一种高纯硅烷灌装设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种高纯硅烷灌装设备，包括灌装座体，所述灌装座体底部设置有配量瓶传送机构；所述灌装座体于配量瓶传送机构上方设置有多个升降机构；所述升降机构顶部安装有六通电磁阀；所述六通电磁阀其四端通过随动管分别安装一长嘴灌装阀；所述长嘴灌装阀固定于升降机构上；所述六通电磁阀其剩余两端分别接进气管和出气管；所述进气管连接到纯化装置输出端；所述出气管连接到纯化装置输入端；所述进气管上依次设置有第一进气阀、计量腔和第二进气阀。本实用新型的高纯硅烷灌装设备，其在灌装前及单个长嘴灌装阀完成灌装后，能够进行抽真空处理，灌装前通过计量腔完成灌装前定量检测，保证灌装精度，灌装时通过多个长嘴灌装阀循环灌装。
【专利说明】
一种高纯硅烷灌装设备
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及一种高纯硅烷加工设备，具体涉及一种高纯硅烷灌装设备，属于高纯硅烷生产线组件技术领域。【背景技术】
[0002]电子化学气体是电子工业中超大规模集成电路微细加工过程中的关键性基础化工材料，主要用于外延、刻蚀和腐蚀等工艺；电子化学气和高纯气的纯度和洁净直接影响集成电路的成品率和可靠性;瓶装高纯气体在输送过程中仍会产生污染，使气体的纯度降低，这对于某些领域是不允许的，如单晶硅的拉制，半导体、大规模集成电路的研制和生产等;硅烷生产与产品包装的质量至关重要，必须控制对电子厂工艺影响的每一个环节；中国专利申请号，201520003887.X，公开了一种硅烷纯化装置和灌装系统，纯化装置包括冷阱和密封罐体，密封罐体置于冷阱中，冷阱上部设有液氮入口和热水入口，底部设有液氮出口和热水出口；密封罐体顶部设有进管和出管;密封罐体内部装有纯化剂，在密封罐体内部上方留有气体容置空间；灌装系统包括上述纯化装置、高纯原料气源、配气瓶、液氮循环系统和热水循环系统，高纯原料气源经过第一开关阀连接至进管，配气瓶经过第二开关阀连接至出管，出管还与第三开关阀连接，第三开关阀连接真空与排空系统;上述灌装系统虽然在输入端设置有纯化装置，但其在灌装时，容易因为灌装管中有空气影响其纯度，同时其灌装精度和灌装效率都比较低。【实用新型内容】
[0003]为解决上述问题，本实用新型提出了一种高纯硅烷灌装设备，其在灌装前能够完成抽真空处理，工作时通过多个灌装头循环灌装，灌装前通过计量腔完成灌装前定量检测。
[0004]本实用新型的高纯硅烷灌装设备，包括灌装座体，所述灌装座体底部设置有配量瓶传送机构;通过配量瓶传送机构将待灌装的空瓶送入灌装座体;所述灌装座体于配量瓶传送机构上方设置有多个升降机构;所述升降机构顶部安装有六通电磁阀；所述六通电磁阀其四端通过随动管分别安装一长嘴灌装阀；所述长嘴灌装阀固定于升降机构上;所述六通电磁阀其剩余两端分别接进气管和出气管;所述进气管连接到纯化装置输出端;所述出气管连接到纯化装置输入端;所述进气管上依次设置有第一进气阀、计量腔和第二进气阀； 所述出气管上安装有出气阀；通过升降机构将一长嘴灌装阀送至待灌装处;接着长嘴灌装阀压入配量瓶;长嘴灌装阀嵌入到配量瓶后，其头部由于压力，将充气口直接打开;接着通过出气管将多余的高纯硅烷送至纯化入口；接着闭合出气阀和打开第一进气阀，当计量腔达到要求后，打开第二进气阀，同时，通过升降机构将另一长嘴灌装阀送至待灌装处;完成灌装后直接拔出即可。
[0005]进一步地，所述配量瓶传送机构包括主动轮和从动轮;所述主动轮和从动轮上安装有传送带;所述传送带上安装有配量瓶定位座。
[0006]进一步地，所述升降机构由气动缸构成。
