一种表面修饰的异质结纳米阵列电极及其制备方法与应用

文档序号:36830928发布日期:2024-01-26 16:45阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种表面修饰的异质结纳米阵列电极的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于,步骤s1中,所述过渡金属盐的过渡金属选自ni、cu、co、zn、fe、mn、mo、zr、w、sc、ti、v、cr、y、nb、tc、cd中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于,步骤s1中,所述沉淀剂选自氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、碳酸钠、碳酸氢钠、尿素、六次甲基四胺、草酸钠中的至少一种。

4.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于,步骤s1中,所述集流体为碳布、碳纸或金属集流体。

5.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于,步骤s2中,所述热转换源物质为磷源、硫源、硒源或碲源。

6.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于,步骤s3中,所述硅烷偶联剂选自乙烯基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-脲基丙基三甲氧基硅烷、环氧丁基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、9-蒽基三甲氧基硅烷、正癸基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、5-溴戊基三甲氧基硅烷、正癸基三氯硅烷、1h,1h,2h,2h-全氟癸基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。

7.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于,步骤s3中,所述接枝修饰的温度为25~150℃。

8.权利要求1~7任一所述制备方法制备得到的表面修饰的异质结纳米阵列电极。

9.权利要求8所述表面修饰的异质结纳米阵列电极在有机电合成反应中的应用。

10.根据权利要求9所述应用,其特征在于,所述有机电合成反应包括有机醇、醛、酮、胺的电氧化反应,和/或硝基化合物、羰基化合物、不饱和碳氢化合物的电还原反应。


技术总结
本发明属于有机电合成电极材料技术领域,具体涉及一种表面修饰的异质结纳米阵列电极及制备方法与应用。本发明以集流体为载体,经溶剂热反应原位生长纳米阵列前驱体,之后经高温气固化学转化和后续硅烷偶联剂接枝修饰,得到表面修饰的异质结纳米阵列电极材料。材料中异质界面的构筑可调控优化催化中心的电子结构,提高催化活性;同时,表面修饰的有机基团片段有利于有机底物在催化材料表面的富集,从而强化有机电合成过程中有机底物的质量传递。所得的表面修饰的异质结纳米阵列电极应用于系列有机电合成反应可表现出高传质效率和优异催化活性。

技术研发人员:李萍,黄蕖骅,胡新词,蒋志泓,黄钰淇,杨玉婷,杨含
受保护的技术使用者:中山大学
技术研发日:
技术公布日:2024/1/25
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