用于电解参数的测量方法及装置、测量系统

本技术涉及电解参数测量，例如涉及一种用于电解参数的测量方法及装置、测量系统。

背景技术：

1、目前，电解铝生产过程中，电解参数中的铝水平和电解质水平是电解槽生产管理的重要参数。因此，如何真实、有效地获得电解质水平和铝水平的数据是电解槽智能化管理的前提。

2、相关技术中，通常通过驱动测量机构将测量钎伸入到电解质和铝液中停留一定时长，然后在测量钎收回过程中，通过机器视觉检测的方式识别测量钎上的颜色差别，解算测量钎的铝水平和电解质水平等参数。

3、在实现本公开实施例的过程中，发现相关技术中至少存在以下问题：

4、采用相关技术的方案，经常会出现解算出的铝水平和电解质水平与实际的铝水平和电解质水平误差较大的情况，测量出的铝水平和电解质水平的准确性较低。

技术实现思路

1、为了对披露的实施例的一些方面有基本的理解，下面给出了简单的概括。所述概括不是泛泛评述，也不是要确定关键/重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围，而是作为后面的详细说明的序言。

2、本公开实施例提供了一种用于电解参数的测量方法及装置、测量系统，可以提高测量铝水平和电解质水平的准确性。

3、在一些实施例中，用于测量电解参数的方法，应用于测量系统，测量系统包括测量机构和图像识别装置，测量机构包括测量钎，图像识别装置用于获取测量钎采样段的图像信息，方法包括：在测量钎伸入目标电解槽进行采样的情况下，获取测量机构的姿态信息、测量钎与目标电解槽的相对位置信息；根据相对位置信息，确定电解参数的目标解算方式；在测量钎完成采样的情况下，获取测量钎的采样段的图像信息；根据姿态信息和目标解算方式，对图像信息进行分析，得到电解参数。

4、可选地，根据相对位置信息，确定电解参数的目标解算方式，包括：在相对位置信息为第一位置信息的情况下，以第一预设算法作为目标解算方式；在相对位置信息为第二位置信息的情况下，以第二预设算法作为目标解算方式；其中，第一位置信息为测量钎与目标电解槽的底部未接触的情况，第二位置信息为测量钎与目标电解槽的底部接触的情况。

5、可选地，获取测量钎与目标电解槽的相对位置信息的步骤包括：在测量钎停止滑动的情况下，获取测量钎的滑动行程；在滑动行程等于测量钎的最大滑动行程的情况下，确定测量钎与目标电解槽的相对位置信息为第一位置信息；在滑动行程小于测量钎的最大滑动行程的情况下，确定测量钎与目标电解槽的相对位置信息为第二位置信息。

6、可选地，对图像信息进行分析的步骤，包括：识别图像信息中的测量钎；获取测量钎位于电解液层的第一长度和位于铝液层的第二长度。

7、可选地，测量系统还包括测量支架，测量机构可转动的设置于测量支架；姿态信息包括测量钎与水平面的夹角θ，目标解算方式包括第一预设算法，根据姿态信息和目标解算方式，对图像信息进行分析，得到电解参数的步骤包括：获取测量机构的高度信息，高度信息包括：回转中心高度h，h为测量机构相对于测量支架的转动中心与目标电解槽的底部的距离；获取测量钎的位置信息，位置信息包括：采样时测量机构相对于测量支架的转动中心与测量钎末端的第三长度；按照第一预设算法的公式计算电解参数：

8、h1＝h+(l2-l3)×sinθ

9、h2＝l1×sinθ

10、其中，h1为铝水平，h2为电解质水平，l1为第一长度，l2为第二长度，l3为第三长度。

11、可选地，按照如下公式计算回转中心高度h：

12、h＝(h1+h2+h3)

13、其中，h1为目标电解槽上预设参考点与目标电解槽底部的竖直距离，h2为测量系统的点位识别装置与目标电解槽上预设参考点的竖直距离，h3为测量机构相对于测量支架的转动中心与点位识别装置的竖直距离。

14、可选地，测量系统还包括测量支架，测量机构可转动的设置于测量支架；姿态信息包括测量钎与水平面的夹角θ，目标解算方式包括第二预设算法，根据姿态信息和目标解算方式，对图像信息进行分析，得到电解参数的步骤包括：按照第二预设算法的公式计算电解参数：