[0007]进一步地，所述长嘴灌装阀包括阀体;所述阀体后侧设置有密封件;所述阀体边侧设置有进气口；所述阀体底部设置有出气口；所述出气口上设置有压迫式出气嘴。
[0008]本实用新型与现有技术相比较，本实用新型的高纯硅烷灌装设备，其在灌装前及单个长嘴灌装阀完成灌装后，能够进行抽真空处理，灌装前通过计量腔完成灌装前定量检测，保证灌装精度，灌装时通过多个长嘴灌装阀循环灌装。【附图说明】
[0009]图1是本实用新型的整体结构示意图。【具体实施方式】
[0010]如图1所示的高纯硅烷灌装设备，包括灌装座体1，所述灌装座体1底部设置有配量瓶传送机构2;通过配量瓶传送机构2将待灌装的空瓶送入灌装座体1;所述灌装座体1于配量瓶传送机构2上方设置有多个升降机构3;所述升降机构3顶部安装有六通电磁阀4;所述六通电磁阀4其四端通过随动管分别安装一长嘴灌装阀5;所述长嘴灌装阀5固定于升降机构3上;所述六通电磁阀4其剩余两端分别接进气管6和出气管7;所述进气管6连接到纯化装置(未图示)输出端;所述出气管7连接到纯化装置输入端;所述进气管6上依次设置有第一进气阀8、计量腔9和第二进气阀10;所述出气管7上安装有出气阀11;通过升降机构3将一长嘴灌装阀5送至待灌装处;接着长嘴灌装阀5压入配量瓶;长嘴灌装阀5嵌入到配量瓶后，其头部由于压力，将充气口直接打开;接着通过出气管将多余的高纯硅烷送至纯化入口；接着闭合出气阀和打开第一进气阀8,当计量腔达到要求后，打开第二进气阀10,同时，通过升降机构3将另一长嘴灌装阀5送至待灌装处;完成灌装后直接拔出即可。
[0011]所述配量瓶传送机构2包括主动轮12和从动轮13;所述主动轮12和从动轮13上安装有传送带18;所述传送带18上安装有配量瓶定位座19。[〇〇12]所述升降机构3由气动缸构成。
[0013]所述长嘴灌装阀5包括阀体14;所述阀体14后侧设置有密封件15;所述阀体14边侧设置有进气口 16;所述阀体14底部设置有出气口；所述出气口上设置有压迫式出气嘴17。 [〇〇14]以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
【主权项】
1.一种高纯硅烷灌装设备，其特征在于:包括灌装座体，所述灌装座体底部设置有配量 瓶传送机构;所述灌装座体于配量瓶传送机构上方设置有多个升降机构;所述升降机构顶 部安装有六通电磁阀；所述六通电磁阀其四端通过随动管分别安装一长嘴灌装阀；所述长 嘴灌装阀固定于升降机构上;所述六通电磁阀其剩余两端分别接进气管和出气管;所述进 气管连接到纯化装置输出端;所述出气管连接到纯化装置输入端;所述进气管上依次设置 有第一进气阀、计量腔和第二进气阀;所述出气管上安装有出气阀。2.根据权利要求1所述的高纯硅烷灌装设备，其特征在于:所述配量瓶传送机构包括主 动轮和从动轮;所述主动轮和从动轮上安装有传送带;所述传送带上安装有配量瓶定位座。3.根据权利要求1所述的高纯硅烷灌装设备，其特征在于:所述升降机构由气动缸构 成。4.根据权利要求1所述的高纯硅烷灌装设备，其特征在于:所述长嘴灌装阀包括阀体； 所述阀体后侧设置有密封件;所述阀体边侧设置有进气口；所述阀体底部设置有出气口；所 述出气口上设置有压迫式出气嘴。
【文档编号】F17C5/06GK205690065SQ201620551339
【公开日】2016年11月16日
【申请日】2016年6月9日 公开号201620551339.5, CN 201620551339, CN 205690065 U, CN 205690065U, CN-U-205690065, CN201620551339, CN201620551339.5, CN205690065 U, CN205690065U
【发明人】戴文良
【申请人】戴文良