时,液体会进行搅动,这样就极易导致镀液池内的液体到处飞溅,不仅会洒到工作人员身上,且液体落在地面上,还会影响工作环境,为此,需要进行改进。


技术实现要素:

4.针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种纳米银层滚镀装置,解决了背景技术中提到的问题。
5.为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种纳米银层滚镀装置,包括用于盛放电解液、方形设置的镀液池,且镀液池位于滚镀装置的下方,所述镀液池的四个侧壁顶部的交接处均固定有安装杆,且四个安装杆之间依次通过的四个挡布相连接,所述镀液池前后侧的两个挡布均由两个拼接布组成;
6.还包括收纳拼合机构,四个安装杆上均设置有收纳拼合机构,且四个拼接布分别安装在四个收纳拼合机构上,所述收纳拼合机构通过滑动的方式带动左右两个拼接布相对或者向背移动,以拼接成一整个挡布或者收纳在安装杆上。
7.如上述的纳米银层滚镀装置,其中,优选的是,所述收纳拼合机构包括设置在安装杆上的收纳组件和设置在安装杆外的拼合组件,且拼接布的两侧固定在收纳组件和拼合组件之间。
8.如上述的纳米银层滚镀装置,其中,优选的是,所述收纳组件包括呈竖直中空设置的安装杆,所述镀液池的顶部转动安装有转杆,且转杆位于安装杆内,所述转杆的顶端伸出安装杆,所述安装杆的侧面开设有豁口,且拼接布的一侧经豁口固定在转杆上。
9.如上述的纳米银层滚镀装置,其中,优选的是,所述拼合组件包括固定在拼接布另一侧的拼接板,且拼接板为磁铁板。
10.如上述的纳米银层滚镀装置,其中,优选的是,所述拼接板底端的前后侧均固定有直角板,且直角板的横板固定在拼接板上,两个直角板的竖板内侧向下延伸卡在镀液池的内壁上。
11.如上述的纳米银层滚镀装置,其中,优选的是,所述安装杆的横截面呈圆形设置,且拼接板靠近安装杆的一侧横截面呈弧形设置。
12.如上述的纳米银层滚镀装置,其中,优选的是,所述拼接板远离安装杆的一侧呈矩
形平面设置.
13.如上述的纳米银层滚镀装置,其中,优选的是,所述挡布为透明塑料纸。
14.本实用新型与现有技术相比具备以下有益效果:四个挡布的设置,对镀液池内的液体进行阻挡,防止飞溅,一是对工作人员进行保护,二是防止液体飞溅在地面上影响工作环境,最后,收纳拼合机构可以使得镀液池前后的两个挡布能够收纳自如,使用更加方便。
附图说明
15.图1为本实用新型的立体图;
16.图2为本实用新型图1中a处放大图;
17.图3为本实用新型图1中b处放大图;
18.图4为本实用新型的局部爆炸图;
19.图5为本实用新型安装杆的立体图一;
20.图6为本实用新型安装杆的立体图二;
21.图7为本实用新型镀液池侧视图的局部剖视图。
22.图中:1、镀液池;11、转杆;2、安装杆;21、豁口;3、挡布;31、拼接布;32、拼接板;33、直角板。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
24.请参阅图1

