一种干式钻机孔口循环降尘装置的制作方法

文档序号:18317022发布日期:2019-07-31 22:04阅读:116来源:国知局
一种干式钻机孔口循环降尘装置的制作方法

本实用新型涉矿井降尘技术领域,尤其是一种干式钻机孔口循环降尘装置。



背景技术:

在煤矿井下施工中,钻机是必不可少的设备,在干式钻机施工钻进的过程中孔口处会产生大量的粉尘,不仅威胁井下人员身体健康,并且当粉尘浓度过高时容易产生爆炸,还可能造成安全隐患。因此需要对钻口处产生的粉尘进行降尘处理,目前井下所使用的降尘措施多为孔口喷雾降尘,但在实际的应用过程中存在以下问题:喷雾降尘只能,消除孔口一部分粉尘,降尘不彻底,会产生浮尘,降尘后的水渣没有进行处理,堆积在孔口可能造成孔口堵塞,降尘过程需要大量的水,且没有再次利用,会造成大量水资源的浪费。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种矿井抽采钻机孔口循环降尘装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:设计一种干式钻机孔口循环降尘装置,包括捕尘器、排渣管、水渣分离箱、水泵、水管,捕尘器整体嵌入煤层钻孔孔口处,捕尘器分为两部分:上方内壁设有螺纹喷嘴,沿水平方向布置,螺纹喷嘴通过螺纹固定在捕尘器内壁上,喷嘴上方为水腔,水腔外连水管,捕尘器下方设有倾斜的导流槽,在导流槽末端另设有雾化喷管,排渣管设置在雾化喷管下方,排渣管下方设置有水渣分离箱,捕尘器与水渣分离箱通过排渣管相连,水渣分离箱内右上方设有过滤网,过滤网下方有排渣口,水渣分离箱左上方外接进水管,水渣分离箱左下方设有水泵,水泵外接水管,水管又与螺纹喷嘴和雾化喷管相连,整个装置形成回路,水渣分离箱设置在钻机机体上。

优选的,所述捕尘器内设有导流槽。

优选的,所述捕尘器内设螺纹喷嘴和雾化喷管,二者结合使用,可实现二次降尘。

优选的,所述水渣分离箱内设有过滤网,过滤网下方设置有排渣口。

优选的,所述水渣分离箱内设有水泵和进水管,可实现排渣水循环使用。

一种干式钻机孔口循环降尘装置,有益效果在于:捕尘器内上方设置有螺旋喷嘴,进行降尘,下方又设置有雾化喷管,可进行二次降尘,进一步提高了降尘效果,保证了降尘过程中产生的浮尘不会通过排渣管溢出,保证了井下作业人员的工作环境,水渣分离箱对排渣水进行过滤后,可实现对排渣水的循环利用,节省了水源,有较好经济效益;水渣分离箱设置在钻机机体上,可随钻机移动,使用方便。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的捕尘器结构示意图。

图3为本实用新型的螺纹喷嘴结构示意图。

图中:捕尘器1、水腔2、螺纹喷嘴3、钻杆4、导流槽5、雾化喷管6、排渣管7、排渣口8、水渣分离箱9、钻机10、过滤网11、进水管12、水泵13、水管14、螺纹15、螺纹喷嘴腔体16、螺纹喷嘴头17。

具体实施方式

下面将结合本实用新型中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-3,一种干式钻机孔口循环降尘装置,包括捕尘器1、排渣管7、水渣分离箱9、水泵13、水管14,捕尘器1整体嵌入煤层钻孔孔口处,捕尘器1分为两部分,上方内壁设有螺纹喷嘴3,沿水平方向布置,螺纹喷嘴3通过螺纹15固定在捕尘器1内壁上,喷嘴上方为水腔2,水腔2外连水管14,捕尘器1下方设有倾斜的导流槽5,在导流槽5末端下方另设有雾化喷管6,排渣管7设置在雾化喷管6下方,排渣管7下方设置有水渣分离箱9,捕尘器7与水渣分离箱9通过排渣管7相连,水渣分离箱9内右上方设有过滤网11,过滤网下方有排渣口8,水渣分离箱9左上方外接进水管12,水渣分离箱9左下方设有水泵13,水泵13外接水管14,水管14又与螺纹喷嘴3和雾化喷管6相连,整个装置形成回路,水渣分离箱9设置在钻机10机体上。

在钻杆钻进前,将捕尘器1送入孔口位置,开始钻进时,开启水泵13,水渣分离箱9内的水通过水管14输送到补尘器1处,进入捕尘器1上部的水通过水腔2进入螺纹喷嘴3流经螺纹喷嘴内部腔体16在螺纹喷嘴头17处喷出形成水雾进行降尘,降尘过程中形成的水渣,通过捕尘器1下方倾斜的导流槽5流入排渣管7,排渣管7上方的雾化喷管6进行二次雾化降尘,保证了捕尘器1内的粉尘不会通过排渣管7溢出,水渣通过排渣管7再次进入水渣分离箱9内,水渣分离箱9内的过滤网11对水渣进行过滤,防止水泵14堵塞,过滤后的水渣可以通过过滤网下方的排渣口8排出,当水渣分离箱9的水不足时可以通过上方的进水管12加水;捕尘器1和螺纹喷嘴3通过螺纹15连接,当螺纹喷嘴3生堵塞和损坏时,可以进行更换,水渣分离箱9体设置在钻机10上,整个装置可根据井下钻孔的位置随钻机移动,使用方便。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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