一种运动时稳定性能不变的密封圈的制作方法

本实用新型涉及一种运动时稳定性能不变的密封圈，属于机械工程领域。

背景技术：

密封圈是由一个或几个零件组成的环形罩，固定在轴承的一个套圈或垫圈上并与另一套圈或垫圈接触或形成窄的迷宫间隙，防止润滑油漏出及外物侵入。密封圈现在不仅仅用在工业领域，在其他领域也有广泛的应用，其广泛的应用在两个往返运动或静止的物体之间的密封过程中。

密封圈在对物体进行密封时，当被密封物体发生倾斜或运动等状况下，其密封性能会比正常状态大大降低甚至失去密封性能，而且一般无法承受高压状态。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是针对以上不足，提供一种运动时稳定性能不变的密封圈，具有被密封物发生运动时能够保持良好的密封性、被密封物发生倾斜等现象时仍可保持良好的密封性和具有很好的抗压性能的优点。

为解决以上技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

一种运动时稳定性能不变的密封圈，包括第一密封环，所述第一密封环包括上环体和下环体；

所述上环体上设有若干条第一沟槽；

所述第一沟槽的槽底呈波状；

所述第一沟槽的槽底处设有若干个凹陷和若干个凸起；

所述凹陷呈圆弧状；

所述凸起呈圆弧状；

所述凹陷的弧形成的圆的半径小于凸起的弧形成的圆的半径；

所述相邻的凹陷和凸起的弧形成的圆相切；

所述下环体上设有第二沟槽，第二沟槽呈波形环状；

所述第二沟槽的截面形状为长方形；

所述第二沟槽上设有三个远点和三个近点；

所述远点设在远离下环体轴线的一端；

所述近点设在靠近下环体轴线的一端；

所述远点和距离最远的近点沿下环体的轴线对称分布。

以下是对上述方案的进一步优化：

所述若干条第一沟槽均匀分布在上环体的外表面；

所述第一沟槽为环形槽；

所述第一沟槽的截面呈长方形；

所述第一沟槽的轴线与上环体的轴线重合；

所述上环体的外部套接有第二密封环；

所述第二密封环的外径与下环体的外径相等；

所述第二密封环的外径大于上环体的外径。

所述第二密封环的内表面上设有若干组定位装置；

所述若干组定位装置与若干条第一沟槽一一对应；

所述定位装置包括四个第一定位块；

所述四个第一定位块呈十字状分布；

所述第一定位块的形状为半椭圆球；

所述第一定位块的短轴长度与第一沟槽的槽宽相等；

所述第一定位块的长度与凹陷处的槽深相等。

所述第二密封环的下表面上设有两个第二定位块；

所述两个第二定位块沿第二密封环的轴线对称分布；

所述第二定位块的形状为半椭圆形；

所述第二定位块插入到第二沟槽中；

所述第二定位块的长度与第二沟槽的槽深相等。

本实用新型的创新点及意义为：本实用新型装置可用于对物体的密封，尤其是对被密封物发生运动时能够保持良好的密封性，密封性能提高70%以上；在被密封物发生倾斜等现象时仍可保持良好的密封性；具有很好的抗压性能，抗压性能提高20%以上。

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细说明。

附图说明

附图1是本实用新型装置的结构示意图；

附图2是附图1的A-A剖视图；

附图3是第一密封环沿第一沟槽的槽底所在平面为截面的剖视图；

图中，

1-第一密封环，2-第二密封环，3-下环体，4-上环体，5-第一沟槽，6-第一定位块，7-凹陷，8-凸起，9-第二沟槽，10-远点，11-近点，12-第二定位块。

具体实施方式

实施例，如附图1、附图2、附图3所示，一种运动时稳定性能不变的密封圈，包括第一密封环1，第一密封环1包括下环体3和上环体4；

下环体3的外径大于上环体4的外径；

上环体4的外部套接有第二密封环2；

第二密封环2的外径与下环体3的外径相等。

上环体4上设有若干条第一沟槽5；

若干条第一沟槽5均匀分布在上环体4的外表面；

第一沟槽5为环形槽；

第一沟槽5的轴线与上环体4的轴线重合；

第一沟槽5的截面呈长方形；

第一沟槽5的槽底呈波状；

第一沟槽5的槽底处设有若干个凹陷7和若干个凸起8；

凹陷7和凸起8的数量相等；

凹陷7呈圆弧状；

凸起8呈圆弧状；

凹陷7的弧形成的圆的半径小于凸起8的弧形成的圆的半径；

相邻的凹陷7和凸起8的弧形成的圆相切。

下环体3上设有第二沟槽9，第二沟槽9呈波形环状；

第二沟槽9的截面形状为长方形；

第二沟槽9上设有三个远点10和三个近点11；

远点10设在远离下环体3轴线的一端；

近点11设在靠近下环体3轴线的一端；

远点10和距离最远的近点11沿下环体3的轴线对称分布。

第二密封环2的内表面上设有若干组定位装置；

若干组定位装置与若干条第一沟槽5一一对应；

定位装置包括四个第一定位块6；

四个第一定位块6呈十字状分布；

第一定位块6的形状为半椭圆球；

第一定位块6的短轴长度与第一沟槽5的槽宽相等；

第一定位块6的长度与凹陷7处的槽深相等。

第二密封环2的下表面上设有两个第二定位块12；

两个第二定位块12沿第二密封环2的轴线对称分布；

第二定位块12的形状为半椭圆形；

第二定位块12插入到第二沟槽9中；

第二定位块12的长度与第二沟槽9的槽深相等。

本实用新型装置可用于对物体的密封，尤其是对被密封物发生运动时能够保持良好的密封性，密封性能提高70%以上；在被密封物发生倾斜等现象时仍可保持良好的密封性；具有很好的抗压性能，抗压性能提高20%以上。

以上所述为本实用新型最佳实施方式的举例，其中未详细述及的部分均为本领域普通技术人员的公知常识。本实用新型的保护范围以权利要求的内容为准，任何基于本实用新型的技术启示而进行的等效变换，也在本实用新型的保护范围之内。