15、h1＝l2×sinθ

16、h2＝l1×sinθ

17、其中，h1为铝水平，h2为电解质水平，l1为第一长度，l2为第二长度。

18、可选地，在测量钎完成采样的情况下，获取测量钎的采样段的图像信息的步骤包括：控制测量钎返回初始位置；将测量钎的采样段调节至图像识别装置的拍摄范围内，控制图像识别装置获取图像信息。

19、可选地，测量系统还包括去除机构，去除机构包括去除支架和冲击部，冲击部能够相对去除支架运动，方法还包括：在测量钎返回初始位置后，控制冲击部运动，以使冲击部与测量钎相接触。

20、可选地，测量系统还包括测量支架测量机构可转动的设置于测量支架；测量钎伸入目标电解槽进行采样的步骤包括：在测量系统处于目标电解槽对应的目标位置的情况下，，识别目标电解槽上的目标炉孔位置；根据目标炉孔位置控制测量支架相对目标电解槽移动，控制测量机构相对测量支架转动，以使测量钎对准目标炉孔位置，并使测量钎通过炉孔伸入至目标电解槽进行采样。

21、可选地，使测量钎伸入至炉孔进行采样，包括：将测量钎的采样段预热至设定温度后，控制测量钎穿过炉孔伸入至目标电解槽；在测量钎停止伸入动作后，控制测量钎在目标电解槽内停留设定时长完成采样。

22、可选地，在控制测量钎穿过炉孔伸入至目标电解槽之前，还包括：获取测量钎的性能参数；根据预设的对应关系，确定与性能参数对应的设定时长；其中，性能参数包括测量钎的尺寸参数、导热参数和温度参数中的一种或者多种。

23、可选地，测量系统还包括移动机构，测量支架可移动的设置于移动机构；在识别目标电解槽上的目标炉孔位置之前，测量方法还包括：控制移动机构移动至目标电解槽对应的目标位置。

24、可选地，根据目标炉孔位置控制测量支架相对目标电解槽移动的步骤包括：根据目标炉孔位置控制测量支架在移动机构上移动，以使测量支架相对目标电解槽移动。

25、在一些实施例中，用于电解参数的测量装置，应用于测量系统，测量系统包括测量机构和图像识别装置，测量机构包括测量钎，图像识别装置用于获取测量钎采样段的图像信息，测量装置包括：获取模块，被配置为在测量钎伸入目标电解槽进行采样的情况下，获取测量机构的姿态信息、测量钎与目标电解槽的相对位置信息；确定模块，被配置为根据相对位置信息，确定电解参数的目标解算方式；获取模块还被配置为在测量钎完成采样的情况下，获取测量钎的采样段的图像信息；解算模块，被配置为根据姿态信息和目标解算方式，对图像信息进行分析，得到电解参数。

26、在一些实施例中，用于电解参数的测量装置，包括处理器和存储有程序指令的存储器，所述处理器被配置为执行如上述的用于电解参数的测量方法。

27、在一些实施例中，测量系统包括：测量机构和图像识别装置，测量机构包括测量钎，图像识别装置用于获取测量钎采样段的图像信息；测量系统还包括：如上述的用于电解参数的测量装置。

28、本公开实施例提供的用于电解参数的测量方法及装置、测量系统，可以实现以下技术效果：

29、本公开实施例中，通过研究发现，相关技术中测量的铝水平和电解质水平与实际的铝水平和电解质水平误差较大的原因为：电解槽的底部距离地面高度存在不同，而测量钎在通过电解槽上的炉孔伸入至电解质液和铝液时，测量钎长度是一定的，这会导致存在测量钎未接触到电解槽底部的情况。所以，采用相关技术测量出的铝水平和电解质水平的误差可能较大。

30、因此，本公开实施例中，控制测量钎滑入目标电解槽的炉孔进行采样时，会获取测量钎的姿态信息，以及测量钎与目标电解槽的相对位置信息。然后会根据相对位置信息确定出目标解算方式。在采集完测量钎的采样段的图像信息之后，会根据测量钎的姿态信息以及目标解算方式，对图像信息进行分析，获得电解参数(电解质水平和铝水平)。这样，使得解算铝水平和电解质水平所采用的方式与测量钎与目标电解槽的相对位置信息对应，提高了测量出的电解质水平和铝水平的准确性。

31、以上的总体描述和下文中的描述仅是示例性和解释性的，不用于限制本技术。