1.一种具有阳极处理层的离心离合器，包含：
一壳体单元，包括一内盘、一罩设该内盘的外盘、及一由该内盘及该外盘所界定出的环设空间；
一摩擦单元，包括多个相间隔地设置于该壳体单元的环设空间内的摩擦板；其特征在于：
一驱动单元，包括一位于该环设空间内且形成有多个容置空间的基座、及多个分别容置于该等容置空间内的滚动件，每一滚动件具有一可滚动地设置于相对应容置空间内的转子、及一穿设该转子的插销，每一滚动件可沿相对应容置空间在一抵迫位置与一非抵迫位置间滚动，在该抵迫位置时，该滚动件的转子是抵迫该摩擦单元，使该等摩擦板相互抵靠，在该非抵迫位置时，该等摩擦板是不相互抵靠；及
多个阳极处理层，披覆于该驱动单元的基座上，并分别与该等滚动件滚动接触。
2.如权利要求1所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，该驱动单元的每一滚动件还具有一沿轴向贯通该插销的通孔。
3.如权利要求2所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，该驱动单元的基座具有一设置于该壳体单元的外盘上的底壁部、及多个间隔环列设置于该底壁部上的导引壁部，每一容置空间是由该底壁部及两相邻导引壁部相配合界定出。
4.如权利要求3所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，该基座的每一导引壁部具有一遮挡段、及两个分别设置于该遮挡段的两相反侧且向外倾斜延伸的倾斜段。
5.如权利要求4所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，该等阳极处理层是分别设置于该等导引壁部的该等倾斜段上，每一滚 动件的插销是与相对应阳极处理层滚动接触。
6.如权利要求5所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，每一滚动件的转子是与该基座的底壁部相间隔。
7.如权利要求1所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，每一滚动件的转子是可相对于该插销转动。
8.如权利要求1所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，该驱动单元的基座具有一设置于该壳体单元的内盘上的底壁部、及多个间隔环列设置于该底壁部上的导引壁部，每一容置空间是由该底壁部及两相邻导引壁部相配合界定出。
9.一种具有阳极处理层的离心离合器，包含：
一壳体单元，包括一内盘、一罩设该内盘的外盘、及一由该内盘及该外盘所界定出的环设空间；其特征在于：
一摩擦单元，包括多个相间隔地设置于该环设空间内的摩擦板，该等摩擦板是以铝材制成；
一驱动单元，包括一位于该环设空间内且形成有多个容置空间的基座、及多个分别容置于该等容置空间内的滚动件，每一滚动件具有一可滚动地设置于相对应容置空间内的转子、及一穿设该转子的插销；及
一阳极处理层，披覆于该摩擦单元上，每一滚动件可沿相对应容置空间在一抵迫位置与一非抵迫位置间滚动，在该抵迫位置时，该滚动件的转子是抵迫该阳极处理层，并使该等摩擦板相互抵靠，在该非抵迫位置时，该滚动件是不抵迫该阳极处理层，使该等摩擦板不相互抵靠。
10.一种具有阳极处理层的离心离合器，包含：
一壳体单元，包括一内盘、一罩设该内盘的外盘、及一由该内盘 及该外盘所界定出的环设空间；其特征在于：
一摩擦单元，包括多个相间隔地设置于该环设空间内的摩擦板，该等摩擦板是以铝材制成；
一驱动单元，包括一位于该环设空间内且形成有多个容置空间并以铝材制成的基座、及多个分别容置于该等容置空间内的滚动件，每一滚动件具有一可滚动地设置于相对应容置空间内的转子、及一穿设该转子的插销；及
多个阳极处理层，分别披覆于该驱动单元的基座上、及该摩擦单元上，披覆于该基座上的该等阳极处理层是分别与该等滚动件滚动接触，每一滚动件可沿相对应容置空间在一抵迫位置与一非抵迫位置间滚动，在该抵迫位置时，该滚动件的转子是抵迫相对应阳极处理层，使该等摩擦板相互抵靠，在该非抵迫位置时，该滚动件是不抵迫该阳极处理层，使该等摩擦板不相互抵靠。
11.如权利要求1、9和10中任一所述具有阳极处理层的离心离合器，其特征在于，该摩擦单元还包括一底座、及一与该底座相间隔设置的顶座，该等摩擦板是设置于该底座及该顶座之间，且间隔设置于该壳体单元的该内盘及该外盘上。