7,本实用新型提供一种技术方案:一种纳米银层滚镀装置,包括用于盛放电解液、方形设置的镀液池1,且镀液池1位于滚镀装置的下方,镀液池1的四个侧壁顶部的交接处均固定有安装杆2,且四个安装杆2之间依次通过的四个挡布3相连接,镀液池1前后侧的两个挡布3均由两个拼接布31组成;
25.还包括收纳拼合机构,四个安装杆2上均设置有收纳拼合机构,且四个拼接布31分别安装在四个收纳拼合机构上,收纳拼合机构通过滑动的方式带动左右两个拼接布31相对或者向背移动,以拼接成一整个挡布3或者收纳在安装杆2上。
26.收纳拼合机构包括设置在安装杆2上的收纳组件和设置在安装杆2外的拼合组件,且拼接布31的两侧固定在收纳组件和拼合组件之间。
27.收纳组件包括呈竖直中空设置的安装杆2,镀液池1的顶部转动安装有转杆11,且转杆11位于安装杆2内,转杆11的顶端伸出安装杆2,安装杆2的侧面开设有豁口21,且拼接布31的一侧经豁口21固定在转杆11上。
28.拼合组件包括固定在拼接布31另一侧的拼接板32,且拼接板32为磁铁板,拼合时,直接拉动两个拼接板32相对移动,由于转杆11转动安装在镀液池1,这样,就可以使得缠绕在转杆11上的拼接布31被解开,进而可以使得两个拼接板32能更顺利的进行相对移动,直至两个拼接板32进行吸合,实现对镀液池1内液体的阻挡,不需要对镀液池1内液体进行阻挡时,将两个拼接板32分开,转动转杆11,这样,就是的转杆11通过豁口21的作用,使得拼接
布31能更顺利的缠绕在转杆11上,进行收纳,拼接板32吸合在安装杆2上,减小占用空间。
29.拼接板32底端的前后侧均固定有直角板33,且直角板33的横板固定在拼接板32上,两个直角板33的竖板内侧向下延伸卡在镀液池1的内壁上,使得拼接板32在移动或者固定时更加稳定,不会在镀液池1的内壁上发生歪斜。
30.安装杆2的横截面呈圆形设置,且拼接板32靠近安装杆2的一侧横截面呈弧形设置,当拼接板32收纳进安装杆2内后,拼接板32能够吸合在安装杆2上,且接触面积更大,吸合更加稳定。
31.拼接板32远离安装杆2的一侧呈矩形平面设置,使得两个拼接板32拼合时,相互吸合的接触面积更大,使得吸合更加稳定。
32.挡布3为透明塑料纸,使得挡布3在对液体进行阻挡的同时,不影响对滚镀桶工作状态的观察。
33.需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
34.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征:
1.一种纳米银层滚镀装置,包括用于盛放电解液、方形设置的镀液池(1),且镀液池(1)位于滚镀装置的下方,其特征在于:所述镀液池(1)的四个侧壁顶部的交接处均固定有安装杆(2),且四个安装杆(2)之间依次通过的四个挡布(3)相连接,所述镀液池(1)前后侧的两个挡布(3)均由两个拼接布(31)组成;还包括收纳拼合机构,四个安装杆(2)上均设置有收纳拼合机构,且四个拼接布(31)分别安装在四个收纳拼合机构上,所述收纳拼合机构通过滑动的方式带动左右两个拼接布(31)相对或者向背移动,以拼接成一整个挡布(3)或者收纳在安装杆(2)上。2.根据权利要求1所述的一种纳米银层滚镀装置,其特征在于:所述收纳拼合机构包括设置在安装杆(2)上的收纳组件和设置在安装杆(2)外的拼合组件,且拼接布(31)的两侧固定在收纳组件和拼合组件之间。3.根据权利要求2所述的一种纳米银层滚镀装置,其特征在于:所述收纳组件包括呈竖直中空设置的安装杆(2),所述镀液池(1)的顶部转动安装有转杆(11),且转杆(11)位于安装杆(2)内,所述转杆(11)的顶端伸出安装杆(2),所述安装杆(2)的侧面开设有豁口(21),且拼接布(31)的一侧经豁口(21)固定在转杆(11)上。4.根据权利要求3所述的一种纳米银层滚镀装置,其特征在于:所述拼合组件包括固定在拼接布(31)另一侧的拼接板(32),且拼接板(32)为磁铁板。5.根据权利要求4所述的一种纳米银层滚镀装置,其特征在于:所述拼接板(32)底端的前后侧均固定有直角板(33),且直角板(33)的横板固定在拼接板(32)上,两个直角板(33)的竖板内侧向下延伸卡在镀液池(1)的内壁上。6.根据权利要求5所述的一种纳米银层滚镀装置,其特征在于:所述安装杆(2)的横截面呈圆形设置,且拼接板(32)靠近安装杆(2)的一侧横截面呈弧形设置。7.根据权利要求6所述的一种纳米银层滚镀装置,其特征在于:所述拼接板(32)远离安装杆(2)的一侧呈矩形平面设置。8.根据权利要求7所述的一种纳米银层滚镀装置,其特征在于:所述挡布(3)为透明塑料纸。

技术总结
本实用新型公开了一种纳米银层滚镀装置,涉及滚镀技术领域,包括用于盛放电解液、方形设置的镀液池,且镀液池位于滚镀装置的下方,所述镀液池的四个侧壁顶部的交接处均固定有安装杆,且四个安装杆之间依次通过的四个挡布相连接,所述镀液池前后侧的两个挡布均由两个拼接布组成;还包括收纳拼合机构,四个安装杆上均设置有收纳拼合机构,且四个拼接布分别安装在四个收纳拼合机构上;本实用新型四个挡布的设置,对镀液池内的液体进行阻挡,防止飞溅,一是对工作人员进行保护,二是防止液体飞溅在地面上影响工作环境,最后,收纳拼合机构可以使得镀液池前后的两个挡布能够收纳自如,使用更加方便。更加方便。更加方便。


技术研发人员:袁增 齐红敏 刘亚林
受保护的技术使用者:上海正银电子材料有限公司
技术研发日:2021.01.15
技术公布日:2021/9/14
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